맞춤기술찾기

이전대상기술

자연산화막 제거가스를 이용한 저온 침탄처리방법

  • 기술번호 : KST2020004572
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 자연산화막 제거가스를 이용한 저온 침탄처리방법은, 대상금속에 전처리를 수행하는 (a)단계, 상기 대상금속을 반응챔버에 투입하고, 설정온도로 승온시키는 (b)단계 및 상기 반응챔버를 진공 분위기로 형성하고, 적어도 탄화수소가스를 포함하는 반응가스를 공급하여 침탄을 수행하는 (c)단계를 포함하며, 상기 (a)단계는, 상기 대상금속에 자연산화막 제거가스를 공급하여 상기 대상금속의 응력을 완화시키고, 자연산화막과 대상금속의 결합력을 약화시키도록 한다.
Int. CL C23C 8/02 (2006.01.01) C23G 5/00 (2006.01.01) C23C 8/20 (2006.01.01) C23C 8/22 (2006.01.01) C25F 3/24 (2006.01.01) C23G 1/32 (2006.01.01)
CPC C23C 8/02(2013.01) C23C 8/02(2013.01) C23C 8/02(2013.01) C23C 8/02(2013.01) C23C 8/02(2013.01) C23C 8/02(2013.01) C23C 8/02(2013.01)
출원번호/일자 1020180132407 (2018.10.31)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0049306 (2020.05.08) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.10.31)
심사청구항수 16

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김준호 경상남도 양산시
2 김선광 경상남도 양산시
3 박인욱 부산광역시 해운대구
4 송영하 부산광역시 금정구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 고영갑 대한민국 경기도 성남시 분당구 정자일로 ***, 파크뷰 타워 ***호 (정자동)(가람특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 충청남도 천안시 서북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.10.31 수리 (Accepted) 1-1-2018-1080639-66
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.07.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.08.08 수리 (Accepted) 9-1-2019-0036601-20
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.05.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0358573-10
5 [지정기간연장]기간 연장신청서·기간 단축신청서·기간 경과 구제신청서·절차 계속신청서
2020.07.27 수리 (Accepted) 1-1-2020-0783576-57
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.08.25 수리 (Accepted) 1-1-2020-0891671-42
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.08.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0891677-15
8 등록결정서
Decision to grant
2020.12.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0837863-03
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
대상금속에 전처리를 수행하는 (a)단계;상기 대상금속을 반응챔버에 투입하고, 설정온도로 승온시키는 (b)단계; 및상기 반응챔버를 진공 분위기로 형성하고, 적어도 탄화수소가스를 포함하는 반응가스를 공급하여 침탄을 수행하는 (c)단계;를 포함하며,상기 (a)단계는,상기 대상금속에 자연산화막 제거가스를 공급하여 상기 대상금속의 응력을 완화시키고, 자연산화막과 대상금속의 결합력을 약화시키도록 하고,상기 (c)단계는,침탄을 수행하는 과정 중 복수의 침탄 공정조건들 간 관계를 고려한 기 설정된 기준 임계값 이하로 상기 탄화수소가스를 공급하도록 하되, 상기 탄화수소가스가 온도에 따른 탄화수소가스 분해율과 무관하게 상기 대상금속을 침탄할 수 있는 유량으로 공급되도록 하고,상기 복수의 침탄 공정조건은, 상기 반응가스 중 상기 탄화수소가스의 상대유량, 침탄 처리시간, 공정압력, 공정온도를 포함하며,상기 기준 임계값은 상기 복수의 공정 조건 간 곱연산인,(α: 탄화수소가스의 상대유량, SLM: Standard Liter per Minute, t: 공정시간, p: 공정압력 exp(-ΔG/RT): 평형상수)의 수식을 통해 도출된 1
2 2
제1항에 있어서,상기 자연산화막 제거가스는 상기 반응가스보다 자발적 산화반응이 빠른 산화성가스인 저온 침탄처리방법
3 3
제2항에 있어서,상기 산화성가스는 일산화탄소(CO)를 포함하는 저온 침탄처리방법
4 4
제1항에 있어서,상기 자연산화막 제거가스는 라디칼화하여 산화막과 반응하는 탄화성가스인 저온 침탄처리방법
5 5
제4항에 있어서,상기 탄화성가스는 메탄(CH4)을 포함하는 저온 침탄처리방법
6 6
제1항에 있어서,상기 (a)단계는,상기 (c)단계의 공정온도보다 낮은 공정온도에서 수행되는 저온 침탄처리방법
7 7
제6항에 있어서,상기 (a)단계는,상기 대상금속의 응력완화 온도 분위기에서 수행되는 저온 침탄처리방법
8 8
제7항에 있어서,상기 대상금속은 오스테나이트계 스테인리스강으로 형성되며,상기 (a)단계는 250℃ 내지 500℃의 온도 분위기에서 수행되는 저온 침탄처리방법
9 9
제1항에 있어서,상기 (a)단계는,상기 자연산화막 제거가스 공급 이전에, 상기 대상금속에 대해 전해연마 및 염욕 중 적어도 어느 하나 이상의 처리를 수행하는 저온 침탄처리방법
10 10
제1항에 있어서,상기 (c)단계는,상기 반응챔버를 진공 분위기로 형성하고, 반응가스를 기 설정된 압력으로 주입하여 침탄을 가속시키는 (c-1)단계;상기 반응챔버에 반응가스를 상기 (c-1)단계의 반응가스의 압력 이하로 공급하여 침탄을 확산시키는 (c-2)단계; 및상기 (c-1)단계 및 상기 (c-2)단계를 기 설정된 시간 간격으로 반복 수행하는 (c-3)단계;를 포함하는 저온 침탄처리방법
11 11
제10항에 있어서,상기 (c-1)단계는 상기 반응챔버에 반응가스를 5mbar 이하의 압력으로 공급하여 침탄을 가속시키며,상기 (c-2)단계는 상기 반응챔버에 반응가스를 0
12 12
제10항에 있어서,상기 (c-3)단계는,반복되는 상기 (c-1)단계의 총 공정 시간을 점차 단축시키는 것으로 하는 저온 침탄처리방법
13 13
제10항에 있어서,상기 (c-3)단계는,반복되는 상기 (c-2)단계의 총 공정 시간을 점차 증가시키는 것으로 하는 저온 침탄처리방법
14 14
삭제
15 15
삭제
16 16
삭제
17 17
삭제
18 18
삭제
19 19
제1항에 있어서,상기 반응가스는 분위기제어가스를 더 포함하는 저온 침탄처리방법
20 20
제19항에 있어서,상기 분위기제어가스는 수소를 포함하는 저온 침탄처리방법
21 21
제20항에 있어서,상기 분위기제어가스는 질소를 더 포함하는 저온 침탄처리방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.