1 |
1
반사층;상기 반사층 상의 제 1 전극 및 제 2 전극;상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이의 광변조층을 포함하되;상기 광변조층의 두께는 40nm 내지 100nm이고,상기 광변조층은 동작 전압에 의해 상이 변화되는 부분과 상이 유지되는 부분을 포함하는 광변조 소자
|
2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 반사층과 상기 제 1 전극 사이에 개재되는 유전체층을 더 포함하는 광변조 소자
|
3 |
3
제 2 항에 있어서,상기 유전체층은 TiO2, SiO2, Al2O3, AlN, HfO2, SiC 및 MgO 중 적어도 어느 하나를 포함하는 광변조 소자
|
4 |
4
제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극 및 상기 제 2 전극은 투명 전극 소재를 포함하는 광변조 소자
|
5 |
5
제 4 항에 있어서,상기 투명 전극 소재는 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 또는 AZO(Aluminium-doped Zinc Oxide) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 광변조 소자
|
6 |
6
제 1 항에 있어서,상기 광변조층은 저마늄-안티모니-텔루륨 합금을 포함하는 광변조 소자
|
7 |
7
삭제
|
8 |
8
삭제
|
9 |
9
삭제
|
10 |
10
삭제
|
11 |
11
반사층;상기 반사층 상의 제 1 전극 및 제 2 전극; 및상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이의 광변조층을 포함하는 광변조 소자에 있어서,상기 제 1 전극 및 상기 제 2 전극 중 적어도 어느 하나에 제 1 전압을 인가하여, 상기 광변조층의 일부의 상을 변화시키고, 상기 광변조층의 다른 일부의 상을 유지하는 것; 및상기 제 1 전극 및 상기 제 2 전극 중 적어도 어느 하나에 제 2 전압을 인가하여, 상기 광변조층의 상기 일부의 상을 다시 변화시키는 것을 포함하되,상기 광변조층의 두께는 40nm 내지 100nm이고,상기 광변조층의 상기 일부의 두께는 상기 제 1 전압 및 상기 제 2 전압의 크기 및 지속시간에 따라 결정되는 광변조 소자의 동작 방법
|
12 |
12
제 11 항에 있어서,상기 제 1 전압의 크기는 상기 제 2 전압의 크기보다 크고,상기 제 1 전압의 지속시간은 상기 제 2 전압의 지속시간보다 짧은 광변조 소자의 동작 방법
|
13 |
13
제 11 항에 있어서,상기 제 1 전압에 의해 전체가 결정질인 상기 광변조층의 상기 일부가 비결정질로 변화되는 광변조 소자의 동작 방법
|
14 |
14
제 13 항에 있어서,상기 제 2 전압에 의해 비결정질로 변화된 상기 광변조층의 상기 일부가 다시 결정질로 변화되는 광변조 소자의 동작 방법
|