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소듐 이온 전지 및 그의 제조방법

  • 기술번호 : KST2020004818
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 소듐 이온 전지는, 소듐을 포함하는 제1 전극; 상기 제1 전극과 이격되는 제2 전극; 및 상기 제1 및 제2 전극들 사이에 제공되는 전해질층을 포함한다. 상기 제2 전극은, 흑연층들, 및 상기 흑연층들을 서로 이격시키는 스페이서들을 포함한다. 상기 스페이서들은 금속 산화물 또는 준금속 산화물을 포함한다.
Int. CL H01M 4/13 (2010.01.01) H01M 4/133 (2010.01.01) H01M 4/62 (2006.01.01) H01M 2/16 (2006.01.01) H01M 4/139 (2010.01.01) H01M 4/1393 (2010.01.01) H01M 10/054 (2010.01.01) H01M 4/38 (2006.01.01)
CPC H01M 4/13(2013.01) H01M 4/13(2013.01) H01M 4/13(2013.01) H01M 4/13(2013.01) H01M 4/13(2013.01) H01M 4/13(2013.01) H01M 4/13(2013.01) H01M 4/13(2013.01)
출원번호/일자 1020180135500 (2018.11.06)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0052516 (2020.05.15) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신동옥 대전광역시 유성구
2 이명주 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.11.06 수리 (Accepted) 1-1-2018-1102066-10
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번호 청구항
1 1
소듐을 포함하는 제1 전극;상기 제1 전극과 이격되는 제2 전극; 및상기 제1 및 제2 전극들 사이에 제공되는 전해질층을 포함하되,상기 제2 전극은, 흑연층들, 및 상기 흑연층들을 서로 이격시키는 스페이서들을 포함하고,상기 스페이서들은 금속 산화물 또는 준금속 산화물을 포함하는 소듐 이온 전지
2 2
제1 항에 있어서,인접하는 상기 흑연층들 사이의 이격 거리는 10Å 내지 400Å인 소듐 이온 전지
3 3
제1 항에 있어서,상기 준금속 산화물은 붕소(B), 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 비소(As), 안티몬(Sb), 텔루르(Te), 폴로늄(Po) 및 아스타틴(At) 중 적어도 하나를 포함하는 소듐 이온 전지
4 4
제1 항에 있어서,상기 흑연층들은 그래핀을 포함하는 소듐 이온 전지
5 5
제1 항에 있어서,상기 스페이서들의 직경은 5Å 내지 200Å인 소듐 이온 전지
6 6
제1 항에 있어서,상기 제2 전극은 음극 전극인 소듐 이온 전지
7 7
복수개의 흑연층들을 형성하는 것;각각의 상기 흑연층들 상에 스페이서들을 형성하는 것; 및상기 흑연층들을 기판 상에 적층시키는 것을 포함하고,상기 흑연층들은 상기 기판 및 상기 흑연층들 사이의 정전기적 인력에 의해 상기 기판 상에 적층되는 소듐 이온 전지의 제조방법
8 8
제7 항에 있어서,상기 흑연층들을 형성하는 것은,천연 흑연을 용액 내에서 박리하는 것을 포함하는 소듐 이온 전지의 제조방법
9 9
제7 항에 있어서,상기 스페이서들을 형성하는 것은,상기 흑연층들 상에 예비 스페이서들을 형성하는 것; 및상기 예비 스페이서들을 산화시키는 것을 포함하는 소듐 이온 전지의 제조방법
10 10
제9 항에 있어서,상기 흑연층들 상에 예비 스페이서들을 형성하는 것은,이온 전구체를 분해하여 양이온 및 음이온을 형성하는 것; 및상기 양이온이 상기 흑연층들 상에 달라 붙는 것을 포함하는 소듐 이온 전지의 제조방법
11 11
제10 항에 있어서,상기 양이온은 상기 흑연층들의 (-)전하에 의해 상기 흑연층들에 달라 붙는 소듐 이온 전지의 제조방법
12 12
제9 항에 있어서,상기 예비 스페이서들을 산화시키는 것은,상기 흑연층들을 건조시키는 것 또는 상기 흑연층들을 열처리하는 것을 포함하는 소듐 이온 전지의 제조방법
13 13
제7 항에 있어서,상기 기판 및 상기 흑연층들 사이의 정전기적 인력은 상기 기판의 (+)전하 및 상기 흑연층들의 (-)전하에 의해 발생하는 소듐 이온 전지의 제조방법
14 14
제7 항에 있어서,상기 기판은 표준 환원 전위가 -0
15 15
제7 항에 있어서,상기 흑연층들을 기판 상에 적층시키는 것은,상기 흑연층들이 담긴 용액 내에 염산(HCl)을 넣는 것; 및상기 용액 내에 상기 기판을 넣는 것을 포함하는 소듐 이온 전지의 제조방법
16 16
제7 항에 있어서,상기 스페이서들을 형성하는 것은,중성 용액 내에 상기 흑연층들 및 이온 전구체를 넣는 것을 포함하는 소듐 이온 전지의 제조방법
17 17
제16 항에 있어서,상기 중성 용액 내에서, 상기 이온 전구체의 농도는 0
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국전자통신연구원(ETRI) ETRI연구개발지원사업 차세대 이동체용 형상/기능 제어 가능한 ICT 융합 소재/부품 미래원천기술