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기판; 및상기 기판에 형성되고, 광 반사물질을 함유하는 한 개 이상의 나노 구조체의 배열을 포함하는, 격벽 구조체
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제 1 항에 있어서, 상기 나노 구조체는 광의 반사 경로를 조절하여 선택적으로 광을 차단하거나 투과율을 증대시키는 것인, 격벽 구조체
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제 1 항에 있어서,상기 광 반사물질은 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 니켈(Ni), 이산화규소(SiO2), 규소(Si), 알라미늄(Al), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 주석(Sn), 티타늄(Ti) 및 구리(Cu) 중에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것인, 격벽 구조체
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제 1 항에 있어서,상기 격벽 구조체는, 상기 나노 구조체의 선폭 및 높이, 상기 나노 구조체 간의 간격, 및 바닥면에 대해 상기 나노 구조체의 기울어진 각도 중 하나 이상을 조절하여 목적하는 광 투과율을 달성할 수 있는 것인, 격벽 구조체
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제 1 항에 있어서,상기 나노 구조체의 두께는 1 nm 내지 500 ㎛인 것인, 격벽 구조체
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제 1 항에 있어서, 상기 나노 구조체의 선폭이 20 ㎛ 내지 40 ㎛이고, 상기 나노 구조체 간의 간격이 10 ㎛ 내지 30 ㎛이고,상기 나노 구조체의 높이가 20 ㎛ 내지 40 ㎛인 것인, 격벽 구조체
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제 1 항에 있어서,상기 나노 구조체의 형태는 수직인 벽면, 빗면 형상, 굴곡진 형상, 원기둥 형상, 사각기둥 형상, 역원뿔 형상, 직육면체 형상, 팽이 형상, 컵 형상 및 ㄷ자 형상으로 구성된 군에서 선택되는 것인, 격벽 구조체
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8
(a) 기판에 프리패턴을 형성하고, (b) 상기 프리패턴이 형성된 기판에 광 반사물질을 증착하고, (c) 에칭을 통하여 기판에 증착된 광 반사물질을 상기 프리패턴의 측면에 재증착하는 것을 포함하는, 제 1 항에 따른 격벽 구조체의 제조 방법
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(d) 기판에 광 반사물질을 증착하고, (e) 상기 광 반사물질이 증착된 기판에 프리패턴을 형성하고, (f) 에칭을 통하여 기판에 증착된 광 반사물질을 상기 프리패턴의 측면에 재증착하는 것을 포함하는, 제 1 항에 따른 격벽 구조체의 제조 방법
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제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,각각 상기 (a) 후 상기 (b) 전, 및 상기 (e) 후 상기 (f) 전에 상기 프리패턴의 일측면을 비대칭으로 식각하여 상기 프리패턴의 경사각을 조절하는 것을 추가 포함하는, 격벽 구조체의 제조 방법
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제 10 항에 있어서,상기 재증착은 상기 광 반사물질에 이온 식각공정을 통해 수행되는 것이고,상기 이온 식각공정은 상기 비대칭으로 식각된 면과 평형하게 플라즈마를 가하여 수행되는 것인, 격벽 구조체의 제조 방법
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제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,각각 상기 (c) 및 상기 (f) 이후, 상기 프리패턴을 에칭하여 제거하는 것을 추가 포함하는, 격벽 구조체의 제조 방법
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기판에 몰드를 이용하여 프리패턴을 형성하고, 에칭을 통하여 상기 프리패턴을 바닥면과의 각도를 다양하게 되도록 비대칭으로 식각하여 비대칭 패턴을 형성하고, 상기 비대칭 패턴 표면의 적어도 일부에 광 반사물질을 증착하여 나노 구조체를 형성하는 것을 포함하는, 제 1 항에 따른 격벽 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 따른 격벽 구조체를 포함하는, 광학 필름
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