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티타늄 임플란트 재료를 염화물 전해액 중에서 전기적 펄스를 인가하여 양극산화하여, 상기 티타늄 임플란트 재료 표면에 마이크로 구조 및 티타늄 산화 피막을 형성하는 단계;상기 표면에 마이크로 구조 및 티타늄 산화 피막이 형성된 티타늄 임플란트 재료를 산 처리하여 상기 티타늄 산화 피막을 제거하는 단계; 및상기 티타늄 산화 피막이 제거되고 표면에 마이크로 구조가 형성된 티타늄 임플란트 재료를 마이크로아크 산화하여, 상기 티타늄 임플란트 재료 표면의 마이크로 구조 상에 티타늄 산화 피막을 재형성하는 단계; 를 포함하고, 상기 염화물 전해액은 염소 이온을 포함하는 염화물 전해질 용액인 티타늄 임플란트 재료의 표면 처리 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 전기적 펄스는 0
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청구항 1에 있어서, 상기 염화물 전해액은 CaCl2, NaCl 및 SBF(Simulated body fluid) 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 티타늄 임플란트 재료의 표면 처리 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 염화물 전해액은 0
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청구항 1에 있어서,상기 산 처리는 불산으로 처리하는 것인 티타늄 임플란트 재료의 표면 처리 방법
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청구항 1에 있어서,상기 티타늄 임플란트 재료 표면의 마이크로 구조 상에 티타늄 산화 피막을 재형성하는 단계 이후에 열수 처리하는 단계를 더 포함하는 티타늄 임플란트 재료의 표면 처리 방법
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청구항 6에 있어서, 상기 열수처리는 150 ℃ 내지 200 ℃의 온도로 3시간 내지 5시간 동안 수행하는 티타늄 임플란트 재료의 표면 처리 방법
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청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 따른 방법으로 표면 처리되고, 표면 거칠기가 2μm 내지 3
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