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시편을 지지하기 위한 바닥면과, 상기 시편에 접촉 가능한 2개의 변형 제한면들과, 상기 시편의 변형률을 설정하기 위한 2개의 변형률 설정면들을 포함하는 업셋 베이스금형과, 상기 업셋 베이스금형을 따라 삽입되는 업셋 가압금형을 통한 시편 가공 방법에 있어서,상기 시편의 어느 두 면이 상기 변형 제한면들에 각각 접촉하고, 상기 시편의 다른 두 면이 상기 변형률 설정면들로부터 이격하도록, 상기 시편을 상기 바닥면에 1차로 배치시키는 단계;상기 시편이 상기 변형률 설정면에 접촉하는 직육면체 형상을 가질 때까지 상기 시편을 1차로 소성 변형시키는 단계;상기 시편 중 면적이 가장 작은 2개의 제 1 면들 중 어느 하나의 제 1 면이 상기 바닥면에 접촉하고, 상기 시편 중 면적이 가장 넓은 2개의 제 2 면들이 각각 상기 2개의 변형 제한면들로부터 이격된 상태로 상기 2개의 변형 제한면들을 마주하고, 상기 시편 중 상기 제 1 면보다 면적이 크고 상기 제 2 면보다 면적이 작은 2개의 제 3 면들이 각각 상기 2개의 변형률 설정면들로부터 이격된 상태로 상기 2개의 변형률 설정면들을 마주하도록, 상기 시편을 상기 바닥면에 2차로 배치시키는 단계; 및상기 시편이 상기 2개의 변형 제한면들 및 2개의 변형률 설정면들에 모두 접촉하는 직육면체 형상을 가질 때까지 상기 시편을 2차로 소성 변형시키는 단계;를 포함하는 시편 가공 방법
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제 1 항에 있어서,상기 시편을 바닥면에 2차로 배치시키는 단계에서, 상기 시편이 상기 2개의 변형 제한면들 중 어느 하나의 변형 제한면으로부터 이격된 거리는, 상기 시편이 상기 2개의 변형 제한면들 중 다른 하나의 변형 제한면으로부터 이격된 거리와 동일한 시편 가공 방법
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제 1 항에 있어서,상기 시편을 바닥면에 2차로 배치시키는 단계에서, 상기 시편이 상기 2개의 변형률 설정면들 중 어느 하나의 변형률 설정면으로부터 이격된 거리는, 상기 시편이 상기 2개의 변형률 설정면들 중 다른 하나의 변형률 설정면으로부터 이격된 거리와 동일한 시편 가공 방법
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제 1 항에 있어서,상기 시편 중 면적이 가장 작은 2개의 제 1 면들 중 어느 하나의 제 1 면이 상기 바닥면에 접촉하고, 상기 시편 중 면적이 가장 넓은 2개의 제 2 면들이 각각 상기 2개의 변형 제한면들을 마주하고, 상기 시편 중 상기 제 1 면보다 면적이 크고 상기 제 2 면보다 면적이 작은 2개의 제 3 면들이 각각 상기 2개의 변형률 설정면들을 마주하도록, 상기 시편을 상기 바닥면에 3차로 배치시키는 단계;를 더 포함하는 시편 가공 방법
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