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기판; 상기 기판 상부에 형성된 반사층; 및버퍼층 상에 증착된 VO2(B)(이산화 바나듐)층을 포함하며 상기 반사층 상부에 배치된 마이크로 볼로미터용 저항체를 포함하는 마이크로 볼로미터
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제1항에 있어서,상기 마이크로 볼로미터용 저항체 상부에 형성되고 금속층 및 유전체층이 교번으로 증착된 적외선 흡수체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터
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제1항에 있어서, 상기 마이크로 볼로미터용 저항체는, 상기 반사층으로부터 일정 거리만큼 이격되어 공진 공간을 형성하는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터
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제1항에 있어서, 상기 버퍼층은, 페롭스카이트 구조(Perovskite structure)의 산화물 박막으로 구성되며,상기 마이크로 볼로미터용 저항체는, 상기 버퍼층에 VO2(B)(이산화 바나듐)층을 성장하여 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터
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제4항에 있어서, 상기 VO2(B)(이산화 바나듐)층은, CaTiO3, LaAlO3, BaTiO3, SrTiO3, SrRuO3, BiFeO3 및 이들의 조합 중 적어도 하나로 구성된 산화물 박막의 상부에 VOx(바나듐 옥사이드)를 스퍼터링하여 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터
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기판; 상기 기판 상부에 형성된 반사층;상기 반사층 상에 배치되고 VO2(B) (이산화 바나듐)이 증착된 마이크로 볼로미터용 저항체; 및상기 마이크로 볼로미터용 저항체의 상부에 형성되며, 금속층 및 유전체층이 교번으로 증착된 복층 구조의 적외선 흡수체를 포함하는 마이크로 볼로미터
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제2항에 있어서, 상기 금속층은, 티타늄(Ti), 지르코늄(Zr), 하프늄(Hf), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 니켈(Ni), 탄탈륨(Ta) 및 이들의 조합 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터
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제7항에 있어서, 상기 유전체층은, LiF, MgF2, CaF2, SiO2, Si3N4, Al2O3, Y2O3 및 이들의 조합 중 적어도 하나로 구성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터
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제7항또는 제8항에 있어서, 상기 적외선 흡수체는, 상기 금속층 및 상기 유전체층을 흡수체 쌍으로 구성하고 상기 흡수체 쌍을 반복 증착하여 복층 구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터
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기판을 제공하는 단계;상기 기판 상부에 반사층을 형성하는 단계; 및상기 반사층 상에 배치되고 버퍼층 상에 증착된 VO2(B)(이산화 바나듐)층으로 구성된 볼로미터용 저항체를 형성하는 단계를 포함하는 마이크로 볼로미터의 제조방법
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제10항에 있어서,상기 볼로미터용 저항체를 형성하는 단계 이전에 상기 반사층 상부에 희생층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터의 제조방법
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제11항에 있어서,상기 희생층 상부에 상기 VO2(B)(이산화 바나듐)층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터의 제조방법
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제12항에 있어서,상기 볼로미터용 저항체의 상부에 금속층 및 유전체층이 교번으로 증착된 적외선 흡수체를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터의 제조방법
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제13항에 있어서,상기 희생층을 제거하여 상기 반사층과 상기 볼로미터용 저항체를 이격시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터의 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 볼로미터용 저항체를 형성하는 단계는,상기 희생층 상부에 페롭스카이트 구조 산화물 박막인 버퍼층을 형성하는 단계; 및 상기 버퍼층 상부에 VO2(B)(이산화 바나듐) 박막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터의 제조방법
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제15항에 있어서, 상기 버퍼층을 형성하는 단계 또는 상기 버퍼층 상부에 VO2(B)(이산화 바나듐) 박막을 형성하는 단계는,스퍼터링(Sputtering), 펄스레이저 증착(PLD), 전자빔 증착(E-beam evaporation), 수열처리(Hydrothermal), 물리기상 증착법(PVD), 화학기상 증착법(CVD) 또는 플라즈마 화학기상 증착법(PECVD)을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터의 제조방법
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제15항에 있어서, 상기 볼로미터용 저항체를 형성하는 단계는, 스퍼터링 챔버 내에 산소(O2) 및 아르곤(Ar)의 혼합가스를 공급하는 단계; 및상기 버퍼층에 VO2(B)(이산화 바나듐) 박막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터의 제조방법
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제15항에 있어서, 상기 볼로미터용 저항체를 형성하는 단계는, VOx(바나듐 옥사이드) 세라믹 타겟을 사용한 반응성 스퍼터링(reactive sputtering) 방법을 통하여 VO2(B)(이산화 바나듐) 박막을 형성하는 단계; 또는 V(바나듐) 메탈 타겟을 산소 가스로 산화시켜 VO2(B)(이산화 바나듐)을 증착하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 볼로미터의 제조방법
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