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레이저발생부;상기 레이저발생부에서 발생된 레이저의 초점과 경로를 조절하는 광학계부; 및상기 광학계부로부터 출력되는 레이저의 경로 상에 반응물질을 분사하여 반응물질 증착 대상 기판에 플라즈마 화학기상증착을 수행하는 챔버부;를 포함하며,상기 광학계부에서 초점과 경로가 조절된 레이저가 상기 챔버의 측방향에서 상기 챔버부의 내부로 조사되는 것을 특징으로 하고,상기 광학계부는, 상기 레이저를 상기 레이저 조사 방향의 측 방향으로 기 설정된 간격의 다수의 라인으로 분할하여 다중라인 레이저로 변환하는 다중분할렌즈를 구비한 다초점광학계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 레이저 플라즈마 화학기상증착 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 레이저는,상기 챔버부의 양측에서 상기 챔버부 내부로 조사되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 레이저 플라즈마 화학기상증착 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 레이저발생부에서 출력되는 레이저는,150 내지 20,000 nm 범위의 파장을 가지는 것을 특징으로 하는 레이저 플라즈마 화학기상증착 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 레이저발생부에서 출력되는 레이저는,상기 증착챔버 내 상기 기판 위에서 0
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레이저발생부;상기 레이저발생부에서 발생된 레이저의 초점과 경로를 조절하는 광학계부; 및상기 광학계부로부터 출력되는 레이저의 경로 상에 반응물질을 분사하여 반응물질 증착 대상 기판에 플라즈마 화학기상증착을 수행하는 챔버부;를 포함하며,상기 광학계부에서 초점과 경로가 조절된 레이저가 상기 챔버의 측방향에서 상기 챔버부의 내부로 조사되는 것을 특징으로 하고,상기 광학계부는, 상기 레이저를 상기 레이저 조사 방향에 수직인 z축, 상기 레이저 조사 방향인 y축 및 상기 레이저 조사 방향의 수평 방향인 x축으로 선택적으로 이동시켜 상기 레이저를 상기 챔버부의 내부로 스캔 또는 진동스캔 조사하는 레이저조사구동부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 레이저 플라즈마 화학기상증착 장치
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제 6 항에 있어서, 상기 레이저조사구동부는,상기 레이저의 스캔 조사 중에 상기 레이저를 x축 방향에서 진동 조사하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 레이저 플라즈마 화학기상증착 장치
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제 6 항에 있어서, 상기 레이저조사구동부는,상기 레이저의 스캔 조사 중에 상기 레이저를 z축 방향에서 진동 조사하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 레이저 플라즈마 화학기상증착 장치
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레이저발생부;상기 레이저발생부에서 발생된 레이저의 초점과 경로를 조절하는 광학계부; 및상기 광학계부로부터 출력되는 레이저의 경로 상에 반응물질을 분사하여 반응물질 증착 대상 기판에 플라즈마 화학기상증착을 수행하는 챔버부;를 포함하며,상기 광학계부에서 초점과 경로가 조절된 레이저가 상기 챔버의 측방향에서 상기 챔버부의 내부로 조사되는 것을 특징으로 하고,상기 광학계부는, 상기 레이저를 상기 기판의 길이를 기 설정된 간격으로 분할한 영역에 대응하는 조사영역을 가지고, 상기 기판의 전체 길이를 상기 조사영역별로 순차적으로 스캔 조사하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 레이저 플라즈마 화학기상증착 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 챔버부는,챔버; 상기 챔버의 상부에 반응물질을 상기 챔버의 내부로 반응물질을 공급하도록 형성되는 반응물질공급부;상기 반응물질공급부의 하부에 설치되어, 음극을 가지며 반응물질을 고르게 분산시켜 기판측으로 분사하는 샤워헤드;상기 챔버의 내부로 분사된 반응물질을 플라즈마화하기 위해 상기 챔버의 내부로 플라즈마 에너지를 공급하는 플라즈마 에너지 발생부; 및상기 샤웨헤드의 하부에서 상기 기판을 지지하도록 배치되어 양극으로 작용하는 서셉터;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 레이저 플라즈마 화학기상증착 장치
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제 10 항에 있어서, 상기 플라즈마 에너지 발생부는,상기 반응물질을 플라즈마화하기 위한 플라즈마 에너지 밀도가 0
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제1항의 레이저 플라즈마 화학기상증착 장치에 의한 화학기상증착 방법에 있어서,반응물질공급부를 통해 챔버부의 내부로 반응물질을 분사하는 반응물질 분사단계;플라즈마 에너지 발생부를 통해 상기 챔버부의 내부로 플라즈마 에너지를 공급하여 상기 반응물질을 플라즈마화 하는 플라즈마화 단계; 및상기 레이저발생부에서 출력되는 레이저를 상기 챔버부의 측방향에서 상기 챔버부의 내부로 조사하여, 상기 챔버부 내부로 공급된 상기 반응물질들의 플라즈마화 반응을 촉진시키는 레이저조사 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하고,상기 레이저조사 단계는, 상기 광학계부에 구비되는 다중분할렌즈에 의해 상기 레이저를 상기 레이저 조사 방향의 측 방향으로 기 설정된 간격의 다수의 라인으로 분할하여 다중라인 레이저로 변환하여 조사하는 단계인 것을 특징으로 하는 레이저 플라즈마 화학기상증착 방법
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제 12항에 있어서, 상기 레이저조사 단계는,상기 레이저를 상기 챔버부의 양측방향에서 상기 챔버부의 내부로 조사하는 단계인 것을 특징으로 하는 레이저 플라즈마 화학기상증착 방법
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제 12 항에 있어서, 상기 레이저 조사단계에서 조사되는 레이저는,150 nm 내지 20,000 nm의 범위의 파장을 가지는 것을 특징으로 하는 레이저 플라즈마 화학기상증착 방법
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제 12항에 있어서, 상기 레이저 조사단계에서 조사되는 레이저는,상기 챔버부 내부의 상기 기판 위에서, 0
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제 12항에 있어서, 상기 플라즈마화 단계는,상기 반응물질을 플라즈마화하기 위한 플라즈마 에너지 밀도가 0
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