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금속 판재의 가열 장치

  • 기술번호 : KST2020005693
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 대면적의 금속 판재를 정밀한 온도제어로 균일하게 가열할 수 있는 금속 판재의 가열 장치에 관한 것으로서, 금속 판재의 제 1 면과 일정 거리 이격되게 설치되어 상기 금속 판재를 비접촉식으로 소정 시간 동안 제 1 온도로 가열하는 제 1 히터와, 상기 금속 판재를 기준으로 상기 제 1 히터와 대향되게 형성될 수 있도록 상기 금속 판재의 상기 제 1 면의 반대면과 접촉하도록 설치되고, 제 2 온도로 가열되어 상기 금속 판재를 접촉식으로 가열하는 제 2 히터 및 상기 금속 판재의 가열 시, 상기 제 1 히터 및 상기 제 2 히터의 가열 온도를 제어하는 제어부를 포함할 수 있다.
Int. CL B21D 37/16 (2006.01.01) C21D 1/34 (2006.01.01) C21D 9/46 (2006.01.01)
CPC B21D 37/16(2013.01) B21D 37/16(2013.01) B21D 37/16(2013.01)
출원번호/일자 1020180140129 (2018.11.14)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-2115289-0000 (2020.05.20)
공개번호/일자 10-2020-0056154 (2020.05.22) 문서열기
공고번호/일자 (20200526) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.11.14)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이종섭 인천광역시 연수구
2 송정한 인천광역시 연수구
3 이상교 인천광역시 연수구
4 최석우 서울특별시 관악구
5 정선호 인천광역시 연수구
6 박지영 인천광역시 연수구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 충청남도 천안시 서북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.11.14 수리 (Accepted) 1-1-2018-1133551-79
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.11.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0819376-33
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.12.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-1356187-16
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.12.30 수리 (Accepted) 1-1-2019-1356186-60
5 등록결정서
Decision to grant
2020.05.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0341136-84
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
금속 판재의 제 1 면과 일정 거리 이격되게 설치되어 상기 금속 판재를 비접촉식으로 소정 시간 동안 제 1 온도로 가열하는 제 1 히터;상기 금속 판재를 기준으로 상기 제 1 히터와 대향되게 형성될 수 있도록 상기 금속 판재의 상기 제 1 면의 반대면과 접촉하도록 설치되고, 제 2 온도로 가열되어 상기 금속 판재를 접촉식으로 가열하는 제 2 히터; 및상기 금속 판재의 가열 시, 상기 제 1 히터 및 상기 제 2 히터의 가열 온도를 제어하는 제어부;를 포함하고,상기 제 1 히터는,상기 소정 시간 동안 상기 제 2 온도 보다 낮은 상기 제 1 온도로 상기 금속 판재를 급속 가열하는 급속 가열체이고,상기 제 2 히터는,상기 제 1 히터에 의해 상기 제 1 온도로 가열된 상기 금속 판재를 상기 제 2 온도까지 가열한 후, 상기 금속 판재를 상기 제 2 온도로 유지시키는 항온 가열체이고,상기 제어부는,상기 금속 판재를 가열 시, 상기 제 1 히터가 상기 소정 시간 동안 열 플럭스(heat flux)가 선형적으로 감소하여 상기 소정 시간 경과 후 상기 금속 판재에 열 플럭스를 인가하지 않도록 제어하여, 상기 금속 판재를 상기 제 1 온도로 가열시키고, 상기 제 2 히터가 상기 소정 시간과 그 이후에도 계속해서 상기 금속 판재의 가열 목표 온도와 동일한 상기 제 2 온도로 유지될 수 있도록 제어하여, 상기 제 1 온도로 가열된 상기 금속 판재를 상기 가열 목표 온도로 추가 가열하는, 금속 판재의 가열 장치
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삭제
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삭제
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제 1 항에 있어서,상기 제어부는,상기 소정 시간을 10초 이내로 제어하고, 상기 제 1 온도가 상기 제 2 온도의 85% 내지 95%가 될 수 있도록 상기 제 1 히터를 제어하는, 금속 판재의 가열 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 히터는,근적외선 가열(NIR 가열)을 이용하는 광 가열체이고,상기 제 2 히터는,카트리지 가열, 열전소자 가열, 통전 가열, 면상 가열 중 어느 하나를 이용하는 금형 가열체인, 금속 판재의 가열 장치
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제 1 열용량을 가지고 금속 판재의 제 1 면과 접촉하도록 설치되어, 상기 금속 판재를 접촉식으로 소정 시간 동안 제 1 온도로 가열하는 제 1 히터;상기 금속 판재를 기준으로 상기 제 1 히터와 대향되게 형성될 수 있도록 상기 금속 판재의 상기 제 1 면의 반대면과 접촉하도록 설치되어, 상기 제 1 열용량 보다 큰 제 2 열용량을 가지고 제 2 온도로 가열되어 상기 금속 판재를 접촉식으로 가열하는 제 2 히터; 및상기 금속 판재의 가열 시, 상기 제 1 히터 및 상기 제 2 히터의 가열 온도를 제어하는 제어부;를 포함하고,상기 제 1 히터는,상기 소정 시간 동안 상기 제 2 온도 보다 낮은 상기 제 1 온도로 상기 금속 판재를 급속 가열하는 급속 가열체이고,상기 제 2 히터는,상기 제 1 히터에 의해 상기 제 1 온도로 가열된 상기 금속 판재를 상기 제 2 온도까지 가열한 후, 상기 금속 판재를 상기 제 2 온도로 유지시키는 항온 가열체이고,상기 제어부는,상기 금속 판재를 가열 시, 상기 제 1 히터가 상기 소정 시간 동안 열 플럭스(heat flux)가 선형적으로 감소하여 상기 소정 시간 경과 후 상기 금속 판재에 열 플럭스를 인가하지 않도록 제어하여, 상기 금속 판재를 상기 제 1 온도로 가열시키고, 상기 제 2 히터가 상기 소정 시간과 그 이후에도 계속해서 상기 금속 판재의 가열 목표 온도와 동일한 상기 제 2 온도로 유지될 수 있도록 제어하여, 상기 제 1 온도로 가열된 상기 금속 판재를 상기 가열 목표 온도로 추가 가열하는, 금속 판재의 가열 장치
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삭제
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삭제
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제 6 항에 있어서,상기 제어부는,상기 소정 시간을 10초 이내로 제어하고, 상기 제 1 온도가 상기 제 2 온도의 85% 내지 95%가 될 수 있도록 상기 제 1 히터를 제어하는, 금속 판재의 가열 장치
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제 6 항에 있어서,상기 제 1 히터 및 상기 제 2 히터는,카트리지 가열, 열전소자 가열, 통전 가열, 면상 가열 중 어느 하나를 이용하는 금형 가열체인, 금속 판재의 가열 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.