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화학적 표면개질기법을 통해 기판에 마이크로 또는 나노 크기의 산화구조물을 형성하는 단계;포토리소그래피 공정을 통해 상기 기판에 전극층 패턴을 형성하는 단계;스핀 코팅 또는 라미네이션 공정과 포토리소그래피 공정을 통해 상기 전극층 패턴이 형성된 기판에 격자층 패턴을 형성하는 단계; 테플론 코팅을 수행하여 상기 격자층 패턴이 형성된 기판의 격자층 표면에너지를 저감시켜 소수성 또는 초소수성 표면을 얻는 단계; 및 상기 소수성 또는 초소수성 표면의 기체층이 감소하면 상기 전극층 패턴에 전위차를 주어 전류를 흘려보내서 기체를 생성하는 단계를 포함하는, 능동 기체 생성을 이용한 능동 방오표면의 방오성능 향상 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 전극층 패턴 형성 단계는, 기판에 폴리머를 스핀코팅에 의해 균일한 두께로 코팅하는 단계; 상기 폴리머가 코팅된 기판에 전극층 패터닝을 위해 프린팅된 전극층 패턴 마스크를 통해 자외선을 노광하는 단계; 상기 자외선에 의해 노광된 폴리머를 현상에 의해 제거하는 단계; 상기 폴리머가 제거된 기판에 금 입자를 증착시키는 단계; 및 상기 금 입자가 증착된 기판에 남아있는 폴리머를 현상에 의해 제거하여 전극층 패턴이 형성된 기판을 획득하는 단계를 포함하는, 능동 기체 생성을 이용한 능동 방오표면의 방오성능 향상 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 격자층 패턴을 형성하는 단계는, 상기 전극층 패턴이 형성된 기판에 폴리머를 스핀 코팅 또는 라미네이션 공정에 의해 코팅하는 단계; 상기 폴리머가 코팅된 기판에 격자층 패터닝을 위해 프린팅된 격자층 패턴 마스크를 통해 자외선을 노광하는 단계; 및 상기 자외선에 의해 노광된 폴리머를 현상에 의해 제거하여 상기 전극층 패턴이 형성된 기판에 격자층 패턴을 형성하는 단계를 포함하는, 능동 기체 생성을 이용한 능동 방오표면의 방오성능 향상 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 소수성 또는 초소수성 표면을 얻는 단계는, 테플론 용액 0
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제 1 항에 있어서, 상기 소수성 또는 초소수성 표면은, 기판 상단부에 가로로 전극층 패턴이 형성되어 있고, 상기 가로로 전극층 패턴이 형성된 기판 위에 세로로 격자층 패턴이 형성되어 있는, 능동 기체 생성을 이용한 능동 방오표면의 방오성능 향상 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 기체를 생성시키는 단계는, 상기 전극층 패턴에 전원공급기의 음극 (-극)을 연결하고, 액체에 양극 (+극)을 연결한 후 전위차를 주어 1mA ~ 20mA의 전류를 흘려보내는 단계를 포함하는, 능동 기체 생성을 이용한 능동 방오표면의 방오성능 향상 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 기체를 생성하는 단계는, 상기 격자층의 높이 두께만큼 기체를 생성시키는, 능동 기체 생성을 이용한 능동 방오표면의 방오성능 향상 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 기체를 생성하는 단계에 의해 생성된 기체에 의해 박테리아를 포함하는 파울링 물질의 부착이 억제되는, 능동 기체 생성을 이용한 능동 방오표면의 방오성능 향상 방법
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