| 1 |
1
패시브 메타표면(passive metasurface)에 배치되는 복수개의 소스 안테나;상기 복수개의 소스 안테나 중에서 적어도 2개의 소스 안테나를 선택하는 소스 안테나 셀렉터; 및상기 복수개의 소스 안테나 중에서 상기 선택된 적어도 2개의 소스 안테나에 대한 위상 차이를 조절하여 빔조향 각도를 제어하는 빔조향 각도 제어부를 포함하고, 상기 패시브 메타표면(passive metasurface)은, 0도의 조향 각도와 소스의 위치가 가운데 위치하였을 때를 동위상을 형성하는 구조를 기준으로 설계되는 것을 특징으로 하는 빔조향 멀티빔 고이득 안테나 장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 빔조향 각도 제어부는,상기 적어도 2개의 소스 안테나만 전원을 인가하고, 상기 전원이 인가되는 소스 안테나의 위상을 각각 설정하여 상기 위상 차이를 조절하는 빔조향 멀티빔 고이득 안테나 장치
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 소스 안테나는,평면 타입의 패치 안테나, 슬롯(slot) 타입의 개구면 안테나, 및 다이폴(dipole) 안테나 중에서 적어도 하나를 포함하는 빔조향 멀티빔 고이득 안테나 장치
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 복수개의 소스 안테나의 전체 개수는 고이득 안테나의 빔조향 각도 및 크기를 고려하여 설계되는 것을 특징으로 하는 빔조향 멀티빔 고이득 안테나 장치
|
| 5 |
5
삭제
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 복수개의 소스 안테나는,상기 복수개의 소스 안테나 세트의 개수가 방사되는 빔의 개수에 비례하도록 설계되는 것을 특징으로 하는 빔조향 멀티빔 고이득 안테나 장치
|
| 7 |
7
패시브 메타표면(passive metasurface)에 배치되는 복수개의 소스 안테나;상기 복수개의 소스 안테나 중에서 적어도 2개의 소스 안테나를 선택하는 소스 안테나 셀렉터; 및상기 복수개의 소스 안테나 중에서 상기 선택된 적어도 2개의 소스 안테나에 대한 위상 차이를 조절하여 빔조향 각도를 제어하는 빔조향 각도 제어부를 포함하고, 상기 패시브 메타표면(passive metasurface)의 크기, 상기 패시브 메타표면(passive metasurface)과 어레이 소스 간 간격은 개구 효율을 고려하여 결정되는 것을 특징으로 하는 빔조향 멀티빔 고이득 안테나 장치
|
| 8 |
8
패시브 메타표면(passive metasurface)에 배치되는 복수개의 소스 안테나를 유지하는 단계;상기 복수개의 소스 안테나 중에서 적어도 2개의 소스 안테나를 선택하는 단계; 및상기 복수개의 소스 안테나 중에서 상기 선택된 적어도 2개의 소스 안테나에 대한 위상 차이를 조절하여 빔조향 각도를 제어하는 단계를 포함하고,상기 패시브 메타표면(passive metasurface)은, 0도의 조향 각도와 소스의 위치가 가운데 위치하였을 때를 동위상을 형성하는 구조를 기준으로 설계되는 것을 특징으로 하는 빔조향 멀티빔 고이득 안테나 장치의 동작 방법
|
| 9 |
9
제8항에 있어서,상기 빔조향 각도를 제어하는 단계는,상기 적어도 2개의 소스 안테나만 전원을 인가하는 단계; 및상기 전원이 인가되는 소스 안테나의 위상을 각각 설정하여 상기 위상 차이를 조절하는 단계를 포함하는 빔조향 멀티빔 고이득 안테나 장치의 동작 방법
|
| 10 |
10
복수개의 소스 안테나를 패시브 메타표면(passive metasurface)에 배치하는 단계;상기 복수개의 소스 안테나와 전기적으로 연결되는 일측에 상기 복수의 소스 안테나를 제어하기 위한 프로세서를 배치하는 단계를 포함하고,상기 프로세서는 상기 복수개의 소스 안테나 중에서 적어도 일부 소스 안테나에 대한 위상 차이를 조절하여 빔조향 각도를 제어하도록 동작하며, 상기 패시브 메타표면(passive metasurface)은, 0도의 조향 각도와 소스의 위치가 가운데 위치하였을 때를 동위상을 형성하는 구조를 기준으로 설계되는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 빔조향 멀티빔 고이득 안테나 장치의 설계 방법
|
| 11 |
11
제10항에 있어서,상기 프로세서는,상기 복수개의 소스 안테나 중에서 적어도 2개의 소스 안테나를 선택하고, 상기 복수개의 소스 안테나 중에서 상기 선택된 적어도 2개의 소스 안테나에 대한 위상 차이를 조절하여 상기 빔조향 각도를 제어하는 빔조향 멀티빔 고이득 안테나 장치의 설계 방법
|
| 12 |
12
제10항에 있어서,상기 복수개의 소스 안테나를 패시브 메타표면(passive metasurface)에 배치하는 단계는,평면 타입의 패치 안테나, 슬롯(slot) 타입의 개구면 안테나, 및 다이폴(dipole) 안테나 중에서 적어도 하나를 상기 패시브 메타표면(passive metasurface)에 배치하는 단계를 포함하는 빔조향 멀티빔 고이득 안테나 장치의 설계 방법
|
| 13 |
13
복수개의 소스 안테나를 패시브 메타표면(passive metasurface)에 배치하는 단계;상기 복수개의 소스 안테나와 전기적으로 연결되는 일측에 상기 복수의 소스 안테나를 제어하기 위한 프로세서를 배치하는 단계를 포함하고,상기 프로세서는 상기 복수개의 소스 안테나 중에서 적어도 일부 소스 안테나에 대한 위상 차이를 조절하여 빔조향 각도를 제어하도록 동작하며,상기 복수개의 소스 안테나의 전체 개수는 고이득 안테나의 빔조향 각도 및 크기를 고려하여 설계되는 것을 특징으로 하는 빔조향 멀티빔 고이득 안테나 장치의 설계 방법
|
| 14 |
14
삭제
|
| 15 |
15
제10항에 있어서,상기 복수개의 소스 안테나는,상기 복수개의 소스 안테나 세트의 개수가 방사되는 빔의 개수에 비례하도록 설계되는 것을 특징으로 하는 빔조향 멀티빔 고이득 안테나 장치의 설계 방법
|
