| 1 |
1
플루오로알킬기를 포함하는 실란, 알킬기를 포함하는 실란, 에폭시기를 포함하는 실란, 아크릴레이트기를 포함하는 실란 및 폴리실라잔의 중합에 의해 제조되는 중합체
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 플루오로알킬기를 포함하는 실란은 하기 화학식1로 표시되는 것을 특징으로 하는 중합체:[화학식1]F3C(F2C)n(CR2)mSiR'(3-l)(OR'')l(이때, n은 1 내지 20의 정수이고, m은 1 내지 5의 정수이고, l은 1 내지 3의 정수이고, R, R', R''은 H 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬이다
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 알킬기를 포함하는 실란은 하기 화학식2로 표시되는 것을 특징으로 하는 중합체:[화학식2]CR3(CR'2) nSiR''(3-m)(OR''')m(이때, n은 1 내지 20의 정수이고, m은 1 내지 3의 정수이고, R, R', R'', R'''은 H 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬이다)
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 에폭시기를 포함하는 실란은 하기 화학식3으로 표시되는 것을 특징으로 하는 중합체:[화학식3]CR2OCH(CR'2)nO(CR''2)mSi R'''(3-l)(OR'''')l(이때, n은 1 내지 5의 정수이고, m은 1 내지 20의 정수이고, l은 1 내지 3의 정수이고, R, R', R'', R'''은 H 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬이다
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 폴리실라잔은 하기 화학식4로 표시되는 것을 특징으로 하는 중합체:[화학식4](이때, n은 1 내지 2000의 정수이고, R, R', R''은 H, C1 내지 C20의 알킬 또는 아크릴레이트기이다
|
| 6 |
6
제1항의 중합체를 포함하는 나노입자
|
| 7 |
7
제6항의 나노입자를 포함하되,상기 나노입자에 바인더 및 촉매 또는 분산안정제가 혼합된 것을 특징으로 하는 수지 조성물
|
| 8 |
8
제7항에 있어서,상기 수지 조성물은 코팅 용도로 사용되는 것을 특징으로 하는 수지 조성물
|
| 9 |
9
플루오로알킬기를 포함하는 실란, 알킬기를 포함하는 실란, 에폭시기를 포함하는 실란, 아크릴레이트기를 포함하는 실란 및 입자형성용매를 혼합 및 교반하여 실란용액을 제조하는 단계;상기 실란용액과 폴리실라잔 용액을 혼합 및 교반하여 나노입자가 분산된 혼합용액을 제조하는 단계; 및상기 혼합용액에서 입자형성용매를 제거하여 수지 조성물을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하고,상기 수지 조성물을 제조하는 단계 다음에 상기 수지 조성물에 바인더 및 촉매 또는 분산안정제를 혼합하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물 제조방법
|
| 10 |
10
제9항에 있어서,상기 수지 조성물은 코팅용도로 사용되는 것을 특징으로 하는 수지 조성물 제조방법
|
| 11 |
11
제9항에 있어서,상기 플루오로알킬기를 포함하는 실란은 하기 화학식1로 표시되는 것을 특징으로 하는 수지 조성물 제조방법:[화학식1]F3C(F2C)n(CR2)mSiR'(3-l)(OR'')l(이때, n은 1 내지 20의 정수이고, m은 1 내지 5의 정수이고, l은 1 내지 3의 정수이고, R, R', R''은 H 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬이다
|
| 12 |
12
제9항에 있어서,상기 플루오로알킬기를 포함하는 실란은 상기 실란 용액 중량 대비 0
|
| 13 |
13
제9항에 있어서,상기 알킬기를 포함하는 실란은 하기 화학식2로 표시되는 것을 특징으로 하는 수지 조성물 제조방법:[화학식2]CR3(CR'2) nSiR''(3-m)(OR''')m(이때, n은 1 내지 20의 정수이고, m은 1 내지 3의 정수이고, R, R', R'', R'''은 H 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬이다
|
| 14 |
14
제9항에 있어서,상기 알킬기를 포함하는 실란은 상기 실란 용액 중량 대비 0
|
| 15 |
15
제9항에 있어서,상기 에폭시기를 포함하는 실란은 하기 화학식3으로 표시되는 것을 특징으로 하는 수지 조성물 제조방법:[화학식3]CR2OCH(CR'2)nO(CR''2)mSi R'''(3-l)(OR'''')l(이때, n은 1 내지 5의 정수이고, m은 1 내지 20의 정수이고, l은 1 내지 3의 정수이고, R, R', R'', R'''은 H 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20의 알킬이다
|
| 16 |
16
제9항에 있어서,상기 에폭시기를 포함하는 실란은 상기 실란 용액 중량 대비 0
|
| 17 |
17
제9항에 있어서,상기 입자형성용매는 알콜, 물 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물 제조방법
|
| 18 |
18
제17항에 있어서,상기 입자형성용매는 다이뷰틸 에테르, 톨루엔, 테트라하이드로퓨란, n-메틸피롤리돈, 자일렌, 프로필렌 글라이콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌 글라이콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 사이클로헥산 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물 제조방법
|
| 19 |
19
제17항에 있어서,상기 입자형성용매는 상기 알콜의 공용매 또는 상기 물의 공용매를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물 제조방법
|
| 20 |
20
제9항에 있어서,상기 폴리실라잔 용액은 유기 폴리실라잔 바인더 또는 무기 폴리실라잔 바인더를 포함하고,상기 유기 폴리실라잔 바인더 또는 상기 무기 폴리실라잔 바인더는 상기 실란 용액 중량 대비 1중량% 내지 200중량%인 것을 특징으로 하는 수지 조성물 제조방법
|
| 21 |
21
제9항에 있어서,상기 나노입자 하나의 평균입경은 20nm 내지 100nm인 것을 특징으로 하는 수지 조성물 제조방법
|
| 22 |
22
제9항에 있어서,상기 혼합용액에서 입자형성용매를 제거하여 수지 조성물을 제조하는 단계는 진공도 0
|
| 23 |
23
제9항에 있어서, 상기 수지 조성물은 일액형인 것을 특징으로 하는 수지 조성물 제조방법
|
| 24 |
24
삭제
|
| 25 |
25
제9항에 있어서,상기 바인더는 무기 폴리실라잔, 유기 폴리실라잔, 우레탄계 화합물, 아크릴계 화합물, 바이닐계 화합물, 아민계 화합물, 이미드계 화합물, 아마이드계 화합물, 실란계 화합물, 실리콘계 화합물, 셀룰로오스계 화합물, 에폭시계 화합물, 불소계 화합물 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 수지 조성물 제조방법
|
| 26 |
26
제9항에 있어서,상기 바인더는 상기 수지 조성물 중량 대비 5중량% 내지 500중량%인 것을 특징으로 하는 수지 조성물 제조방법
|
| 27 |
27
제9항에 있어서,상기 촉매는 1차 아민계, 2차 아민계 또는 3차 아민계 촉매를 포함하고, 상기 폴리실라잔 용액 대비 1PHR 내지 30PHR인 것을 특징으로 하는 수지 조성물 제조방법
|
| 28 |
28
제9항에 있어서, 상기 분산안정제는 음이온계, 비이온계 또는 양이온계 분산안정제를 포함하고, 상기 나노입자 중량 대비 0
|
| 29 |
29
제9항의 제조방법에 의해 제조되는 수지 조성물
|
| 30 |
30
제7항 또는 제29항의 수지 조성물을 기재 상에 도포하는 단계; 및상기 도포된 수지 조성물을 경화하여 필름을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 필름 제조방법
|
| 31 |
31
제30항에 있어서,상기 수지 조성물을 기재 상에 도포하는 단계는 담지법, 함침법, 기재의 표면에 상기 수지 조성물을 스피닝, 슬롯다이, 마이크로 그라비아, 그라비아 또는 스프레이를 이용하여 분사하는 방법을 통해 수행하는 것을 특징으로 하는 필름 제조방법
|
| 32 |
32
제30항에 있어서,상기 수지 조성물을 기재 상에 도포하는 단계는 상기 기재를 500rpm 내지 4000rpm으로 회전하며 1초 내지 5분 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 필름 제조방법
|
| 33 |
33
제30항에 있어서,상기 수지 조성물을 도포하는 단계 및 상기 필름을 형성하는 단계 사이에 전처리 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 필름 제조방법
|
| 34 |
34
제33항에 있어서,상기 전처리 단계는 70℃ 내지 120℃의 온도에서 열처리하는 것을 특징으로 하는 필름 제조방법
|
| 35 |
35
제30항에 있어서,상기 필름을 형성하는 단계는 펄스 UV조사, 암모니아수 노출, 열스팀 또는 열처리에 의해 상기 수지 조성물을 경화하여 수행하는 것을 특징으로 하는 필름 제조방법
|
| 36 |
36
제35항에 있어서, 상기 펄스 UV조사는 1000V 내지 4000V, 5Hz 내지 50Hz, 150nm 내지 450nm, 0
|
| 37 |
37
제35항에 있어서, 상기 암모니아수 노출은 15℃ 내지 35℃에서 5중량% 내지 35중량%의 암모니아수를 이용하여 12시간 내지 120시간 수행하는 것을 특징으로 하는 필름 제조방법
|
| 38 |
38
제30항에 있어서,상기 필름 형성 단계 이후에 상기 형성된 필름을 열처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 필름 제조방법
|
| 39 |
39
제38항에 있어서,상기 열처리하는 단계는 70℃ 내지 120℃의 온도조건에서 10분 내지 120분 동안 열처리하는 것을 특징으로 하는 필름 제조방법
|
