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내부에 열매체가 수용되고, 가연성 물질이 투입되어 반응이 이루어지는 제1반응기(100); 내부에 열매체가 수용되고, 상기 제1반응기(100)보다 높은 온도로 유지되는 제2반응기(200); 상기 제1반응기(100)에서 배출되는 제1가스를 응축시켜 응축물과 비응축 가스로 분리하는 응축장치(400); 및 상기 제2반응기(200)에서 배출되는 제2가스가 투입되는 가스공급 제어장치;를 포함하며,상기 제1반응기(100) 및 상기 제2반응기(200)는 내부에 수용된 상기 열매체가 서로 순환 가능하도록 구성되고,상기 제2반응기(200)에 수용된 열매체가 상기 제1반응기(100)로 투입됨으로써 상기 제1반응기(100)로 투입되는 가연성 물질의 열분해에 의해 상기 제1가스가 생산되어 배출되고, 상기 제1반응기(100)의 열분해 잔유물과 열매체가 상기 제2반응기(200)로 투입되며, 상기 응축장치(400)에서 분리된 비응축 가스 및 산화제가 상기 제2반응기(200)로 투입되어, 상기 제1반응기(100)로부터 제2반응기(200)로 투입된 열분해 잔유물과의 발열반응에 의해 상기 제2가스가 생산되고 상기 제2반응기(200) 내의 열매체가 가열되며,상기 제2반응기(200)로부터 상기 가스공급 제어장치로 투입된 상기 제2가스는 상기 제1반응기(100)로 직접 투입되는,열매체 및 가스 순환형 열분해 시스템
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제 1 항에 있어서,상기 제1반응기(100) 및 상기 제2반응기(200)는 일측이 서로 연통되며,상기 제1반응기(100) 및 상기 제2반응기(200) 내부에서 상기 열매체를 순환시키는 내부순환장치를 더 포함하며,상기 내부순환장치는 상기 연통부를 통하여 상기 열매체가 순환되도록 하는 스크류 피더(211)를 구비하는,열매체 및 가스 순환형 열분해 시스템
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제 1 항에 있어서,상기 제2반응기(200)와 상기 가스 공급 제어장치(500) 사이에 위치하는 외부순환장치(220)를 더 포함하며,상기 외부순환장치(220)는 상기 제1반응기(100)에서 배출된 제2가스로부터 열매체를 분리하여 상기 제1반응기(100)로 투입하고, 열매체가 분리된 제2가스를 상기 가스공급 제어장치를 통하여 상기 제1반응기(100)로 공급되도록 하는,열매체 및 가스 순환형 열분해 시스템
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제 1 항에 있어서, 상기 제1반응기(100)와 상기 응축장치(400) 사이에 위치하며, 상기 제1반응기(100)에서 배출되는 제1가스에 포함된 불순물을 제거하는 정제장치(300)를 더 포함하는,열매체 및 가스 순환형 열분해 시스템
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제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 가스 공급 제어장치(500) 후단에 위치하는 열교환장치(600)를 더 포함하며,상기 가스 공급 제어장치(500)는, 투입된 상기 제2가스 중 일부는 상기 열교환장치(600)로 투입되도록 하고 나머지 일부는 상기 제1반응기(100)로 투입되도록 하는,열매체 및 가스 순환형 열분해 시스템
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제 5 항에 있어서,열교환장치(600) 후단에 위치하는 송풍장치(650)를 더 포함하며,상기 송풍장치(650)는 상기 열교환장치(600)에서 배출되는 가스를 상기 제1반응기(100)로 공급하는, 열매체 및 가스 순환형 열분해 시스템
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