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금속 기재 상에 1 개 이상의 포스폰산기를 포함하는 화합물을 처리하는 단계; 상기 1개 이상의 포스폰산기를 포함하는 화합물을 처리한 금속 기재 상에 폴리머를 코팅하는 단계; 및상기 금속 기재 상에 자외선을 조사하는 단계 를 포함하는 금속의 표면 처리 방법
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제1항에 있어서, 상기 금속 기재는 티타늄, 알루미늄, 니티놀, 구리, 지르코늄, 하프늄, 스테인리스강 및 이들의 합금으로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속의 표면 처리 방법
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제1항에 있어서, 상기 1 개 이상의 포스폰산기를 포함하는 화합물은 자기조립분자인 것을 특징으로 하는 금속의 표면 처리 방법
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제3항에 있어서, 상기 1 개 이상의 포스폰산기를 포함하는 화합물은 아크릴옥시메틸포스폰산(APA), (메타크릴옥시)메틸포스폰산(MPA), 포스포노운데실 아크릴레이트(PA), 메타크릴로일옥시운데실포스폰산(MPA), 비닐포스폰산(VPA) 및 이들의 조합으로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속의 표면 처리 방법
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제1항에 있어서, 상기 폴리머는 하이드로겔을 포함하는 것을 특징으로 하는 금속의 표면 처리 방법
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제5항에 있어서, 상기 하이드로겔은 알긴산, 아가로오스, 히알루론산, 폴리에틸렌글리콜, 젤라틴, 콜라겐, 피브린, 키토산, 피브린, 피브리노겐, 피브로넥틴, 라미닌, 엘라스틴 및 이들의 조합으로 구성된 군으로부터 선택되는 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속의 표면 처리 방법
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제1항에 있어서, 상기 자외선을 조사하는 단계는 라디칼을 형성시키는 것을 특징으로 하는 금속의 표면 처리 방법
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제7항에 있어서, 상기 라디칼은 포스폰산기를 1개 이상 포함하는 화합물 중의 포스폰산기와 폴리머 간의 화학 결합을 유도하는 것을 특징으로 하는 금속의 표면 처리 방법
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제1항에 있어서,상기 자외선은 1 W/cm2 내지 400 W/cm2의 강도로 조사되는 것을 특징으로 하는 금속의 표면 처리 방법
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제1항에 있어서,상기 자외선은 30 초 내지 120 분 동안 조사되는 것을 특징으로 하는 금속의 표면 처리 방법
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제1항에 있어서, 상기 금속의 표면 처리 방법은 상기 금속 기재 상에 1개 이상의 포스폰산기를 포함하는 화합물을 처리하는 단계 전에 마스크 패터닝을 수행하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법
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제1항 내지 제11항 중 어느 한 항의 금속의 표면 처리 방법에 의해 표면 개질된 금속
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