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내부 중심 영역에 합성타겟이 수용되는 수용공간이 형성된 챔버;상기 챔버의 둘레면에 구비되며, 아킹 현상에 의해 상기 합성타겟을 이온화시키는 아크증발원; 및상기 챔버의 둘레면에 구비되되 상기 아크증발원과 자기장의 간섭이 발생하지 않는 위치에 이격되도록 배치되며, 플라즈마에 의해 가스가 이온화되어 상기 합성타겟 방향으로 분출되는 선형이온원;을 포함하고,상기 아크증발원 및 상기 선형이온원은 복수 개가 상기 챔버의 둘레면을 따라 구비되되, 한 쌍이 그룹을 이루어 상기 챔버의 상하 방향을 따라 이격되도록 배치되며, 종 방향으로 상기 아크증발원 및 상기 선형이온원을 각각 관통하는 회전축과, 횡 방향으로 상기 아크증발원 및 상기 선형이온원을 각각 관통하는 회전축을 기준으로 회전 가능하게 형성되어, 서로 간의 상대 각도를 가변시킬 수 있도록 형성되는 다성분계 코팅막 복합 증착장치
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제1항에 있어서,상기 챔버는 상기 수용공간 내부를 외부에서 확인 가능하도록 하는 투시창을 포함하며,상기 아크증발원 및 상기 선형이온원은 한 쌍이 그룹을 이루어 상기 투시창을 기준으로 양측에 각각 대칭되도록 구비되는 다성분계 코팅막 복합 증착장치
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제1항에 있어서,상기 아크증발원 및 상기 선형이온원은 이온 입사 범위의 적어도 일부가 겹치도록 배치되는 다성분계 코팅막 복합 증착장치
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제1항에 있어서,상기 챔버의 내부 중심 영역에 중심축을 기준으로 회전 가능하게 구비되며, 둘레에 상기 합성타겟을 고정시키는 회전지그를 더 포함하는 다성분계 코팅막 복합 증착장치
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제5항에 있어서,상기 합성타겟은 상기 합성타겟의 중심축을 기준으로 회전 가능한 형태로 상기 회전지그에 고정되는 다성분계 코팅막 복합 증착장치
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제1항에 있어서,상기 챔버는 상기 수용공간 내의 공기를 외부로 배출시켜 진공 분위기를 형성하는 진공펌프를 더 포함하는 다성분계 코팅막 복합 증착장치
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제1항에 있어서,상기 선형이온원은 200~700V의 전압 및 0
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제1항에 있어서,증착하고자 하는 코팅막은 Al-Cr-Si-N 코팅막이며,상기 수용공간에 수용되는 합성타겟은 Al-Cr 합성타겟 및 Cr-Si 합성타겟 중 적어도 어느 하나인 다성분계 코팅막 복합 증착장치
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제9항에 있어서,상기 합성타겟이 Al-Cr 합성타겟일 경우, 상기 아크증발원에 80~120A 범위의 전류를 인가하도록 작동되는 다성분계 코팅막 복합 증착장치
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제9항에 있어서,상기 합성타겟이 Cr-Si 합성타겟일 경우, 상기 아크증발원에 90~110A 범위의 전류를 인가하도록 작동되는 다성분계 코팅막 복합 증착장치
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제1항에 있어서,상기 수용공간 내부에 적용되는 진공도는 1×10-3~8×10-3bar 범위를 가지는 다성분계 코팅막 복합 증착장치
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제1항에 있어서,상기 수용공간 내부에 적용되는 온도는 100~350℃ 범위를 가지는 다성분계 코팅막 복합 증착장치
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