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4족 전이금속 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법

  • 기술번호 : KST2020006894
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 4족 전이금속 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용하여　박막을 형성하는 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 4족 전이금속 화합물은 열적으로 안정하고 휘발성이 우수하고 저장안정성이 높아, 이를 전구체로 이용하여 고밀도 및 고순도의 4족 전이금속함유 박막 및 이의 제조방법을 제공할 수 있다.
Int. CL C07F 7/28 (2006.01.01) C07F 7/00 (2006.01.01) C23C 16/40 (2006.01.01) C23C 16/455 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01) H01L 21/285 (2006.01.01)
CPC C07F 7/28(2013.01) C07F 7/28(2013.01) C07F 7/28(2013.01) C07F 7/28(2013.01) C07F 7/28(2013.01) C07F 7/28(2013.01)
출원번호/일자 1020180154452 (2018.12.04)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0067508 (2020.06.12) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.09.16)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박보근 대전광역시 유성구
2 정택모 대전광역시 유성구
3 김건환 대전광역시 유성구
4 이선주 대전광역시 유성구
5 이가연 대전광역시 서구
6 김창균 대전광역시 유성구
7 이영국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2018.12.04 수리 (Accepted) 1-1-2018-1213650-45
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2019.09.16 수리 (Accepted) 1-1-2019-0941088-26
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번호 청구항
1 1
하기 화학식1로 표시되는 4족 전이금속 화합물:[화학식1]상기 화학식1에서,M은 4족 전이금속이고;R1 및 R2는 각각 독립적으로 C1-C20알킬 또는 C3-C20시클로알킬이다
2 2
제 1항에 있어서,상기 화학식1에서,상기 M은 티타늄, 지르코늄 또는 하프늄이고;상기 R1 및 R2는 각각 독립적으로 C1-C7알킬인, 4족 전이금속 화합물
3 3
제 1항에 있어서,상기 화학식1에서,상기 M은 지르코늄 또는 하프늄이고;상기 R1은 분쇄형태의 C3-C7알킬이고;상기 R2는 직쇄형태의 C1-C7알킬인, 4족 전이금속 화합물
4 4
제 1항에 있어서,하기 구조에서 선택되는 것인, 4족 전이금속 화합물
5 5
하기 화학식A와 화학식B를 반응시켜, 하기 화학식1로 표시되는 4족 전이금속 화합물을 제조하는 방법:[화학식A][화학식B][화학식1]상기 화학식A, 화학식B 및 화학식1에서,M은 4족 전이금속이고;R 및 R'는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C20알킬이고;R1 및 R2는 각각 독립적으로 C1-C20알킬 또는 C3-C20시클로알킬이다
6 6
하기 화학식1로 표시되는 4족 전이금속 화합물을 포함하는 4족 전이금속함유 박막증착용 조성물:[화학식1]상기 화학식1에서,M은 4족 전이금속이고;R1 및 R2는 각각 독립적으로 C1-C20알킬 또는 C3-C20시클로알킬이다
7 7
제6항에 있어서,상기 4족 전이금속 화합물의 4족 전이금속은,티타늄, 지르코늄 또는 하프늄인, 4족 전이금속함유 박막증착용 조성물
8 8
제6항의 4족 전이금속함유 박막증착용 조성물을 이용하는 4족 전이금속함유 박막의 제조방법
9 9
제8항에 있어서,화학 기상 증착법(CVD) 또는 원자층 증착법(ALD)에 의하여 수행되는 것인, 4족 전이금속함유 박막의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
패밀리 정보가 없습니다

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2020116770 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 한국화학연구원 한국화학연구원 정부출연 일반사업 IoT 디바이스용 스마트 화학 소재 개발
2 산업통상자원부 한국화학연구원 소재부품기술개발사업 (RCMS)High-k/metal gate 공정용 박막내 carbon/halogen-free precursor 및 공정부품 개발