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유리 또는 플라스틱 기판; 및카르복시기 또는 에폭시기를 포함하는 고분자 수지 및 금속 촉매를 포함하는 복합체층;을 포함하며,상기 기판은 아민기를 포함하도록 표면 처리되어 있고,상기 기판의 아민기는 상기 고분자 수지의 카르복시기 또는 에폭시기와 가교되어 있는 것을 특징으로 하는 무전해 도금용 기판
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제1항에 있어서,상기 고분자 수지의 분자량은 30,000 내지 450,000의 범위인 것을 특징으로 하는 무전해 도금용 기판
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제1항에 있어서,상기 고분자 수지는 폴리아크릴산 수지인 것을 특징으로 하는 무전해 도금용 기판
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유리 또는 플라스틱 기판 표면을 아민기를 포함하는 처리제로 처리하는 단계;상기 처리된 유리 또는 플라스틱 기판에 카르복시기 또는 에폭시기를 포함하는 고분자 수지 및 금속 촉매를 포함하는 복합체층을 코팅하는 단계; 및상기 코팅된 유리 또는 플라스틱 기판을 열처리하는 단계;를 포함하고, 상기 기판은 아민기를 포함하도록 표면 처리되고, 상기 기판의 아민기는 상기 고분자 수지의 카르복시기 또는 에폭시기와 가교되는 것을 특징으로 하는 무전해 도금용 기판의 제조방법
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삭제
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제4항에 있어서,상기 고분자 수지의 분자량은 30,000 내지 450,000의 범위인 것을 특징으로 하는 무전해 도금용 기판의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 고분자 수지는 폴리아크릴산 수지인 것을 특징으로 하는 무전해 도금용 기판의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 열처리하는 단계는 150 내지 250 ℃의 온도범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 무전해 도금용 기판의 제조방법
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유리 또는 플라스틱 기판 표면을 아민기를 포함하는 처리제로 처리하는 단계;상기 처리된 기판에 카르복시기 또는 에폭시기를 포함하는 고분자 수지 및 금속 촉매를 포함하는 복합체층을 코팅하는 단계;상기 코팅된 기판을 열처리하는 단계; 및무전해 도금용 금속 이온액에 침지하는 단계;를 포함하고상기 기판은 아민기를 포함하도록 표면 처리되고, 상기 기판의 아민기는 상기 고분자 수지의 카르복시기 또는 에폭시기와 가교되는 것을 특징으로 하는 금속 도금방법
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삭제
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제9항에 있어서,상기 고분자 수지의 분자량은 30,000 내지 450,000의 범위인 것을 특징으로 하는 금속 도금방법
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제9항에 있어서,상기 고분자 수지는 폴리아크릴산 수지인 것을 특징으로 하는 금속 도금방법
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제9항에 있어서,상기 열처리하는 단계는 150 내지 250 ℃의 온도범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 금속 도금방법
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