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개구부를 구비한 진동부;상기 진동부에 연결되며, 적어도 일부분이 상기 개구부에 부양되도록 배치되며, 측정입자가 안착하는 공진부;상기 공진부에 빛을 조사하며, 상기 공진부의 진폭을 측정하는 측정부; 및상기 측정부와 연결되며, 상기 측정부에서 측정된 상기 공진부의 공명 진폭의 변화를 근거로 상기 측정입자의 질량을 측정하는 제어부;를 포함하고,상기 제어부는 상기 진동부에 상기 공진부가 기 설정된 진동수로 진동하도록 신호를 인가하여 상기 측정부에서 측정된 상기 공진부의 진폭을 근거로 상기 측정입자의 질량을 산출하며,상기 기 설정된 진동수는 상기 공진부의 공명 진폭 중 피크치로부터 비정형을 형성하는 부분의 가장 작은 상기 공진부의 공명 진폭과 상기 공진부의 공명 진폭 중 피크치 사이의 진동수이고,상기 기 설정된 진동수는 상기 피크치보다 큰 나노역학 측정시스템
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제 1 항에 있어서,상기 진동부와 연결되며, 상기 진동부가 기 설정된 진동수로 진동하도록 신호를 입력하는 신호인가부;를 포함하는 나노역학 측정시스템
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제 2 항에 있어서,상기 신호인가부는 상기 진동부에 전기신호 또는 물리적신호 중 하나를 입력하는 나노역학 측정시스템
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제 1 항에 있어서, 상기 측정부는, 레이저 빔을 생성하는 레이저생성부;상기 레이저생성부에서 방출되는 상기 레이저 빔을 상기 측정부 측으로 절곡시키는 굴절부;를 포함하는 나노역학 측정시스템
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제 4 항에 있어서,상기 측정부는, 상기 레이저생성부에서 생성된 상기 레이저 빔은 통과시키며, 상기 레이저 빔 중 적어도 일부가 상기 측정부에서 반사된 후 상기 굴절부에 의해 절곡된 상기 레이저 빔을 절곡시키는 선택적투과부; 및 상기 선택적투과부에서 절곡된 상기 레이저 빔을 감지하는 신호감지부;를 더 포함하는 나노역학 측정시스템
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제 1 항에 있어서, 상기 측정부에 연결되며, 상기 측정부의 전압을 기 설정된 전압으로 유지시키는 전압유지부;를 더 포함하는 나노역학 측정시스템
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제 1 항에 있어서, 상기 제어부와 상기 측정부 사이에 배치되며, 상기 측정부에서 측정된 상기 공진부의 진동수를 변조하는 신호변조부;를 더 포함하는 나노역학 측정시스템
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진동부에 신호를 인가하여 공진부의 진동수를 기 설정된 진동수를 갖도록 진동시키는 단계;상기 공진부에 측정입자가 안착하도록 상기 공진부에 상기 측정입자를 배치하는 단계;측정부에서 상기 공진부의 공명 진폭의 변화를 감지하는 단계;상기 공진부의 공명 진폭의 변화를 근거로 상기 측정입자의 질량을 측정하는 단계;를 포함하고,상기 기 설정된 진동수는 상기 공진부의 공명 진폭 중 피크치로부터 비정형을 형성하는 부분의 가장 작은 상기 공진부의 공명 진폭과 상기 공명부의 공명 진폭 중 피크치 사이의 진동수이며,상기 기 설정된 진동수는 상기 피크치보다 큰 나노역학 측정방법
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제 8 항에 있어서, 상기 진동부에 인가되는 신호는 전기 신호 또는 물리적신호 중 하나인 나노역학 측정방법
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