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표면 처리된 탄소재 전극, 그의 표면 처리 방법 및 그를 포함하는 아연-브롬 레독스 플로우 이차전지

  • 기술번호 : KST2020007583
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 표면 처리된 탄소재 전극, 그의 표면 처리 방법 및 그를 포함하는 아연-브롬 레독스 플로우 이차전지에 관한 것으로, 탄소재 전극의 표면 처리를 통해서 비표면적 확대, 표면 관능기 변화, 알칼리 금속 또는 금속이온을 도입하여 전해액과 탄소재 전극의 친화도를 향상시키고, 브롬의 산화 및 환원 반응을 촉진시켜 에너지 효율을 향상시키기 위한 것이다. 본 발명에 따른 탄소재 전극은 염기성 활성화제가 침지된 탄소재 전극을 불활성가스 또는 산소가스 분위기에 열처리하여 제조한다.
Int. CL H01M 4/96 (2006.01.01) H01M 8/18 (2015.01.01) H01M 8/2455 (2016.01.01) H01M 8/24 (2016.01.01) H01M 8/0258 (2016.01.01)
CPC H01M 4/96(2013.01) H01M 4/96(2013.01) H01M 4/96(2013.01) H01M 4/96(2013.01) H01M 4/96(2013.01)
출원번호/일자 1020180162856 (2018.12.17)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0074455 (2020.06.25) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.02.13)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김영권 경기도 성남시 분당구
2 이제남 경기도 성남시 분당구
3 유지상 경기도 용인시 수지구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박종한 대한민국 서울특별시 구로구 디지털로**길 * (구로동, 에이스하이엔드타워*차) ***호(한림특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.12.17 수리 (Accepted) 1-1-2018-1263151-80
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2020.02.13 수리 (Accepted) 1-1-2020-0155127-63
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.10.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
염기성 활성화제 용액에 탄소재 전극을 침지하는 단계; 및염기성 활성화제가 침지된 탄소재 전극을 불활성가스 또는 산소가스 분위기에 열처리하여 상기 탄소재 전극의 표면을 처리하는 단계;를 포함하는 아연-브롬 레독스 플로우 이차전지용 탄소재 전극의 표면 처리 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 표면을 처리하는 단계에서,상기 불활성가스 분위기에서의 열처리는 100 내지 1500℃에서 수행하는 것을 특징으로 하는 아연-브롬 레독스 플로우 이차전지용 탄소재 전극의 표면 처리 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 표면을 처리하는 단계에서,상기 산소가스 분위기에서의 열처리는 100 내지 800℃에서 수행하는 것을 특징으로 하는 아연-브롬 레독스 플로우 이차전지용 탄소재 전극의 표면 처리 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 염기성 활성화제는 KOH, NaOH 또는 MgCl2를 포함하는 특징으로 하는 아연-브롬 레독스 플로우 이차전지용 탄소재 전극의 표면 처리 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 탄소재 전극의 소재는 활성탄, 그라파이트, 하드카본 또는 다공성 탄소재를 포함하는 것을 특징으로 하는 아연-브롬 레독스 플로우 이차전지용 탄소재 전극의 표면 처리 방법
6 6
제5항에 있어서,상기 다공성 탄소재는 카본 펠트, 카본 클로스 또는 카본 페이퍼를 포함하는 것을 특징으로 하는 아연-브롬 레독스 플로우 이차전지용 탄소재 전극의 표면 처리 방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 표면을 처리하는 단계는,염기성 활성화제가 침지된 탄소재 전극을 건조하는 단계; 및건조된 탄소재 전극을 불활성가스 또는 산소가스 분위기에 열처리하여 상기 탄소재 전극의 표면을 처리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 아연-브롬 레독스 플로우 이차전지용 탄소재 전극의 표면 처리 방법
8 8
염기성 활성화제가 침지된 탄소재 전극을 불활성가스 또는 산소가스 분위기에 열처리하여 제조한 아연-브롬 레독스 플로우 이차전지용 표면 처리된 탄소재 전극
9 9
제8항에 있어서,상기 탄소재 전극은 양극인 것을 특징으로 하는 아연-브롬 레독스 플로우 이차전지
10 10
분리막, 상기 분리막을 사이에 두고 서로 마주보게 배치된 제1 전극과 제2 전극, 상기 제1 전극과 제2 전극에 각각 결합되어 상기 제1 및 제2 전극으로 전해액을 흘려주는 제1 및 제2 플로우 프레임을 구비하며 스택되는 복수의 단위 셀; 및상기 복수의 단위 셀 사이에 개재되고, 스택된 복수의 단위 셀의 양쪽에 스택되는 복수의 바이폴라 플레이트;를 포함하며,상기 제1 및 제2 전극 중 양극은 염기성 활성화제가 침지된 탄소재 전극을 불활성가스 또는 산소가스 분위기에 열처리하여 제조한 표면 처리된 탄소재 전극인 것을 특징으로 하는 아연-브롬 레독스 플로우 이차전지
11 11
제10항에 있어서,상기 염기성 활성화제는 KOH, NaOH 또는 MgCl2를 포함하는 특징으로 하는 아연-브롬 레독스 플로우 이차전지
12 12
제10항에 있어서,상기 탄소재 전극의 소재는 활성탄, 그라파이트, 하드카본 또는 다공성 탄소재를 포함하는 것을 특징으로 하는 아연-브롬 레독스 플로우 이차전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 전자부품연구원 산업기술혁신사업(에너지기술개발사업) 아연-브롬 흐름전지용 유로가 도입된 비대칭 복합 바이폴라전극 및 스택 기술 개발