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증강현실(AR: Augmented Reality) 이미지를 생성하여, 사용자에 인지되는 실제 환경 상에 상기 증강현실 이미지를 중첩하여 출력하는 증강현실 광학계; 및상기 증강현실 광학계가 광학적으로 실제 환경에 노출되는 방향에 배치되어, 실제 환경 상의 명도 또는 밝기를 감쇄하는 광 감쇄부를 포함하는 것을 특징으로 하는 증강현실 광학 장치
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제1항에 있어서,상기 광 감쇄부는,부분 별로 선택적으로 광을 감쇄시킬 수 있는 광학소자인 것을 특징으로 하는 증강현실 광학 장치
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제2항에 있어서,상기 광 감쇄부는,게스트 호스트 액정(Guest-Host Liquid Crystal)인 것을 특징으로 하는 증강현실 광학 장치
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제1항에 있어서,상기 광 감쇄부는,실제 환경 상의 명도가 증가하면, 광 감쇄량을 증가시키는 것을 특징으로 하는 증강현실 광학 장치
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사용자에 인지되는 실제 환경 상에 증강현실 이미지를 중첩하여 출력하는 증강현실 광학장치에 대해, 실제 환경 상의 명도 또는 밝기를 감쇄하는 반응형 광 감쇄장치에 있어서,상기 증강현실 광학계가 광학적으로 실제 환경에 노출되는 방향에 배치되어, 실제 환경 상의 명도 또는 밝기를 감쇄하는 광 감쇄부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반응형 광 감쇄장치
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제5항에 있어서,상기 광 감쇄부는,부분 별로 선택적으로 광을 감쇄시킬 수 있는 광학소자인 것을 특징으로 하는 반응형 광 감쇄장치
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제6항에 있어서,상기 광 감쇄부는,게스트 호스트 액정(Guest-Host Liquid Crystal)인 것을 특징으로 하는 반응형 광 감쇄장치
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제5항에 있어서,상기 광 감쇄부는,실제 환경 상의 명도가 증가하면, 광 감쇄량을 증가시키는 것을 특징으로 하는 반응형 광 감쇄장치
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사용자에 인지되는 실제 환경 상에 증강현실 이미지를 중첩하여 출력하는 증강현실 광학장치에 대해, 실제 환경 상의 명도 또는 밝기를 감쇄하는 반응형 광 감쇄방법에 있어서,상기 증강현실 광학계가 광학적으로 실제 환경에 노출되는 방향에 배치되어, 실제 환경 상의 명도 또는 밝기를 감쇄하는 감쇄과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 반응형 광 감쇄방법
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제9항에 있어서,상기 감쇄과정은,부분 별로 선택적으로 광을 감쇄시키는 것을 특징으로 하는 반응형 광 감쇄방법
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제9항에 있어서,상기 감쇄과정은,실제 환경 상의 명도가 증가하면, 광 감쇄량을 증가시키는 것을 특징으로 하는 반응형 광 감쇄방법
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증강현실 광학 장치가 명도를 조절하여 증강현실 이미지를 출력하는 방법에 있어서,실제 환경 상의 명도를 감지하는 감지과정;감지된 실제 환경 상의 명도에 따라, 실제 환경 상의 명도를 감쇄하는 감쇄과정;증강현실 이미지를 생성하는 생성과정; 및실제 환경 상에 상기 증강현실 이미지를 중첩하여 출력하는 출력과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 증강현실 이미지 출력방법
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제12항에 있어서,상기 감쇄과정은,부분 별로 선택적으로 광을 감쇄시키는 것을 특징으로 하는 증강현실 이미지 출력방법
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제12항에 있어서,상기 감쇄과정은,실제 환경 상의 명도가 증가하면, 광 감쇄량을 증가시키는 것을 특징으로 하는 증강현실 이미지 출력방법
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