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기판 위에 광산란 매질층을 형성하는 단계;상기 광산란 매질층 상부에 적어도 하나의 금속 성분을 포함하고 있는 금속잉크를 이용하여 프린팅 방식으로 형성된 일정한 패턴을 가지는 금속잉크층을 형성하는 단계;상기 광산란 매질층 및 상기 금속잉크층에 열처리를 가해 마스크층을 형성하는 단계; 및상기 광산란 매질층 및 상기 마스크층을 삭각하여 요철 구조를 형성하는 단계:를 포함하는 유기 발광 소자 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금속잉크층을 형성하는 단계는,광파장의 효율성에 기초하여 서로 다른 크기, 모양 및 간격을 가지는 패턴이 형성된 금속잉크층을 형성하는 단계를 포함하는 유기 발광 소자 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금속잉크층을 형성하는 단계는,원, 타원, 삼각형, 사각형 및 마름모 중 적어도 하나의 모양으로 패턴이 형성된 금속잉크층을 형성하는 단계를 포함하는 유기 발광 소자 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금속잉크층의 두께는,0
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제1항에 있어서,상기 금속잉크층의 간격은,0
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제1항에 있어서,상기 금속잉크층은,은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 백금(Pt), 팔라듈(Pd), 알류미늄(Al) 및 몰리브덴(Mo) 중 적어도 하나를 포함하는 유기 발광 소자 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 프린팅 방식은,리버스 옵세 프린팅(Reverse Offset Printing), 그라비아옵세 프린팅(Gravure Offset Printing), 잉크젯 프린팅(Inkjet Printing), 스크린 프린팅(Screen Printing) 및 임프린팅(Imprinting) 방식 중 적어도 하나를 포함하는 유기 발광 소자 제조 방법
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제1항 있어서,상기 기판은, 유리기판 및 유연기판 중 적어도 하나를 포함하고, 상기 광산란 매질층은, 이산화규소(SiO2), 이산화티타늄(TiO2), 이산화지르코늄(ZrO2), 산화주석(SnOx), 삼산화이알루미늄(Al2O3), 삼산화이인듐(In2O3) 및 질화규소(SiNx) 중 어느 하나를 포함하는 유기 발광 소자 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 열처리를 가하는 단계는,60°C 내지 300°C 범위에서 열처리 과정을 수행하는 단계를 포함하는 유기 발광 소자 제조 방법
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제1항에 내지 제9항의 방법에 의해 제조된 유기 발광 소자
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기판; 및상기 기판 상부에 위치하는 광산란 매질층과 상기 광산란 매질층 상부에 위치하는 금속잉크층에 열처리를 가한 후 삭각하여 생성된 요철 구조;를 포함하고상기 금속 잉크층은, 프린팅 방식을 이용하여 목표하는 광파장의 효율성에 따라 서로 다른 크기, 모양 및 간격을 가지는 패턴이 형성된 유기 발광 소자
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