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Ti 기판(Ti substrate)의 상측에 전기도금 방식을 이용하여 제1막을 형성시키는 단계;E-Beam 진공증착법(Electronic-Beam Evaporator)을 이용하여 상기 제1막의 상측에 제2막을 증착시키는 단계;상기 제1막을 형성시키는 단계와 상기 제2막을 증착시키는 단계를 교대로 반복 수행하여 상기 Ti 기판의 상측에 다층 구조가 형성된 다층구조 전극을 제조하는 단계;상기 다층구조 전극에 부동화 피막(passivation film)인 제1피막을 만들어주는 단계; 및상기 제1피막이 부동화 피막으로 작용할 수 있도록 제1피막이 만들어진 상기 다층구조 전극에 제2피막을 만들어주는 단계를 포함하는, 수소수 생산용 전극 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1막을 형성시키는 단계는,망간(Mn), 철(Fe), 구리(Cu), 니켈(Ni) 및 루테늄(Ru) 중 적어도 하나의 금속을 전기도금하여 제1막을 형성시키는, 수소수 생산용 전극 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제2막을 증착시키는 단계는,비백금계 촉매재료를 이용하여 제2막을 증착시키는, 수소수 생산용 전극 제조 방법
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제3항에 있어서, 상기 제2막을 증착시키는 단계는,비백금계 촉매로서 팔라듐(Pd)이 사용되는, 수소수 생산용 전극 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1피막을 만들어주는 단계는,부동화 피막 물질로서 메탄올 베이스의 PVB(Poly Vinyl Butyral) 용액을 이용하는, 수소수 생산용 전극 제조 방법
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제5항에 있어서, 상기 제1피막을 만들어주는 단계는,PVB 용액을 dip coating 또는 drop-casting 0026# spin-coating을 이용하여 제1피막을 만들어주는, 수소수 생산용 전극 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제2피막을 만들어주는 단계는,극초순수(Deionized Water)를 이용하여 상기 제2피막을 만들어주는, 수소수 생산용 전극 제조 방법
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제7항에 있어서, 상기 제2피막을 만들어주는 단계는,극초순수(Deionized Water)를 dip coating 또는 drop-casting 0026# spin-coating을 이용하여 제1피막을 만들어주는, 수소수 생산용 전극 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1막을 형성시키는 단계 이전에,상기 Ti 기판을 클리닝하는 공정을 더 포함하는, 수소수 생산용 전극 제조 방법
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제1항 내지 제9항 중 어느 하나의 항에 의해 제조된 수소수 생산용 전극
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