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기판 상에 블록공중합체를 포함하는 소스 용액을 제공하는 단계;상기 소스 용액이 제공된 상기 기판을 열처리하여, 상기 기판 상에 상기 블록공중합체의 블록들이 자기조립(self-assembly)된 복수의 가이드 패턴을 형성하는 단계;상기 기판 및 상기 가이드 패턴 상에 금속을 포함하는 베이스 물질을 제공하여, 코팅막을 형성하는 단계; 상기 코팅막을 디웨팅(dewetting)시켜, 상기 기판 상의 상기 복수의 가이드 패턴 사이에, 상기 금속을 포함하는 타겟 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 가이드 패턴을 선택적으로 제거하여, 상기 기판 상에 상기 타겟 패턴을 잔존시키는 단계를 포함하되, 상기 코팅막을 형성하는 단계는, 상기 가이드 패턴 상에 제1 금속을 포함하는 제1 베이스 물질을 제공하여 제1 코팅막을 형성하는 단계, 및상기 제1 코팅막 상에 제2 금속을 포함하는 제2 베이스 물질을 제공하여 제2 코팅막을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 타겟 패턴을 형성하는 단계는, 상기 제1 및 제2 코팅막을 디웨팅 시키는 단계를 포함하되, 상기 타겟 패턴은, 상기 제1 및 제2 금속이 혼재된 복수의 하이브리드 닷(dot)들이 서로 이격되어 집합된 집합 패턴을 포함하는 금속 미세패턴의 제조방법
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제1 항에 있어서, 상기 타겟 패턴은, 복수의 닷(dot)들이 서로 이격되어 집합된 집합 패턴을 포함하는 금속 미세패턴의 제조방법
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제1 항에 있어서, 상기 하이브리드 닷은, 상기 제1 금속의 비율이 상기 제2 금속의 비율보다 높은 제1 금속 영역, 및 상기 제2 금속의 비율이 상기 제1 금속의 비율보다 높은 제2 금속 영역을 포함하는 금속 미세패턴의 제조방법
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제1 항에 있어서, 상기 코팅막은, 상기 기판 및 상기 가이드 패턴을 콘포말하게(conformally) 덮는 것을 포함하는 금속 미세패턴의 제조방법
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제5 항에 있어서, 상기 타겟 패턴을 형성하는 단계는, 디웨팅된 상기 코팅막이 상기 가이드 패턴의 상부면으로부터 측면으로 이동되는 것을 포함하는 금속 미세패턴의 제조방법
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제5 항에 있어서, 상기 타겟 패턴을 형성하는 단계는, 디웨팅된 상기 코팅막이 상기 복수의 가이드 패턴 사이의 빈 공간(empty space)을 채우는 것을 포함하는 금속 미세패턴의 제조방법
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제1 항에 있어서, 상기 타겟 패턴의 형상은, 상기 가이드 패턴의 형상에 따라 제어되는 것을 포함하는 금속 미세패턴의 제조방법
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제1 항에 있어서, 상기 블록공중합체의 종류에 따라, 상기 가이드 패턴의 형상이 제어되는 것을 포함하는 금속 미세패턴의 제조방법
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제1 항에 있어서, 상기 타겟 패턴의 형상은 Line 형상, 또는 Hole 형상을 포함하는 금속 미세패턴의 제조방법
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제1 항에 있어서, 상기 가이드 패턴을 형성하는 단계는, 상기 소스 용액이 제공된 상기 기판을 열처리하는 단계; 상기 기판 상에 상기 블록공중합체의 블록들이 자기조립된 복수의 가이드 패턴, 및 상기 블록공중합체의 블록을 제외한 물질들이 열처리된 고분자막을 형성하는 단계; 및 상기 고분자막을 제거하는 단계를 포함하는 금속 미세패턴의 제조방법
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제1 항에 있어서, 상기 소스 용액이 제공된 상기 기판은 solvent를 포함하는 챔버 내에서 열처리되는 것을 포함하는 금속 미세패턴의 제조방법
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제12 항에 있어서, 상기 solvent는 톨루엔(toluene), 아세톤(acetone) 중 어느 하나를 포함하는 금속 미세패턴의 제조방법
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제13 항에 있어서, 상기 블록공중합체는 PS-b-PDMS, 및 PS-P2VP 중 어느 하나를 포함하는 금속 미세패턴의 제조방법
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