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베이스 나노입자, 및 상기 베이스 나노입자를 둘러싸는 자기조립단분자막(self-assembled monolayer, SAM)을 포함하는 복합 입자들을 포함하고, 상기 복합 입자들이 응집된 오목부 및 볼록부를 포함하는 지지(support) 패턴; 및 상기 지지 패턴을 덮고, 윤활 물질을 포함하는 윤활 코팅막을 포함하는 SLIPS 오염 방지 구조체
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제1 항에 있어서, 상기 베이스 나노입자는 친수성을 나타나내고, 상기 복합 입자는 소수성을 나타내는 SLIPS 오염 방지 구조체
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제1 항에 있어서, 상기 베이스 나노입자는, SiO2, TiO2, ZnO, CaCO3, Al2O3, ZrO2 중 적어도 어느 하나를 포함하는 SLIPS 오염 방지 구조체
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제1 항에 있어서, 상기 베이스 나노입자는, 5~25 nm 의 크기를 갖는 SLIPS 오염 방지 구조체
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제1 항에 있어서, 상기 지지 패턴의 수분 접촉각은, 150° 이상인 것을 포함하는 SLIPS 오염 방지 구조체
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제1 항에 있어서, 상기 윤활 코팅막은, 상기 지지 패턴에 의하여 고정되는 것을 포함하는 SLIPS 오염 방지 구조체
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제1 항에 있어서,상기 윤활 물질은, silicon oil 및 fluorinated oil 중 적어도 어느 하나를 포함하는 SLIPS 오염 방지 구조체
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제1 항에 있어서,상기 SLIPS 오염 방지 구조체의 수분 접촉각은, 100° 이하인 것을 포함하는 SLIPS 오염 방지 구조체
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제8 항에 있어서,상기 SLIPS 오염 방지 구조체 표면의 표면으로부터 소정거리 이격된 상태에서, 상기 SLIPS 오염 방지 구조체의 표면으로 제공된 액적(droplet)은, 상기 SLIPS 오염 방지 구조체의 표면에 흡착되어, 표면을 따라 흘러내리는 것을 포함하는 SLIPS 오염 방지 구조체
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베이스 나노입자, 및 상기 베이스 나노입자를 둘러싸는 자기조립단분자막을 포함하는 복합 입자를 포함하는 소스 용액을 준비하는 단계;상기 소스 용액을 기판 상에 제공하여, 상기 복합 입자들이 응집되어 형성되는 오목부 및 볼록부를 포함하는 지지 패턴을 형성하는 단계; 및상기 지지 패턴 상에 윤활 물질을 제공하여, 상기 지지 패턴을 덮는 윤활 코팅막을 형성하는 단계를 포함하는 SLIPS 오염 방지 구조체의 제조방법
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제10 항에 있어서, 상기 소스 용액을 준비하는 단계는, 상기 베이스 나노입자, 자기조립단분자막 형성물질, 및 제1 용매를 혼합하여 예비 소스 용액을 제조하는 단계; 상기 예비 소스 용액을 건조시켜, 상기 예비 소스 용액으로부터 상기 복합 입자를 추출하는 단계; 및 상기 복합 입자를 제2 용매와 혼합하는 단계를 포함하는 SLIPS 오염 방지 구조체의 제조방법
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제11 항에 있어서, 상기 예비 소스 용액 제조단계에서, 상기 베이스 나노입자의 -OH기와 상기 자기조립단분자막 형성물질의 작용기가 반응하여, 상기 베이스 나노입자를 둘러싸는 상기 자기조립단분자막이 형성되는 것을 포함하는 SLIPS 오염 방지 구조체의 제조방법
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제11 항에 있어서,상기 자기조립단분자막 형성물질은, silane계 물질, fatty acid계 물질, 및 thiol계 물질 중 적어도 어느 하나를 포함하는 SLIPS 오염 방지 구조체의 제조방법
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