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고출력 위상 천이 분포 궤환 레이저 다이오드

  • 기술번호 : KST2020009029
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요약 본 발명은 위상 천이 분포 궤환 레이저 다이오드를 개시한다. 그의 레이저 다이오드는 레이저 다이오드 영역과 위상 조절 영역을 갖는 기판과, 상기 기판 상의 도파로 층과, 상기 도파로 층 상의 클래드 층과, 상기 레이저 다이오드 영역의 상기 클래드 층 내의 그레이팅과, 상기 레이저 다이오드 영역에 인접하는 상기 기판, 상기 도파로 층 및 상기 클레드 층의 일측 측벽에 배치되는 무반사막과, 상기 위상 조절 영역에 인접하는 상기 기판, 상기 도파로 층 및 상기 클래드 층의 타측 측벽에 배치되는 고반사막을 포함한다.
Int. CL H01S 5/12 (2015.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020190080136 (2019.07.03)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0083149 (2020.07.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020180171305   |   2018.12.27
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.02.04)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김남제 대전광역시 유성구
2 권오균 대전광역시 유성구
3 박미란 대전시 유성구
4 김태수 대전광역시 유성구
5 안신모 대전광역시 유성구
6 한원석 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.07.03 수리 (Accepted) 1-1-2019-0683029-68
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2020.02.04 수리 (Accepted) 1-1-2020-0114620-66
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
레이저 다이오드 영역과 위상 조절 영역을 갖는 기판;상기 기판 상의 도파로 층;상기 도파로 층 상의 클래드 층; 상기 레이저 다이오드 영역의 상기 클래드 층 내의 그레이팅;상기 레이저 다이오드 영역에 인접하는 상기 기판, 상기 도파로 층 및 상기 클레드 층의 일측 측벽에 배치되는 무반사막; 및상기 위상 조절 영역에 인접하는 상기 기판, 상기 도파로 층 및 상기 클래드 층의 타측 측벽에 배치되는 고반사막을 포함하되,상기 기판의 상기 레이저 다이오드 영역은:제 1 및 제 2 레이저 다이오드 영역들; 및상기 제 1 및 제 2 레이저 다이오드 영역들 사이의 위상 천이 영역을 포함하되,상기 그레이팅은:상기 제 1 레이저 다이오드 영역의 상기 클래드 층 내에 배치된 제 1 그레이팅; 및상기 제 2 레이저 다이오드 영역의 상기 클래드 층 내에 배치되고, 상기 제 1 그레이팅의 주기와 다른 주기를 갖는 제 2 그레이팅을 포함하는 분포 궤환 레이저 다이오드
2 2
제 1 항에 있어서,상기 제 2 그레이팅의 주기는 상기 제 1 그레이팅의 주기의 3배로 큰 분포 궤환 레이저 다이오드
3 3
제 2 항에 있어서,상기 제 1 그레이팅의 주기는 240nm이고, 상기 제 2 그레이팅의 주기는 720nm인 분포 궤환 레이저 다이오드
4 4
제 1 항에 있어서,상기 레이저 다이오드 영역 및 상기 위상 조절 영역의 상기 클래드 층 상에 각각 배치된 제 1 및 제 2 전극들을 더 포함하는 분포 궤환 레이저 다이오드
5 5
제 4 항에 있어서,상기 제 1 전극 상의 제 1 절연 층; 그리고상기 제 1 절연 층 상의 제 1 히터를 더 포함하는 분포 궤환 레이저 다이오드
6 6
제 1 항에 있어서,상기 위상 조절 영역의 상기 클래드 층 상의 제 2 절연 층; 그리고상기 제 2 절연 층 상의 제 2 히터를 더 포함하는 분포 궤환 레이이저 다이오드
7 7
제 1 항에 있어서,상기 기판은 상기 무반사막과 상기 레이저 다이오드 영역 사이의 증폭 영역을 더 포함하는 분포 궤환 레이저 다이오드
8 8
제 7 항에 있어서,상기 증폭 영역의 상기 클래드 층 상의 제 3 전극을 더 포함하는 분포 궤환 레이저 다이오드
9 9
제 1 항에 있어서,상기 기판은 상기 무반사막과 상기 레이저 다이오드 영역의 타측에 배치되는 변조 영역을 더 포함하는 분포 궤환 레이저 다이오드
10 10
제 9 항에 있어서,상기 변조 영역의 상기 클래드 층 상의 제 4 전극을 더 포함하는 분포 궤환 레이저 다이오드
11 11
제 1 항에 있어서,  상기 레이저 다이오드 영역의 상기 도파로 층 내의 양자 우물 층을 더 포함하는 분포 궤환 레이저 다이오드
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1 미래창조과학부 (주)에치에프알 범부처 Giga KOREA사업 5G 이동통신 기지국용 디지털기반 프론트홀 광링크기술 개발