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p-하이드록시아세토페논의 제조방법 및 p-하이드록시아세토페논을 포함하는 화장료 조성물

  • 기술번호 : KST2020009299
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 개시되는 p-하이드록시아세토페논의 제조방법은, 페닐아세테이트를 준비하는 제1 단계; 및 상기 페닐아세테이트를 할로알킬에테르류, 알킬아세테이트류 및 할로알킬에테르류와 알킬아세테이트류의 혼합물 중에서 선택된 용매하에서 설정된 산촉매를 이용하여 반응시킨 후 감압증류를 통해 p-하이드록시아세토페논을 얻는 제2 단계;를 포함한다.
Int. CL C07C 45/41 (2006.01.01) C07C 45/82 (2006.01.01) C07C 49/825 (2006.01.01) A61K 8/35 (2006.01.01) A61Q 19/00 (2006.01.01)
CPC C07C 45/41(2013.01) C07C 45/41(2013.01) C07C 45/41(2013.01) C07C 45/41(2013.01) C07C 45/41(2013.01) C07C 45/41(2013.01)
출원번호/일자 1020180173170 (2018.12.28)
출원인 노승호, 한국화학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0082514 (2020.07.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.12.28)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 노승호 대한민국 충청북도 청주시 흥덕구
2 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 노승호 대한민국 충청북도 청주시 흥덕구
2 장경화 충청북도 청주시 서원구
3 김문환 대전광역시 서구
4 최륜화 대전광역시 서구
5 김나래 대전광역시 유성구
6 김상훈 경기도 화성

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 명장 대한민국 충청북도 청주시 서원구 산남로**번길 **, ***호(산남동, 원홍빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2018-1320837-63
2 보정요구서
Request for Amendment
2019.01.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2019-0005198-34
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2019.01.09 수리 (Accepted) 1-1-2019-0025732-92
4 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2019.01.10 수리 (Accepted) 1-1-2019-0034708-17
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.01.23 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2020.03.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2020-0048708-17
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.04.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0290727-72
8 [지정기간연장]기간 연장신청서·기간 단축신청서·기간 경과 구제신청서·절차 계속신청서
2020.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2020-0653158-15
9 [지정기간연장]기간 연장신청서·기간 단축신청서·기간 경과 구제신청서·절차 계속신청서
2020.07.24 수리 (Accepted) 1-1-2020-0778876-21
10 보정요구서
Request for Amendment
2020.08.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2020-0114010-18
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.08.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0890271-14
12 [출원서 등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2020.08.24 수리 (Accepted) 1-1-2020-0809765-89
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번호 청구항
1 1
페닐아세테이트를 준비하는 제1 단계; 및상기 페닐아세테이트를 할로알킬에테르류, 알킬아세테이트류 및 할로알킬에테르류와 알킬아세테이트류의 혼합물 중에서 선택된 용매하에서 설정된 산촉매를 이용하여 반응시킨 후 감압증류를 통해 p-하이드록시아세토페논을 얻는 제2 단계;를 포함하는 p-하이드록시아세토페논의 제조방법
2 2
청구항 1에 있어서,상기 할로알킬에테르류는 Bis(2-chloroethyl) Ether, 1-chloro-3-methoxy propane, 2-chloroethyl ethyl ether, 1,2-Bis(2-chloroethoxy) ethane, 2-Chloro ethyl Chloromethyl Ether 및 2-Chloroethyl Propyl Ether 중에서 선택된 적어도 하나의 물질인 것을 특징으로 하는 p-하이드록시아세토페논의 제조방법
3 3
청구항 1에 있어서,상기 알킬아세테이트류는 Methyl Acetate, Ethyl Acetate, Isopropyl Acetate 및 Cyclohexyl Acetate 중에서 선택된 적어도 하나의 물질인 것을 특징으로 하는 p-하이드록시아세토페논의 제조방법
4 4
청구항 1에 있어서상기 산촉매는 Aluminium Chloride, Trifluoromethanesulfonic acid, Hydrochloric acid, hydrofluoric acid 및 Paratoluene acid 중에서 선택된 적어도 하나의 물질인 것을 특징으로 하는 p-하이드록시아세토페논의 제조방법
5 5
청구항 1에 있어서,상기 제2 단계는, 상기 페닐아세테이트를 할로알킬에테르류, 알킬아세테이트류 및 할로알킬에테르류와 알킬아세테이트류의 혼합물 중에서 선택된 용매하에서 설정된 산촉매를 이용하여 0℃ 내지 80℃에서 6시간 내지 48시간 반응시킨 후 감압증류를 통해 용매와 부반응물을 제거하고, 얼음물을 가한 다음 에틸아세테이트로 추출하고, 감압 증류를 통해 crude한 p-하이드록시아세토페논을 얻는 것을 특징으로 하는 p-하이드록시아세토페논의 제조방법
6 6
청구항 5에 있어서,상기 할로알킬에테르류 또는 상기 알킬아세테이트류는 상기 페닐아세페이트 중량 대비 1 내지 5배 중량으로 하고, 상기 산촉매는 상기 페닐아세테이트 대비 1
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청구항 5에 있어서,상기 제2 단계의 결과물인 상기 p-하이드록시아세토페논에 물을 상기 p-하이드록시아세토페논의 중량대비 2배 내지 100배로 사용하고, 설정된 산류를 상기 물의 중량 대비 0
8 8
청구항 7에 있어서,상기 산류는, Hydrochloric acid, Sulfuric acid, nitric acid, Boric acid, 및 Carbonic acid 중에서 선택된 적어도 하나의 물질인 것을 특징으로 하는 p-하이드록시아세토페논의 제조방법
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청구항 1의 제조방법에 의해 얻어지는 p-하이드록시아세토페논을 포함하는 화장료 조성물,
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청구항 9에 있어서,상기 p-하이드록시아세토페논은 화장료 조성물 총 중량에 대하여 0
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청구항 10에 있어서,상기 화장료 조성물은 제형이 유연화장수, 수렴화장수, 영양화장수, 영양크림, 마사지크림, 에센스, 아이에센스, 아이크림, 클렌징크림, 클렌징폼, 클렌징 워터, 팩 및 파우더 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 화장료 조성물
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 중소벤처기업부 썬켐텍 창업성장기술개발 방부력이 우수한 화장품용 아세토페논계 보존제 Booster 개발