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광을 발생하는 광 발생기;상기 광을 선형 편광하는 제1 선형 편광자;상기 선형 편광된 광을 제1 광 및 제2 광으로 분리하고, 상기 제1 광과 상기 제2 광이 위상 차이 정보를 갖도록 변조하는 편광 간섭계; 상기 편광 간섭계로부터의 출력 광을 제1 방향의 라인 형상으로 변환하여 측정 대상물로 제공하는 라인 변환기;상기 측정 대상물을 로딩하고, 상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향으로 스캔하거나, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향에 직교하는 제3 방향을 축으로 회전 스캔하도록 구성된 스캐너;상기 출력 광이 상기 측정 대상물을 투과 또는 반사한 측정 광을 수광하고, 상기 측정 광의 상기 제1 광 및 상기 제2 광을 선형 편광하여 간섭 광을 생성하는 제2 선형 편광자; 및상기 간섭 광을 제공받아 상기 측정 대상물의 이미지를 얻는 이미징 분광기를 포함하는 검사 장치
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청구항 1에 있어서,상기 라인 변환기는 상기 제1 방향으로 신장된 실린더형 렌즈인 검사 장치
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청구항 1에 있어서, 상기 간섭 광을 상기 제1 방향의 라인 형상으로 변환하여 상기 이미징 분광기로 제공하는 이미징 렌즈를 더 포함하는 검사 장치
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청구항 1에 있어서,상기 제1 방향 및 상기 제2 방향은 직교하는 검사 장치
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청구항 1에 있어서,상기 편광 간섭계는:상기 선형 편광된 광을 상기 제1 광 및 상기 제2 광으로 분리하고, 상기 선형 편광된 광이 입사되는 입사면, 상기 제1 광이 입사되는 제1 반사면, 및 상기 제2 광이 입사되는 제2 반사면을 갖고, 상기 제1 반사면은 상기 입사면을 마주하고 상기 제1 반사면과 상기 제2 반사면은 서로 인접하는 편광 분리부; 상기 제1 반사면 상에 배치된 제1 미러; 및상기 제2 반사면 상에 배치된 제2 미러를 포함하는 검사 장치
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청구항 5에 있어서,상기 제1 반사면으로부터 상기 제1 미러까지 왕복하는 상기 제1 광의 광 경로 길이와 상기 제2 반사면으로부터 상기 제2 미러까지 왕복하는 상기 제2 광의 광 경로 길이는 다른 검사 장치
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청구항 6에 있어서,상기 제1 광과 상기 제2 광의 광 경로 차이는 10 ~ 100μm인 검사 장치
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8
청구항 5에 있어서,상기 제1 미러와 상기 제2 미러는 수직에서 벗어나는 각도를 갖는 검사 장치
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청구항 8에 있어서,상기 벗어나는 각도는 0
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10
청구항 5에 있어서,상기 출력 광은 상기 측정 대상물의 수직 방향에서 벗어나는 측정 각도로 조사되고, 상기 측정 광은 상기 측정 대상물의 수직 방향에서 벗어나는 상기 측정 각도로 반사되는 검사 장치
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청구항 10에 있어서,상기 출력 광의 방향, 상기 측정 광의 방향, 및 상기 제2 방향은 동일한 평면에서 제공되는 검사 장치
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12
청구항 10에 있어서,상기 편광 분리부는 비편광 빔 스플리터이고,상기 편광 간섭계는:상기 편광 분리부의 상기 제1 반사면과 상기 제1 미러 사이의 제1 서브 선형편광자; 및 상기 편광 분리부의 상기 제2 반사면과 상기 제2 미러 사이의 제2 서브 선형편광자를 더 포함하고,상기 제1 서브 선형편광자와 상기 제2 서브 선형편광자는 90° 만큼의 편광 차이를 갖는 검사 장치
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13
청구항 12에 있어서,상기 라인 변환기는 상기 편광 간섭계와 상기 측정 대상물 사이에 배치되는 검사 장치
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청구항 10에 있어서,상기 편광 분리부는 편광 빔 스플리터이고,상기 제1 선형 편광자와 상기 편광 간섭계 사이에 배치되어, 상기 선형 편광된 광을 상기 편광 간섭계에 제공하고, 상기 출력 광을 상기 측정 대상물로 제공하는 비편광 빔 스플리터를 더 포함하는 검사 장치
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청구항 14에 있어서,상기 라인 변환기는 상기 비편광 빔 스플리터와 상기 측정 대상물 사이에 배치되는 검사 장치
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청구항 5에 있어서,상기 출력 광은 상기 측정 대상물에 수직 입사되고, 상기 측정 광은 상기 측정 대상물로부터 수직 반사되도록 구성되는 검사 장치
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17
청구항 16에 있어서,상기 편광 간섭계에 인접하게 배치되어, 상기 출력 광을 상기 측정 대상물로 제공하는 비편광 빔 스플리터를 더 포함하는 검사 장치
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18
청구항 17에 있어서,상기 라인 변환기는 상기 편광 간섭계와 상기 비편광 빔 스플리터 사이에 배치된 검사 장치
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청구항 18에 있어서,상기 출력 광은 상기 라인 변환기 및 상기 비편광 빔 스플리터를 통하여 상기 측정 대상물로 제공되고, 상기 측정 광은 상기 비편광 빔 스플리터를 통하여 상기 제2 선형 편광자로 제공되는 검사 장치
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청구항 1에 있어서,상기 간섭 광은 상기 이미징 분광기에 수직으로 입사되는 검사 장치
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청구항 1에 있어서,상기 광 발생기로부터의 상기 광은 백색 광인 검사 장치
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청구항 1에 있어서,상기 제1 광 및 상기 제2 광은 각각 P- 편광파 및 S- 편광파인 검사 장치
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광을 선형 편광하고;상기 선형 편광된 광을 제1 광 및 제2 광으로 분리하고;상기 제1 광 및 상기 제2 광이 위상 차이를 갖도록 변조하여 출력 광을 생성하고;상기 출력 광을 제1 방향의 라인 형상으로 변환하여 측정 대상물에 조사하고;상기 측정 대상물로부터의 측정 광을 수광하고, 상기 측정 광의 상기 제1 광 및 상기 제2 광을 선형 편광하여 간섭 광을 생성하고; 그리고상기 간섭 광으로부터 상기 측정 대상물의 이미지를 얻는 것을 포함하고,상기 측정 대상물은 상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향으로 스캔되거나, 상기 제1 방향과 상기 제2 방향에 직교하는 제3 방향을 축으로 회전 스캔되는 검사 방법
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청구항 23에 있어서,상기 간섭 광을 상기 제1 방향의 라인 형상으로 변환하는 것을 더 포함하는 검사 방법
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청구항 23에 있어서,상기 광은 단색 광이고, 상기 광의 파장은 가변되는 검사 방법
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청구항 23에 있어서,상기 광은 백색 광인 검사 방법
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청구항 23에 있어서,상기 간섭 광으로부터 상기 제1 방향의 축, 상기 제2 방향의 축, 및 상기 광의 파장 축에 대한 공간분광 타원 편광 정보는 얻는 것을 더 포함하고,상기 측정 대상물의 이미지는 상기 공간분광 타원 편광 정보로부터 추출되는 검사 방법
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청구항 23에 있어서,상기 제1 광 및 상기 제2 광은 각각 P- 편광파 및 S- 편광파인 검사 방법
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청구항 23에 있어서,상기 제1 방향 및 상기 제2 방향은 직교하는 검사 방법
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