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자유 곡면을 갖는 렌즈 베이스층;상기 렌즈 베이스층의 표면에 UV 레진을 드롭하고, 양각 형태의 나노 구조체들이 일정 간격 이격되어 형성되고 상기 렌즈 베이스층의 곡면과 동일한 곡면을 갖는 곡면 나노구조 필름 몰드를 이용한 UV 임프린트 공정으로 상기 렌즈 베이스층의 표면에 형성되는 나노구조층;을 포함하고, 상기 나노구조층은 음각 형태의 나노 패턴이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 패턴의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 렌즈 표면 나노구조층
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자유 곡면을 갖는 렌즈 베이스층;상기 렌즈 베이스층의 표면에 UV 레진을 드롭하고, 음각 형태의 나노 패턴들이 일정 간격 이격되어 형성되고 상기 렌즈 베이스층의 곡면과 동일한 곡면을 갖는 곡면 나노구조 필름 몰드를 이용한 UV 임프린트 공정으로 상기 렌즈 베이스층의 표면에 형성되는 나노구조층;을 포함하고,상기 나노구조층은 양각 형태의 나노 패턴이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 패턴의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 렌즈 표면 나노구조층
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자유 곡면을 갖는 렌즈 베이스층;양각 형태의 나노 구조체들이 일정 간격 이격되어 형성되어 상기 렌즈 베이스층의 곡면과 동일한 곡면을 갖는 곡면 나노구조 필름 몰드를 이용한 UV 임프린트 공정으로 상기 렌즈 베이스층의 표면에 형성되는 음각 형태로 형성되는 음각 나노구조층;음각 형태의 나노 패턴들이 일정 간격 이격되어 형성되고 상기 렌즈 베이스층의 곡면과 동일한 곡면을 갖는 곡면 나노구조 필름 몰드를 이용한 UV 임프린트 공정으로 상기 렌즈 베이스층 안쪽면에 양각 형태로 형성되는 양각 나노 구조층;을 포함하고,상기 음각 나노구조층 및 양각 나노 구조층은 나노 패턴이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 패턴의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 렌즈 표면 나노구조층
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제 3 항에 있어서, 상기 렌즈 베이스층의 표면에 양각 나노 구조층이 형성되고, 상기 렌즈 베이스층 안쪽면에 음각 나노구조층이 형성되는 것을 특징으로 하는 렌즈 표면 나노구조층
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제 1 항 또는 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 렌즈 표면에 형성되는 나노구조층에 의해 렌즈의 접촉각(Contact angle)이 110°이상이 되는 것을 특징으로 하는 렌즈 표면 나노구조층
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제 1 항 또는 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 렌즈 표면에 형성되는 나노구조층에 발수 코팅을 하여 접촉각(Contact angle)이 110°~ 140°범위를 갖도록 하여 자가세정이 가능하도록 한 것을 특징으로 하는 렌즈 표면 나노구조층
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7
각각의 나노 구조체들이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 구조의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 나노 구조 필름을 제조하는 단계;나노 구조 필름상에 나노 구조체의 손상을 억제하기 위한 보호층을 형성하는 단계;곡면을 갖는 렌즈 상에 보호층이 형성된 나노 구조 필름을 위치시키고 써멀 임프린트 공정을 진행하여 나노 구조 필름이 렌즈와 동일한 곡면을 갖도록 하는 단계;써멀 임프린트 공정시에 나노 구조 필름의 나노 구조체의 손상을 억제하는 역할을 하는 보호층을 제거하여 곡면 나노구조 필름 몰드를 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 렌즈 표면 나노구조층의 제조 방법
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8
각각의 나노 구조체들이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 구조의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 나노 구조 필름을 제조하는 단계;나노 구조 필름상에 나노 구조체의 손상을 억제하기 위한 보호층을 형성하는 단계;곡면을 갖는 렌즈 상에 보호층이 형성된 나노 구조 필름을 위치시키고 써멀 임프린트 공정을 진행하여 나노 구조 필름이 렌즈와 동일한 곡면을 갖도록 하는 단계;써멀 임프린트 공정시에 나노 구조 필름의 나노 구조체의 손상을 억제하는 역할을 하는 보호층을 제거하여 곡면 나노구조 필름 몰드를 제조하는 단계;곡면을 갖는 렌즈상에 UV 레진을 드롭하고 곡면 나노구조 필름 몰드를 이용한 UV 임프린트 공정으로 각각의 나노 구조체들이 일정 간격 이격되어 형성되고, 나노 구조의 주기가 광파장 이하의 크기를 갖는 나노구조층을 갖는 렌즈를 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 렌즈 표면 나노구조층의 제조 방법
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제 8 항에 있어서, 상기 렌즈에 형성되는 나노구조층은,렌즈 표면에 음각 형태로 형성되거나, 양각 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 렌즈 표면 나노구조층의 제조 방법
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10
제 9 항에 있어서, 렌즈에 형성되는 나노구조층이 음각 형태로 형성되는 경우에는,주기가 광파장 이하의 크기를 갖고 일정 간격 이격되어 형성되는 나노 패턴이 양각 형태인 곡면 나노구조 필름 몰드를 사용하는 것을 특징으로 하는 렌즈 표면 나노구조층의 제조 방법
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11
제 9 항에 있어서, 렌즈에 형성되는 나노구조층이 양각 형태로 형성되는 경우에는, 주기가 광파장 이하의 크기를 갖고 일정 간격 이격되어 형성되는 나노 패턴이 음각 형태인 곡면 나노구조 필름 몰드를 사용하는 것을 특징으로 하는 렌즈 표면 나노구조층의 제조 방법
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12
제 9 항에 있어서, 렌즈 표면과 렌즈 안쪽면에 각각 나노 구조층을 형성하여,하나의 렌즈가 양각 나노 구조층과 음각 나노 구조층을 모두 갖도록 하는 것을 특징으로 하는 렌즈 표면 나노구조층의 제조 방법
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