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액상전구체에 포함된 불순물을 제거하는 반도체용 액상전구체 디개서로,상기 액상전구체 디개서는,디개싱(degassing)시킬 액상전구체가 수용되는 수용공간을 형성하는 캐니스터;상기 캐니스터와 진공라인을 통해 연결되고, 상기 캐니스터에서 상기 액상전구체가 수용된 상기 수용공간 내에 진공상태를 설정하여 주는 진공펌프; 상기 캐니스터 내 상기 수용공간에 마련되며, 상기 수용공간 내에 수용된 상기 액상전구체가 상기 수용공간 내 빈 공간인 디개싱공간 상에 노출되는 표면적을 증대시켜주는 노출표면적증대수단; 상기 캐니스터와 진공펌프를 연결하는 진공라인에 마련되며, 필요시 개폐를 할 수 있는 진공밸브; 및상기 캐니스터에 마련되며, 디개싱된 불순물 가스가 캐니스터의 외부로 배출될 수 있도록 상기 진공라인과 연결된 아웃렛포트;를 포함하며, 상기 노출표면적증대수단은, 적어도 하나 이상의 날개가 마련된 임펠러(impeller)이고,상기 수용공간 내에 수용된 상기 액상전구체를 순환적으로 고르게 상기 디개싱공간에 표면으로 노출시켜주며,일정한 길이를 갖추고 있고, 일부분이 상기 액상전구체에 접촉 또는 잠기되, 길이방향 중심축을 중심으로 회전됨으로써 상기 액상전구체에 접촉 또는 잠기는 부분의 변경이 이루어지며 상기 액상전구체에 접촉 또는 잠겨 있었던 부분에 상기 액상전구체가 묻어서 상기 디개싱공간 상에 노출됨에 따라 상기 액상전구체가 상기 디개싱공간 상에 노출되는 표면적의 증대가 이루어지게 되며상기 수용공간 내에 수용된 상기 액상전구체의 표면에 대하여 상기 임펠러의 길이방향이 수직인 상태를 갖추도록 상기 캐니스터 내에 배치되는,노출표면적증대수단을 포함하는 반도체용 액상전구체 디개서
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제 1항에 있어서, 상기 임펠러의 상기 날개는,적어도 일부분이 메쉬(mesh)로 이루어진 것을 특징으로 하는,노출표면적증대수단을 포함하는 반도체용 액상전구체 디개서
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제 7항에 있어서, 상기 수용공간 또는 상기 디개싱공간과 연통될 수 있도록 상기 캐니스터와 연결되며, 상기 수용공간 내에 수용된 상기 액상전구체의 증기압을 측정하기 위한 압력측정수단; 을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 노출표면적증대수단을 포함하는 반도체용 액상전구체 디개서
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제 8항에 있어서, 상기 캐니스터 내 상기 수용공간 하측의 바닥면에서,바닥면의 적어도 일부분이 라운드지게 형성된 것을 특징으로 하는,노출표면적증대수단을 포함하는 반도체용 액상전구체 디개서
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제 9항에 있어서,상기 수용공간 내에 수용된 상기 액상전구체 측으로 열을 공급하기 위한 히터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 노출표면적증대수단을 포함하는 반도체용 액상전구체 디개서
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