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초상자성을 갖는 산화철(Fe3O4) 나노입자; 및상기 산화철(Fe3O4) 나노입자의 외표면에 코팅된 저차원 탄소나노물질 층;을 포함하는 것을 특징으로 하고,상기 저차원 탄소나노물질 층에 도핑된 금속 나노입자를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초상자성 산화철 나노입자
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제1항에 있어서,상기 산화철(Fe3O4) 나노입자의 평균 입자크기는 3 nm 내지 20 nm인 것을 특징으로 하는 초상자성 산화철 나노입자
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제1항에 있어서,상기 저차원 탄소나노물질은 그래핀, 그래핀 옥사이드, 환원된 그래핀 옥사이드, 비금속 도핑된 그래핀 양자 시트, 그라피틱 질화탄소(graphitic carbon nitride) 또는 이들의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 초상자성 산화철 나노입자
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제3항에 있어서,상기 비금속은 질소인 것을 특징으로 하는 초상자성 산화철 나노입자
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제1항에 있어서,상기 금속 나노입자는 망간(Mn), 마그네슘(Mg), 금(Au), 은(Au) 및 코발트(Co)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 초상자성 산화철 나노입자
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제1항에 있어서,상기 산화철(Fe3O4) 나노입자 및 상기 저차원 탄소나노물질 층의 중량비는 1:2 내지 2:1 인 것을 특징으로 하는 초상자성 산화철 나노입자
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제1항에 있어서,상기 저차원 탄소나노물질 층의 전체 중량에 대하여 상기 금속 나노입자의 함량은 0
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자화도 및 자화율 향상을 위해 초상자성을 갖는 소정의 입자크기의 산화철(Fe3O4) 나노입자를 제조하는 단계; 및상기 산화철(Fe3O4) 나노입자의 외표면에 저차원 탄소나노물질을 코팅하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하고,상기 저차원 탄소나노물질을 코팅하는 단계는, 금속 나노입자가 도핑된 저차원 탄소나노물질을 코팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 초상자성 산화철 나노입자의 제조방법
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제11항에 있어서,상기 산화철(Fe3O4) 나노입자를 제조하는 단계는, 상기 산화철(Fe3O4) 나노입자의 평균 입자 크기가 3 nm 내지 20 nm가 되도록 수행하는 것을 특징으로 하는 초상자성 산화철 나노입자의 제조방법
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제11항에 있어서,상기 저차원 탄소나노물질은 그래핀, 그래핀 옥사이드, 환원된 그래핀 옥사이드, 비금속 도핑된 그래핀 양자 시트, 그라피틱 질화탄소(graphitic carbon nitride) 또는 이들의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 초상자성 산화철 나노입자의 제조방법
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자화도 및 자화율 향상을 위해 초상자성을 갖는 소정의 입자크기의 산화철(Fe3O4) 나노입자를 제조하는 단계; 및상기 산화철(Fe3O4) 나노입자의 외표면에 저차원 탄소나노물질을 코팅하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하고,상기 저차원 탄소나노물질을 코팅하는 단계 다음에, 상기 저차원 탄소나노물질에 금속 나노입자를 도핑하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초상자성 산화철 나노입자의 제조방법
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