1 |
1
요크의 외부에 설치되고, 질량이 상이한 적어도 두 종류의 하전입자를 생성하는 하전입자 소스(10), 상기 요크(20) 내부의 상부에 위치하는 상부 전자석(30), 상기 요크(20) 내부의 하부에 위치하는 하부 전자석(40), 외부로부터 전류를 공급받아 고주파 전장을 발생시켜, 상기 하전입자를 가속시키는 디(dee) 전극, 상기 상부 전자석(30)과 하부 전자석(40) 사이에 배치되고, 상기 하전입자 소스(10)와 동일한 중심축을 갖는 인플렉터부(60)를 포함하는 사이클로트론(100);상기 인플렉터부(60)에 펄스파 형태의 고전압을 인가하는 고전압 전원공급장치; 및 상기 사이클로트론(100) 내부에서 가속되어 출력된 하전압지를 카운팅하는 하전입자 카운팅부(400)를 포함하되,상기 하전입자 소스(10)는 질량이 상이한 적어도 두 종류의 하전입자를 생성하여 상기 인플렉터부(60)로 전달하는 것을 특징으로 하는 가속 질량분석 사이클로트론 시스템
|
2 |
2
제1항에 있어서,인플렉터부(60)는 길이 방향으로 휜 구조를 갖는 제1 인플렉터(61)와 제2 인플렉터(62)를 포함하되,상기 제1 인플렉터(61)와 제2 인플렉터(62)는 상기 하전입자 소스(10)로부터 질량이 상이한 두 종류의 하전입자를 각각 전달받아, 사이클로트론(100) 내부의 캐비티로 입사하되,상기 고전압 전원공급장치(200)에서 상기 제1 인플렉터(61)와 상기 제2 인플렉터(62)로 공급되는 고전압은 상이하며, 제2 하전입자보다 질량이 큰 제1 하전입자는 상기 제1 인플렉터로 입사하되, 상기 제1 인플렉터의 길이가 상기 제2 인플렉터의 길이보다 짧아, 상기 제1 하전입자의 회전 나선 반경이 상기 제2 하전입자의 회전 나선 반경보다 짧은 것을 특징으로 하는 가속 질량분석 사이클로트론 시스템
|
3 |
3
제2항에 있어서,상기 고전압 전원공급장치(200)는 고전압 스위치를 통해 상기 제1 인플렉터(61)와 상기 제2 인플렉터(62)로 펄스파 형태의 고전압을 교번하여 인가하되,상기 제1 인플렉터에 인가되는 고전압의 크기가 상기 제2 인플렉터에 인가되는 고전압의 크기보다 크며, 상기 펄스파 고전압의 펄스 듀레이션(pulse duration)은 상기 하전입자 소스(10)에 포함된 입자의 수가 적을수록 큰 범위를 갖는 것을 특징으로 하는 가속 질량분석 사이클로트론 시스템
|
4 |
4
제3항에 있어서, 상기 가속 질량분석 사이클로트론 시스템은고전압 전원공급장치(200), 하전입자 카운팅부(400)와 연결되는 제어부(300)를 더 포함하되,상기 제어부(300)는 상기 제1 인플렉터(61)에 인가되는 제1 고전압 펄스파와 상기 제2 인플렉터(62)에 인가되는 제2 고전압 펄스파가 교번하여 인가되도록 하는 펄스파 인가신호를 생성하여 고전압 전원공급장치(200)로 전달하고, 상기 펄스파 인가신호가 고전압 전원공급장치(200)로 전달된 후 소정 시간 이후에 제1 하전입자 카운팅 신호와 제2 하전입자 카운팅 신호를 발생하여 하전입자 카운팅부(400)로 전달하되,상기 고전압 전원공급장치(200)는 상기 전달된 펄스파 인가신호에 기반하여 제1 고전압 펄스파와 제2 고전압 펄스파를 서로 교번하여 각각 제1 인플렉터(61)와 제2 인플렉터(62)로 출력하며,상기 하전입자 카운팅부(400)는 상기 전달된 제1 하전입자 카운팅 신호에 기반하여 제1 하전입자의 수를 카운팅하며, 제2 하전입자 카운팅 신호에 기반하여 제2 하전입자의 수를 카운팅하는 것을 특징으로 하는 가속 질량분석 사이클로트론 시스템
|