1 |
1
고분자 매트릭스; 및상기 고분자 매트릭스 내부의 기공에 담지된 폭발물 결정 입자;를 포함하고,상기 폭발물 결정 입자의 직경은 10 nm 내지 100 nm인 것인,외부자극에 대해 둔감한 폭발물질
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 고분자 매트릭스는,하이템프(HyTemp), HTPB 및 Vitron으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것인,외부자극에 대해 둔감한 폭발물질
|
3 |
3
제1항에 있어서,상기 고분자 매트릭스의 기공의 크기는,3 nm 내지 20 nm인 것인,외부자극에 대해 둔감한 폭발물질
|
4 |
4
제1항에 있어서,상기 폭발물 결정 입자는,RDX, HMX, PETN 및 TAT으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것인,외부자극에 대해 둔감한 폭발물질
|
5 |
5
폭발성 물질을 용매에 용해시켜 폭발물 용액을 제조하는 단계;상기 폭발물 용액에 고분자 매트릭스를 함침하는 단계; 및상기 고분자 매트릭스가 함침된 폭발물 용액에 초음파를 조사하는 단계;를 포함하는,외부자극에 대해 둔감한 폭발물질의 제조방법
|
6 |
6
제5항에 있어서,상기 고분자 매트릭스가 함침된 폭발물 용액에 초음파를 조사하는 단계는, 상기 고분자 매트릭스가 함침된 폭발물 용액을 -35 ℃ 이하로 급랭시키는 단계와 동시에 수행되는 것인,외부자극에 대해 둔감한 폭발물질의 제조방법
|
7 |
7
제5항에 있어서,상기 고분자 매트릭스는,하이템프(HyTemp), HTPB 및 Vitron으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것인,외부자극에 대해 둔감한 폭발물질의 제조방법
|
8 |
8
제5항에 있어서,상기 폭발성 물질은,RDX, HMX, PETN 및 TATB으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것인,외부자극에 대해 둔감한 폭발물질의 제조방법
|
9 |
9
제5항에 있어서,상기 용매는,GBL, DMF 및 DMSO으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것인,외부자극에 대해 둔감한 폭발물질의 제조방법
|
10 |
10
제5항에 있어서,상기 폭발성 물질을 용매에 용해시켜 폭발물 용액을 제조하는 단계는,65 ℃ 내지 75 ℃의 온도 조건에서 수행되는 것인,외부자극에 대해 둔감한 폭발물질의 제조방법
|
11 |
11
제5항에 있어서,상기 폭발물 용액 중 상기 폭발성 물질의 중량농도는,15 % 내지 25 %인 것인,외부자극에 대해 둔감한 폭발물질의 제조방법
|
12 |
12
제5항에 있어서,상기 폭발물 용액에 고분자 매트릭스를 함침하는 단계는,상기 폭발물 용액 100 중량비 기준으로, 11 중량비 내지 15 중량비의 상기 고분자 매트릭스를 함침하는 것인,외부자극에 대해 둔감한 폭발물질의 제조방법
|
13 |
13
제5항에 있어서,비용해 용매를 통해 폭발물 결정 입자를 확보하는 단계;를 더 포함하는,외부자극에 대해 둔감한 폭발물질의 제조방법
|
14 |
14
제13항에 있어서,상기 비용해 용매를 통해 폭발물 결정 입자를 확보하는 단계는,에탄올을 통해 비용해 용매를 치환하는 단계; 및물을 통해 폭발물 결정 입자를 확보하는 단계;를 포함하는 것인,외부자극에 대해 둔감한 폭발물질의 제조방법
|