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개별적으로 어드레스 가능하며 자외선 광을 방출하는 복수의 픽셀이 배열된 픽셀 어레이를 포함하며, 상기 복수의 픽셀로부터 방출되는 발광면이 평탄한 표면을 갖는 패턴 형성부;상기 복수의 픽셀 중 원하는 패턴에 위치한 픽셀들이 구동되도록 상기 패턴 형성부를 제어하는 구동 제어부; 및상기 패턴 형성부의 발광면을 조사 대상 영역에 근접하도록 이동시키는 이동부를 포함하는 마스크리스 리소그래피 장치
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제1항에 있어서,상기 패턴 형성부는, 상기 픽셀 어레이를 구비한 LCD 패널과, 상기 LCD 패널에 자외선 광을 제공하는 백라이트 광원을 포함하는 마스크리스 리소그래피 장치
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제1항에 있어서,상기 복수의 픽셀은 각각 적어도 하나의 마이크로 LED를 포함하며, 상기 복수의 픽셀 각각에 위치한 마이크로 LED는 개별적으로 어드레스 가능한 마스크리스 리소그래피 장치
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제3항에 있어서,상기 복수의 픽셀은 각각 서로 다른 파장의 자외선 광을 방출하며 선택적으로 구동 가능한 복수의 LED를 포함하는 마스크리스 리소그래피 장치
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제1항에 있어서,상기 이동부는, 상기 원하는 패턴에 대응되는 영역에서 노광량이 부족한 데드 스팟(dead spot) 상에 상기 픽셀들이 위치하도록 상기 패턴 형성부를 추가적으로 이동시키는 마스크리스 리소그래피 장치
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제1항에 있어서,상기 패턴 형성부의 발광면과 상기 조사 대상 영역 사이에 배치된 투명 보호 필름을 더 포함하는 마스크리스 리소그래피 장치
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기판 상에 배치된 포토레지스트층을 패터닝하기 위한 마스크리스 리소그래피 방법에 있어서, 개별적으로 어드레스 가능하며 자외선 광을 방출하는 복수의 픽셀이 배열된 픽셀 어레이를 포함하며 상기 복수의 픽셀로부터 방출되는 발광면이 평탄한 표면을 갖는 패턴 형성부를 마련하는 단계;상기 패턴 형성부의 발광면이 상기 포토레지스트층의 조사 대상 영역에 근접하도록 상기 패턴 형성부와 상기 기판 중 적어도 하나를 이동시키는 단계;상기 복수의 픽셀 중 원하는 패턴에 위치한 픽셀들을 구동하여 상기 조사 대상 영역을 선택적으로 노광하는 단계; 및상기 노광된 포토레지스트층을 현상하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 마스크리스 리소그래피 방법
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제7항에 있어서,상기 원하는 패턴에 대응되는 영역에서 노광량이 부족한 데드 스팟(dead spot)이 발생하는지 여부를 판단하는 단계와, 상기 선택적으로 노광하는 단계 후에, 상기 데드 스팟 상에 상기 픽셀들이 위치하도록 상기 패턴 형성부와 상기 기판 중 적어도 하나를 추가적으로 이동시키는 단계와,상기 데드 스팟에 위치한 픽셀들을 구동하여 상기 조사 대상 영역을 추가적으로 노광하는 단계를 더 포함하는 마스크리스 리소그래피 방법
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제8항에 있어서,상기 추가적으로 이동시키는 단계는, 인접한 픽셀의 피치보다 작은 거리로 이동시키는 단계를 포함하는 마스크리스 리소그래피 방법
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