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플라즈마 토치 본체; 상기 토치 본체의 상부에 형성되어 토치 내부로 크기가 10~150 ㎛ 범위의 각형 Ti 금속 또는 Ti64 합금분말을 캐리어가스에 의해 공급하는 파워인젝션 프로브; 상기 파워인젝션 프로브의 상부 외측을 거리를 두고 감싸도록 구성된 중간 튜브; 상기 토치 본체의 측벽 내면을 이루도록 구성된 세라믹 절연 튜브; 및 상기 본체의 측벽에 형성되어 본체 내부에 플라즈마를 형성하도록 구성된 인덕션 코일;을 포함하는 RF 플라즈마 장치를 이용한 고순도 Ti64 분말을 제조하는 방법에 있어서, 상기 파워인젝션 프로브를 상기 플라즈마 토치 본체 상부에 다중으로 형성하고, 이러한 다중 파워인젝션 프로브를 통하여 상기 Ti 혹은 Ti64 합금 분말을 상기 플라즈마 토치 본체 내부로 공급하는 제1 공정;상기 플라즈마 토치 본체 내부에 플라즈마를 발생시킨 후, 상기 공급된 Ti 금속 또는 Ti64 합금 분말의 표면을 고온에서 용해 후 구형으로 응고시키는 제2 공정; 및 상기 응고된 구형화된 분말을 수거하는 제3 공정;을 포함하고,상기 제2 공정에서, 플라즈마 토치 본체 내부에서 Ca를 기화시킴으로 구형으로 응고된 Ti 금속 또는 Ti64 합금 분말을 탈산처리하고, 상기 제3 공정에서 탈산처리된 Ti 금속 또는 Ti64 합금 분말의 표면에 부착된 Ca 산화물을 제거함으로써 1300ppm 이하의 산소를 함유하는 Ti 금속 또는 Ti64 구형 분말을 제조하는 것을 특징으로 하는 RF 플라즈마 장치를 이용한 고순도 Ti64 분말 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 플라즈마 발생 이후, 상기 플라즈마 토치 본체 내부를 불활성 기체 분위기로 하고, 상기 캐리어 가스로는 불활성 기체를 5-120 slpm 범위로 공급하고, 상기 본체 상부에서 상기 중간 튜브와 세라믹 절연 튜브 사이의 이격 공간을 통하여 본체 내부로 공급되는 시스 가스로는 불활성 기체와 수소 혹은 헬륨 가스를 혼합하여 이용하되, 상기 불활성 기체의 양을 10-120 slpm, 그리고 수소 혹은 헬륨 가스의 양을 10-50 slpm 범위로 공급하고, 그리고 상기 본체의 상부에서 본체 내부로 공급되는 센트랄 가스(central gas)로는 불활성 기체를 5-90 slpm 범위로 공급하는 것을 특징으로 하는 RF 플라즈마 장치를 이용한 고순도 Ti64 분말 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 파워 인젝션 프로브의 금속성 노즐 하단과 상기 인덕션 코일 중심의 높이 간격을 상, 하 3 cm 이내로 조절하는 것을 특징으로 하는 RF 플라즈마 장치를 이용한 고순도 Ti64 분말 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 다중 파워인젝션 프로브는 중심에 1개, 그를 기준으로 상하 좌우에 4 개의 프로브 노즐를 갖는 다중 파워인젝션 프로브인 것을 특징으로 하는 RF 플라즈마 장치를 이용한 고순도 Ti64 분말 제조방법
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