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산염이 포함된 용액에 은(Ag0) 코팅 입자를 투입하고 표면의 은을 양이온화(Ag+)하는 단계; 표면의 적어도 일부가 양이온화된 은(Ag+)으로 코팅된 은(Ag+) 코팅 입자를 건조하는 단계; 및 건조된 은(Ag+) 코팅 입자를 열처리하는 단계를 포함하는, 방사성 요오드 제거용 은 코팅 입자의 제조 방법
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제 1항에 있어서, 상기 산염은 무기산염, 유기산염 또는 이들의 혼합인, 방사성 요오드 제거용 은 코팅 입자의 제조 방법
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제 1항에 있어서, 상기 산염은 비산염(AsO43-), 탄산염(CO32-), 염화염(Cl-), 옥살산염(C2O42-), 인산염(PO43-) 및 황산염(SO42-)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나인, 방사성 요오드 제거용 은 코팅 입자의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 산염은 비소산나트륨, 비소산수소나트륨, 비소산이수소나트륨, 비소산칼륨, 비소산수소칼륨, 비소산이수소칼륨, 비소산수소암모늄, 비소산이수소암모늄, 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소칼륨, 탄산암모늄, 탄산수소암모늄, 염화나트륨, 염화칼륨, 염화마그네슘, 염화칼슘, 염화암모늄, 옥살산나트륨, 옥살산수소나트륨, 옥살산칼륨, 옥살산수소칼륨, 옥살산암모늄, 옥살산수소암모늄, 인산나트륨, 인산수소나트륨, 인산이수소나트륨, 인산칼륨, 인산수소칼륨, 인산이수소칼륨, 인산수소암모늄, 인산이수소암모늄, 황산나트륨, 황산수소나트륨, 황산칼륨, 황산수소칼륨, 황산암모늄 및 황산수소암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나인, 방사성 요오드 제거용 은 코팅 입자의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 은(Ag0) 코팅 입자는 은 입자 또는 알루미나, 실리카 및 글라스비드(glass bead)로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 입자의 표면에 은(Ag0)이 코팅된 것인, 방사성 요오드 제거용 은 코팅 입자의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 방사성 요오드 제거용 은 코팅 입자의 평균 입도는 50 내지 500 ㎛인, 방사성 요오드 제거용 은 코팅 입자의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 산염이 포함된 용액의 용매는 물인, 방사성 요오드 제거용 은 코팅 입자의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 산염이 포함된 용액의 산염 농도는 0
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제1항에 있어서, 상기 건조하는 단계는 40 내지 80℃에서 수행되는, 방사성 요오드 제거용 은 코팅 입자의 제조 방법
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10
제1항에 있어서, 상기 열처리 하는 단계는 100 내지 500℃에서 수행되는, 방사성 요오드 제거용 은 코팅 입자의 제조 방법
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제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 제조방법에 의해 제조된 은 코팅 입자가 고정된 컬럼을 제공하는 단계; 및상기 컬럼에 방사성 요오드가 포함된 용액을 통과시키는 단계를 포함하는, 용액 내 방사성 요오드 제거 방법
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