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하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 망간(Ⅳ) 비스(하이드록소) 복합체:[화학식 1][MnⅣ(L)(OH)2]2+(상기 화학식 1에서,L은이고, R1 및 R2는 독립적으로 수소, 비치환 또는 치환된 직쇄 또는 분지쇄의 C1-10알킬, C3-10사이클로알킬, C6-10아릴, 또는 C6-10아릴C1-3알킬이고,상기 치환된 직쇄 또는 분지쇄의 C1-10알킬, C3-10사이클로알킬, C6-10아릴, 또는 C6-10아릴C1-3알킬은 각각 할로겐, 하이드록시, 나이트로, 나이트릴, C1-3알킬 및 C1-3알콕시로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 치환체가 치환된 C1-10알킬, C3-10사이클로알킬, C6-10아릴, 또는 C6-10아릴C1-3알킬이다)
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제1항에 있어서,상기 R1 및 R2는 독립적으로 비치환 또는 치환된 직쇄 또는 분지쇄의 C1-10알킬, 또는 C3-10사이클로알킬이고,상기 치환된 직쇄 또는 분지쇄의 C1-10알킬, 또는 C3-10사이클로알킬은 각각 할로겐, 하이드록시, 나이트로, 나이트릴, C1-3알킬 및 C1-3알콕시로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 치환체가 치환된 C1-10알킬, 또는 C3-10사이클로알킬인 것을 특징으로 하는 망간(Ⅳ) 비스(하이드록소) 복합체
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제1항에 있어서,상기 R1 및 R2는 독립적으로 비치환 또는 치환된 직쇄 또는 분지쇄의 C1-10알킬이고, 상기 치환된 직쇄 또는 분지쇄의 C1-10알킬은 할로겐, 하이드록시, C1-3알킬 및 C1-3알콕시로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 치환체가 치환된 C1-10알킬인 것을 특징으로 하는 망간(Ⅳ) 비스(하이드록소) 복합체
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제1항에 있어서,상기 R1 및 R2는 독립적으로 비치환 또는 치환된 직쇄 또는 분지쇄의 C1-5알킬이고, 상기 치환된 직쇄 또는 분지쇄의 C1-5알킬은 할로겐, 하이드록시, C1-3알킬 및 C1-3알콕시로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 치환체가 치환된 C1-5알킬인 것을 특징으로 하는 망간(Ⅳ) 비스(하이드록소) 복합체
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제1항에 있어서,상기 L은 N,N'-di-tert부틸-2,11-디아자[3
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하기 반응식 1에 나타난 바와 같이,하기 화학식 2로 표시되는 화합물과 아이도실벤젠(Iodosylbenzene, PhIO)을 반응시켜, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제조하는 단계; 를 포함하는, 제1항의 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 망간(Ⅳ) 비스(하이드록소) 복합체의 제조방법:[반응식 1](상기 반응식 1에서,L은 제1항의 화학식 1에서 정의한 바와 같다)
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제1항의 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 망간(Ⅳ) 비스(하이드록소) 복합체를 사용한, 나프탈렌 유도체를 산화시키는 방법
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제7항에 있어서,상기 나프탈렌 유도체는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 나프탈렌 유도체를 산화시키는 방법:[화학식 2](상기 화학식 2에서,A1 및 A2는 독립적으로 수소, 하이드록시, 직쇄 또는 분지쇄의 C1-10알킬, 또는 직쇄 또는 분지쇄의 C1-10알콕시이다)
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제8항에 있어서,상기 A1 및 A2는 독립적으로 수소, 하이드록시, 직쇄 또는 분지쇄의 C1-5알킬, 또는 직쇄 또는 분지쇄의 C1-5알콕시인 것을 특징으로 하는 나프탈렌 유도체를 산화시키는 방법
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제7항에 있어서,상기 나프탈렌 유도체의 산화는 산(acid) 존재하에 수행되는 것을 특징으로 하는 나프탈렌 유도체를 산화시키는 방법
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