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구형의 마이크로입자의 전체 표면적의 70 내지 90%에 균일한 또는 소정의 구배를 갖는 두께로 조절되어 연속적인 금속 박막이 형성된, 금속 박막이 코팅된 유전체 입자의 제조방법으로서,소정의 간격으로 이격되도록 2개 이상의 유전체 입자가 일면에 부착된 평면 지지체를 준비하는 제1단계; 및유전체 입자가 부착된 지지체 표면과 30°내지 45°각으로 입사되도록 금속 박막을 진공증착하는 제2단계를 포함하며,상기 유전체 입자는 금속산화물 또는 금속질화물로 된 직경 0
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제1항에 있어서,구형의 마이크로입자의 중심과 지지체와의 접점을 잇는 축으로부터 ±30°이내의 표면을 제외한 부분에 금속 박막이 형성되는 것인, 제조방법
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제1항에 있어서,전체 표면적의 50% 이상의 면적에서 변동계수(coefficient of variation=박막 두께의 표준편차/평균) ±4%의 균일한 두께로 금속 박막이 형성되는 것인, 제조방법
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제3항에 있어서,상기 평균 두께(t)는 사용한 유전체 입자의 직경(R)에 대해 50＜R/t＜1000의 비율을 갖는 것인, 제조방법
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구형의 마이크로입자의 전체 표면적의 70 내지 90%에 균일한 또는 소정의 구배를 갖는 두께로 조절되어 연속적인 금속 박막이 형성된, 금속 박막이 코팅된 유전체 입자에 대해 고체 비젖음 공정을 수행하는 단계를 포함하는, 균일한 또는 소정의 구배의 직경을 갖도록 조절되어 형성된 2개 이상의 금속 나노입자를 포함하는 유전체 입자의 제조방법으로서,상기 유전체 입자는 금속산화물 또는 금속질화물로 된 직경 0
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제5항에 있어서,구형의 마이크로입자의 전체 표면적의 70 내지 90%에 균일한 또는 소정의 구배를 갖는 두께로 조절되어 연속적인 금속 박막이 형성된, 금속 박막이 코팅된 유전체 입자는 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 것인, 제조방법
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제5항에 있어서,상기 고체 비젖음 공정은 350 내지 450℃의 온도에서 2 내지 10분 동안 수행되는 것인, 제조방법
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제5항에 있어서,구형의 마이크로입자의 중심과 지지체와의 접점을 잇는 축으로부터 ±30°이내의 표면을 제외한 부분에 금속 입자가 형성되는 것인, 제조방법
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제5항에 있어서,전체 표면적의 50% 이상의 면적에서 변동계수(coefficient of variation=입자 직경의 표준편차/평균) ±4%의 균일한 크기로 금속 입자가 형성되는 것인, 제조방법
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제9항에 있어서,상기 금속 입자의 평균 직경은 30 내지 500 nm인 것인, 제조방법
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11
제10항에 있어서,상기 금속 입자 간 평균 간격은 50 내지 1000 nm인 것인, 제조방법
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제5항, 및 제7항 내지 제11항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된, 구형의 유전체 마이크로입자의 전체 표면적의 70 내지 90%에 균일한 또는 소정의 구배의 직경을 갖도록 조절되어 형성된 2개 이상의 금속 나노입자를 포함하는 유전체 입자로서,상기 유전체 입자는 금속산화물 또는 금속질화물로 된 직경 0
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13
제12항에 있어서,300 내지 1000 nm에 걸친 광대역에서 광포획능을 갖는 것인, 입자
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14
제12항에 있어서,하나의 편평한 기판 상에 복수의 입자가 소정의 간격으로 이격되어 배열된, 어레이 형태로 제공되는 것인, 입자
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15
제12항의 2개 이상의 금속 나노입자를 포함하는 유전체 입자를 포함하는 태양전지
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제15항에 있어서,상기 2개 이상의 금속 나노입자를 포함하는 유전체 입자는 하나의 편평한 기판 상에 복수의 입자가 소정의 간격으로 이격되어 배열된, 어레이 형태로 적용되는 것인, 태양전지
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