| 1 |
1
기판;상기 기판 상에 형성된, 복수의 그래핀 레이어들을 포함하는 다층 그래핀; 및상기 복수의 그래핀 레이어들의 각각과 접촉하도록 상기 다층 그래핀 상에 형성된 금속 전극을 포함하고,상기 기판의 상기 다층 그래핀이 형성된 측과 반대측으로부터 조사되는 광에 대해 전류를 발생시키는, 광 검출기
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 다층 그래핀은 흑연(graphite)인, 광 검출기
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 복수의 그래핀 레이어들은 계단형 구조(step structure)를 갖도록 상기 기판 상에 형성되고,상기 계단형 구조의 상기 복수의 그래핀 레이어들 각각이 형성하는 계단 표면(step surface)이 상기 금속 전극과 접촉하는, 광 검출기
|
| 4 |
4
제3항에 있어서,상기 복수의 그래핀 레이어들은, 상기 복수의 그래핀 레이어들 중 제1 그래핀 레이어가 상기 제1 그래핀 레이어의 위에 형성된 제2 그래핀 레이어보다 더 넓은 표면적을 가짐으로써, 상기 계단형 구조를 갖도록 상기 기판 상에 형성되는, 광 검출기
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 복수의 그래핀 레이어들의 개수는 200 이상인, 광 검출기
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 기판은 투명 기판인, 광 검출기
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 기판은 Al2O3 또는 SiO2를 포함하는, 광 검출기
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 금속 전극은 Pd 또는 Au를 포함하는, 광 검출기
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 복수의 그래핀 레이어들을 포함하는 다층 그래핀은 상기 금속 전극과 벌크 접촉(bulk contact)하는, 광 검출기
|
| 10 |
10
제1항에 있어서,상기 다층 그래핀은 상기 기판에 상기 복수의 그래핀 레이어들의 각각이 하나씩 적층됨으로써 형성되는, 광 검출기
|
| 11 |
11
제1항에 있어서,상기 금속 전극의 적어도 일부는 상기 기판과 접촉하는, 광 검출기
|
| 12 |
12
광 검출기의 제조 방법에 있어서, 기판을 제조하는 단계;상기 기판 상에 복수의 그래핀 레이어들을 포함하는 다층 그래핀을 형성하는 단계; 및상기 복수의 그래핀 레이어들의 각각과 접촉하도록 상기 다층 그래핀 상에 금속 전극을 형성하는 단계를 포함하고,상기 광 검출기는 상기 기판의 상기 다층 그래핀이 형성된 측과 반대측으로부터 조사되는 광에 대해 전류를 발생시키는, 광 검출기의 제조 방법
|
| 13 |
13
제12항에 있어서,상기 다층 그래핀을 형성하는 단계는, 상기 기판 상에 흑연을 적층함으로써 상기 다층 그래핀을 형성하는, 광 검출기의 제조 방법
|
| 14 |
14
제12항에 있어서,상기 다층 그래핀을 형성하는 단계는, 상기 복수의 그래핀 레이어들을 계단형 구조(step structure)를 갖도록 상기 기판 상에 형성하고,상기 계단형 구조의 상기 복수의 그래핀 레이어들 각각이 형성하는 계단 표면(step surface)이 상기 금속 전극과 접촉하는, 광 검출기의 제조 방법
|
| 15 |
15
제12항에 있어서,상기 다층 그래핀을 형성하는 단계는, 상기 복수의 그래핀 레이어들의 각각을 상기 기판에 하나씩 적층함으로써 상기 다층 그래핀을 형성하는, 광 검출기의 제조 방법
|
