| 1 |
1
질소 함유 탄소 전구체로 이루어진 전구체용액을 제조하는 제1단계;상기 전구체용액에 한 쌍의 금속와이어를 배치하는 제2단계; 및상기 금속와이어에 전원을 인가하여 액상 플라즈마 방전시켜, 상기 탄소 전구체의 탄소에 질소가 결합되면서 표면에 마이크로 포어를 갖는 터보스트래틱 구조의 질소 도핑 탄소나노입자를 형성하고, 상기 탄소나노입자가 응집되면서 메조-매크로 계층적 기공구조를 갖는 집합체를 형성하는 제3단계;를 포함하여 이루어지고,상기 질소 도핑 탄소나노입자의 터보스트래틱 구조는 다수의 결정질 도메인(crystalline domain)으로 이루어지되,상기 질소 도핑에 의하여 상기 결정질 도메인에 격자를 이루지 못하는 외부 결함(extrinsic defect)이 발생되면서 10 내지 20Å 크기의 공간이 형성되어 상기 집합체의 활성 사이트가 증가되는 것을 특징으로 하는 계층적 기공구조를 갖는 질소-탄소 집합체의 제조방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 질소 함유 탄소 전구체는,질소원자를 갖는 헤테로고리 아민(heterocyclic amine)인 것을 특징으로 하는 계층적 기공구조를 갖는 질소-탄소 집합체의 제조방법
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 헤테로고리 아민은,피리딘(pyridine), 퀴놀린(quinoline), 이소퀴놀린(isoquinoline), 피롤(pyrrole), 피롤리딘(pyrrolidine), 피페리딘(piperidine), 인돌(indole), 이미다졸(imidazole), 피리미딘(pyrimidine) 및 멜라민(melamine)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 계층적 기공구조를 갖는 질소-탄소 집합체의 제조방법
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 탄소나노입자는,BET 비표면적이 200 내지 400㎡/g인 것을 특징으로 하는 계층적 기공구조를 갖는 질소-탄소 집합체의 제조방법
|
| 5 |
5
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 질소-탄소 집합체
|
| 6 |
6
제5항에 따른 질소-탄소 집합체를 포함하는 전극; 및상기 전극이 수용되고, 나트륨 이온을 전달 매개체로 하는 전해질;을 포함하는 나트륨 이온전지
|
