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석영 기판에 폴리 실리콘을 증착하는 과정;상기 증착된 폴리 실리콘의 상단에 감광제를 도포하고, 상기 감광제 상에 형성되는 기공들 중 적어도 두 개의 기공의 크기가 상이하고, 상기 기공들 사이의 간격이 동일하게 되도록, 상기 도포된 감광제에 대하여 홀 패터닝을 하는 과정;상기 홀 패터닝 이후, 유도 결합 플라즈마 반응성 이온 식각 장비를 이용하여 식각 영역의 지름 조절을 통해 상기 폴리 실리콘의 적어도 일부에 대하여 건식 식각을 하는 과정;상기 건식 식각의 완료 이후 불산을 이용하여 상기 석영 기판의 일면의 적어도 일부에 대하여 반구식으로 습식 식각을 하는 과정; 및상기 습식 식각의 완료 이후, 상기 석영 기판의 상기 폴리 실리콘을 제거하는 과정을 포함하는,마이크로 렌즈 어레이 제조용 몰드의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 건식 식각을 하는 과정에는 SF6 가스가 이용되는마이크로 렌즈 어레이 제조용 몰드의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 도포된 감광제에 대하여 홀 패터닝을 하는 과정에는,포토리소그래피(photolithography)가 적용되는마이크로 렌즈 어레이 제조용 몰드의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 석영 기판의 상기 폴리 실리콘을 제거하는 과정은,150℃의 온도에서 30분 동안 수산화칼륨(KOH; potassium hydroxide)을 이용하는,마이크로 렌즈 어레이 제조용 몰드의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 폴리 실리콘의 제거 이후, 불산을 이용하여 상기 석영 기판의 적어도 일부에 대하여 추가 습식 식각을 하는 과정을 더 포함하는마이크로 렌즈 어레이 제조용 몰드의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 몰드는,서로 간의 간격이 동일하며 적어도 두 개가 상이한 곡률 반경을 갖는 반구형의 복수의 렌즈들을 포함하는, 마이크로 렌즈 어레이의 제조에 이용되는마이크로 렌즈 어레이 제조용 몰드의 제조 방법
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