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나노구조 형상기억 합금 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2020011575
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노구조로 제조되어 이방성이 감소된 형상기억을 제조하는 방법에 관한 것으로, NixTiy(Gd,Y)100-(x+y) (40≤x≤60, 10≤y003c#35 at.%) 조성범위의 원료물질을 준비하는 준비 단계; 준비된 원료물질을 용융하고 급랭하여 기지상과 석출상으로 구분된 2상분리 나노구조 합금을 제조하는 나노복합구조 합금 제조 단계; 2상분리 나노구조 합금을 열처리하여 B2상을 안정화하는 열처리 단계; 및 상기 결정화된 시료에서 기지상만을 선택적으로 제거하는 선택적 용해 단계를 포함한다. 본 발명은, 2상분리 나노구조 합금을 제조하여 나노사이즈의 석출상을 구성한 뒤에 안정화 열처리를 함으로써, 이방성이 최소화된 나노구조의 형상기억 합금을 제조할 수 있는 효과가 있다.
Int. CL C22C 9/06 (2006.01.01) C22F 1/08 (2006.01.01)
CPC C22C 9/06(2013.01)C22C 9/06(2013.01)
출원번호/일자 1020190020459 (2019.02.21)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0102178 (2020.08.31) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.02.21)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박은수 서울특별시 관악구
2 김지영 경기도 남양주시 다산순환로 ***,
3 김소연 경기도 안양시 동안구
4 김상준 대구광역시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다울 대한민국 서울 강남구 봉은사로 ***, ***호(역삼동, 혜전빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교 산학협력단 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.02.21 수리 (Accepted) 1-1-2019-0185495-73
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.07.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.08.08 수리 (Accepted) 9-1-2019-0036488-56
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.03.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0230829-35
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.05.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0518728-52
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.05.22 수리 (Accepted) 1-1-2020-0518718-06
10 등록결정서
Decision to grant
2020.09.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0643196-18
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
NixTiy(Gd,Y)100-(x+y) (40≤x≤60, 10≤y003c#35 at
2 2
청구항 1에 있어서,상기 열처리 단계가 NiTi계 B2상이 안정한 650 ± 100℃의 온도 범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 나노구조 형상기억 합금의 제조방법
3 3
청구항 1에 있어서,상기 열처리 단계가 추가적인 석출이 진행되지 않는 1분 내지 12시간 범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 나노구조 형상기억 합금의 제조방법
4 4
청구항 1에 있어서,상기 선택적 용해 단계가 결정화된 시편을 0
5 5
청구항 1에 있어서,원료물질의 조성범위가 NixTiy(Gd,Y)100-(x+y) (40≤x≤60, 10≤y003c#27
6 6
청구항 1에 있어서,원료물질의 조성범위가 NixTiy(Gd,Y)100-(x+y) (40≤x≤60, 27
7 7
청구항 1에 있어서,상기 원료물질에 Nb, Zr 및 Hf 중에 하나 이상의 원소를 10 at
8 8
청구항 1에 있어서,상기 원료물질에 Al과 Si 중에 하나 이상의 원소를 10 at
9 9
형상기억 특성을 나타내는 NiTi계 합금으로서,NixTiy(Gd,Y)100-(x+y) (40≤x≤60, 10≤y003c#35 at
10 10
삭제
11 11
청구항 9에 있어서,원료물질의 조성범위가 NixTiy(Gd,Y)100-(x+y) (40≤x≤60, 10≤y003c#27
12 12
청구항 9에 있어서,원료물질의 조성범위가 NixTiy(Gd,Y)100-(x+y) (40≤x≤60, 27
13 13
청구항 9에 있어서,상기 원료물질에 Nb, Zr 및 Hf 중에 하나 이상의 원소를 10 at
14 14
청구항 9에 있어서,상기 원료물질에 Al과 Si 중에 하나 이상의 원소를 10 at
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.