| 1 |
1
편향 또는 편광 튜닝된 포커싱 조절이 가능한 두 기능 유전체 메타표면 소자에 있어서,상기 메타표면 소자는이산화규소(SiO2) 평면 기판 위에 일정한 주기(P) 간격의 정사각형으로 구획되어 형성된 복수의 메타표면 단위셀(UC: unit cell)이 사각평면을 형성하는 x-y 방향으로 배열되며, 상기 메타표면 단위셀은, 상부의 중심에서 일정 높이(t)의 수소화 비정질 실리콘(a-Si:H)으로 형성된 수직 사각기둥으로 형성되며, 그 횡단면은 상기 x-y 방향과 대응되는 방향을 가지는 가로 세로(dx, dy)의 사각면으로 형성된 나노포스트(nanopost)를 포함하는 것을 특징으로 하며,상기 메타표면 소자는 8개의 단위셀의 조합을 포함하되,상기 8개의 단위셀이 메타표면의 각 위치에서 2π의 선형 위상 지연 범위를 적용할 수 있도록, dx= 60 ~ 220nm, dy= 60 ~ 220nm 범위 내에서 서로 다른 크기의 8개의 가로세로(dx, dy)의 나노포스트 집합으로 형성된 것을 특징으로 하는 메타표면 소자
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 메타표면 소자는상기 8개의 단위셀의 조합으로 이루어진 서브슈퍼셀이 26개가 조합되어 x열을 구성하며, y행은 상기 x열의 208행이 y축을 따라 형성된 것을 특징으로 하는 메타표면 소자
|
| 3 |
3
삭제
|
| 4 |
4
제2항에 있어서,상기 단위셀은 다음 수학식에 의한 쌍곡선의 위상 프로파일을 부여하는 것을 특징으로 하는 메타표면 소자
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 단위셀의 주기는 240nm ~ 300nm 범위인 것을 특징으로 하는 메타표면 소자
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 메타표면 소자의 적용 파장은 630nm ~ 750nm 범위인 것을 특징으로 하는 메타표면 소자
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 단위셀의 주기가 증가하면, 투과하는 빔의 편향각이 감소하는 것을 특징으로 하는 메타표면 소자
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,상기 단위셀의 주기가 증가하면, 투과하는 빔의 초점거리가 증가하는 것을 특징으로 하는 메타표면 소자
|
| 9 |
9
제1항에 있어서,상기 단위셀의 주기를 240nm에서 300nm 범위로 조절하여 투과하는 빔의 편향각을 21
|
| 10 |
10
제1항에 있어서,상기 단위셀의 주기를 240nm에서 300nm 범위로 조절하여 투과하는 빔의 초점거리를 20㎛에서 33
|
| 11 |
11
제1항에 있어서,상기 메타표면 소자는 상기 단위셀의 주기가 240nm~ 300nm 범위에서 총 투과효율이 80% 이상으로 유지되는 것을 특징으로 하는 메타표면 소자
|
| 12 |
12
제2항에 있어서,상기 메타표면 소자의 주기가 240nm이며, 입사 빔의 파장이 690nm일 때, 투과 빔의 초점거리는 20㎛이며, 개구수(numerical aperture)는 0
|
| 13 |
13
편향 또는 편광 튜닝된 포커싱 조절이 가능한 두 기능 유전체 메타표면 소자에 있어서,상기 메타표면 소자는일정 높이(t)를 가진 수직의 사각기둥으로 형성된 수소화 비정질 실리콘(a-Si:H)의 나노포스트(nanopost)가 PDMS(polydimethylsiloxane) 기판 내부에 일정한 주기(P) 간격을 가지고 사각평면을 형성하는 x-y 방향으로 임베드 된(embedded) 형태로 배열되되,상기 나노포스트(nanopost)는, 그 횡단면은 상기 x-y 방향과 대응되는 방향을 가지는 가로 세로(dx, dy)의 사각면으로 형성되는 것을 특징으로 하며,상기 메타표면 소자는 8개의 단위셀 조합을 포함하되,상기 8개의 단위셀이 메타표면의 각 위치에서 2π의 선형 위상 지연 범위를 적용할 수 있도록, dx= 60 ~ 220nm, dy= 60 ~ 220nm 범위 내에서 서로 다른 크기의 8개의 가로세로(dx, dy)의 나노포스트 집합으로 형성된 것을 특징으로 하는 메타표면 소자
|
| 14 |
14
제13항에 있어서,상기 메타표면 소자가 탄성 표면적인 특성을 포함함으로써, 추가적인 플렉서블(flexible)한 기능을 가지는 것을 특징으로 하는 메타표면 소자
|
| 15 |
15
삭제
|
