| 1 |
1
플라즈마 공정 챔버 내의 광을 수집하기 위한 오목렌즈; 및상기 오목렌즈에 의해 수집된 광을 플라즈마 상태를 분석하기 위한 분석부로 전달하기 위한 광전달부를 포함하고,상기 플라즈마 공정 챔버의 벽체에는 투광부가 구비되고,상기 오목렌즈는, 상기 투광부의 외측에 설치되어 상기 플라즈마 공정 챔버의 내부로부터 상기 투광부를 통과한 광이 입사되고, 상기 플라즈마 공정 챔버 내의 광 중에서 상기 플라즈마 공정 챔버 내에 배치된 기판의 상부면 상의 광을 수집하도록, 수평 방향으로의 곡률이 상하 방향으로의 곡률보다 큰 구조를 가지며,상기 오목렌즈는, 수평 방향으로의 횡단면이 오목한 형상을 갖도록 가공되고, 상하 방향으로의 종단면이 직사각 형상을 갖도록 가공되며, 상하 방향으로 일정한 횡단면 형상을 갖도록 가공되며,상기 오목렌즈는, 상기 광전달부로 제공될 상기 플라즈마 공정 챔버 내의 광의 입사각 범위를 수평 방향으로 확장시키고 상기 플라즈마 공정 챔버 내에 배치된 기판의 상부 영역의 광을 수집하도록, 수평 방향으로의 곡률이 상기 기판의 크기에 대응하는 광 입사각 범위를 갖도록 가공되고,상기 오목렌즈는 상기 플라즈마 공정 챔버의 서로 다른 위치에 각각 구비되고,복수 개의 상기 오목렌즈는 서로 다른 기판 크기에 대응하는 광 입사각 범위를 갖는 광학 분광 분석 장치
|
| 2 |
2
플라즈마를 발생하여 기판을 처리하는 플라즈마 공정 챔버;상기 플라즈마 공정 챔버에 마련된 투광부를 통해 상기 플라즈마 공정 챔버 내의 광을 수집하는 오목렌즈;상기 오목렌즈에 의해 수집된 광을 전달하는 광전달부; 및상기 광전달부를 통해 제공된 광을 분석하여 플라즈마 상태를 분석하는 분석부를 포함하고,상기 오목렌즈는, 상기 투광부의 외측에 설치되어 상기 플라즈마 공정 챔버의 내부로부터 상기 투광부를 통과한 광이 입사되고, 상기 플라즈마 공정 챔버 내의 광 중에서 상기 플라즈마 공정 챔버 내에 배치된 기판의 상부면 상의 광을 수집하도록, 수평 방향으로의 곡률이 상하 방향으로의 곡률보다 큰 구조를 가지며,상기 오목렌즈는, 수평 방향으로의 횡단면이 오목한 형상을 갖도록 가공되고, 상하 방향으로의 종단면이 직사각 형상을 갖도록 가공되며, 상하 방향으로 일정한 횡단면 형상을 갖도록 가공되며,상기 오목렌즈는, 상기 광전달부로 제공될 상기 플라즈마 공정 챔버 내의 광의 입사각 범위를 수평 방향으로 확장시키고 상기 플라즈마 공정 챔버 내에 배치된 기판의 상부 영역의 광을 수집하도록, 수평 방향으로의 곡률이 상기 기판의 크기에 대응하는 광 입사각 범위를 갖도록 가공되고,상기 오목렌즈는 상기 플라즈마 공정 챔버의 서로 다른 위치에 각각 구비되고,복수 개의 상기 오목렌즈는 서로 다른 기판 크기에 대응하는 광 입사각 범위를 갖는 플라즈마 처리 장치
|
