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표면처리된 섬유의 제조방법으로서,반응기에 섬유를 장입하는 단계;상기 반응기에 장입된 상기 섬유를 전처리하는 단계; 상기 반응기에 반응물질을 도입하는 단계; 및상기 반응기에 방사선을 조사하여 표면처리하는 단계;를 포함하고,상기 반응물질은, N2, O2, O3, HCl, HF, Cl2, NaOCl, NH3 및 TEDA(Triethylenediamine)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것이고,상기 반응물질을 도입하는 단계는, 상기 반응물질을 반응기체 형태로 도입하거나 상기 반응물질을 포함하는 반응용액을 분무하는 것이고,상기 표면처리된 섬유의 제조방법은 비진공 오픈 시스템에서 수행되는 것인,표면처리된 섬유의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 장입하는 단계에서, 상기 섬유는, 활성탄소섬유인 것이고,상기 활성탄소섬유는, 셀룰로오스계 섬유, 아크릴계 섬유, 레이온계 섬유, 옥시팬계, 페놀수지계 섬유 및 피치계 섬유로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 전구체를 이용하여 제조된 것인,표면처리된 섬유의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 장입하는 단계에서, 상기 섬유는, 천연섬유, 인조섬유, 직조직물, 부직포 및 가공직물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인,표면처리된 섬유의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 전처리하는 단계는, 상기 반응기에 장입된 상기 섬유를 탈착 또는 표면 세척하는 것인,표면처리된 섬유의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 반응물질은, 금속 용액을 더 포함하는 것이고,상기 금속 용액은, Cu, Zn, Ag, Mo 및 이들의 이온으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인,표면처리된 섬유의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 반응기체는, 10 ppm 내지 10 부피%이고,상기 반응용액의 농도는 1 중량% 내지 70 중량%인 것인,표면처리된 섬유의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 방사선은, 감마선, 전자선 및 X선으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인,표면처리된 섬유의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 표면처리하는 단계는, 상기 섬유에 상기 방사선을 10 KGy 내지 1000 KGy 조사하는 것인,표면처리된 섬유의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 표면처리된 섬유의 제조방법은 연속공정 시스템에서 수행되는 것인,표면처리된 섬유의 제조방법
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평량이 50 g/m2 내지 300 g/m2이되,제1항 내지 제8항 및 제10항 중 어느 하나의 제조방법으로 표면처리된 것인,표면처리된 섬유
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제11항에 있어서,상기 표면처리된 섬유는, 상기 섬유 0
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제11항에 있어서,상기 표면처리된 섬유는, 비표면적이 1000 m2/g 내지 1800 m2/g인 것인,표면처리된 섬유
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제11항의 표면처리된 섬유를 이용하여 직조된, 보호의
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제15항에 있어서,겉감, 안감, 및 상기 겉감과 안감 사이에 위치하는 상기 표면처리된 섬유를 포함하고,상기 겉감 및 안감은, 각각, 면, 나일론, 폴리에스테르, 아크릴 및 폴리우레탄으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인,보호의
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제11항의 표면처리된 섬유를 이용하는 충진 재료를 포함하는,가스 여과기
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