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중공형 메조포러스 실리카 입자를 제조하는 단계;상기 중공형 메조포러스 실리카 입자의 표면을 알콕시 실란(alkoxysilane)을 이용하여 아민기로 개질하는 단계;유기 극성 용매에 방향족 다이안하이드라이드(dianhydride)와 방향족 다이아민(diamine)을 반응시켜 폴리아믹산(Polyamic Acid) 전구체를 합성하는 단계;상기 표면이 아민기로 개질된 중공형 메조포러스 실리카 입자를 상기 폴리아믹산 전구체에 도입하여 혼성 전구체를 제조하는 단계;상기 혼성 전구체에 이미드화 반응을 진행하여 표면이 아민기로 개질된 중공형 메조포러스 실리카 입자가 포함된 폴리이미드 젤(gel)을 제조하는 단계;상기 극성 용매를 비극성 용매로 치환하는 단계; 및상기 폴리이미드 젤을 동결건조하여 제로젤 분리막을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면이 아민기로 개질된 중공형 메조포러스 실리카 입자를 포함한 폴리이미드 제로젤 분리막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 알콕시 실란은 3-아미도프로필트리메톡시실란(APTMS) 또는 3-아미노프로필트리에톡시실란(APTES)인 것을 특징으로 하는 표면이 아민기로 개질된 중공형 메조포러스 실리카 입자를 포함한 폴리이미드 제로젤 분리막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 방향족 다이안하이드라이드는 3,3',4,4'-바이페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA), 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물(BTDA), 피로멜리트산 이무수물(PMDA), 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA), 4,4'-옥시디프탈산 이무수물(ODPA) 및 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복실산 이무수물(DSDA)로 이루어진 군에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 표면이 아민기로 개질된 중공형 메조포러스 실리카 입자를 포함한 폴리이미드 제로젤 분리막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 방향족 다이아민은 4,4'-옥시다이아닐린(4,4'-ODA), 2,2'-비스(3-아미노-4-하이드록시페닐)-헥사플루오로프로판(AHHFP), 3,4'-옥시다이아닐린(3,4'-ODA), 4,4'-설포닐다이아닐린(4,4'-DDS), 1,4-페닐렌 다이아민(1,4-PDA), 다이아미노페닐메탄(MDA) 및 2,2'-다이메틸벤지딘(DMBZ)로 이루어진 군에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 표면이 아민기로 개질된 중공형 메조포러스 실리카 입자를 포함한 폴리이미드 제로젤 분리막의 제조방법
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제1항 내지 제4항 중 어느 하나의 항에 기재된 제조방법으로 제조된 표면이 아민기로 개질된 중공형 메조포러스 실리카 입자를 포함한 폴리이미드 제로젤 분리막
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