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분말투입구 및 분말투입구와 일정 거리 이격되어 배치되는 분말배출구를 포함하는 본체케이스;상기 본체케이스의 내부에서 상기 분말투입구 및 분말배출구의 사이에 배치되며, 상기 분말투입구로부터 투입되는 분말을 수용하는 복수의 플라즈마발생공간을 포함하는 분말이송모듈; 및상기 본체케이스의 저면부에 배치되어 상기 분말이송모듈 및 상기 본체케이스를 진동시키는 바이브레이터를 포함하고,상기 분말투입구를 통해 투입된 분말은 상기 복수의 플라즈마발생공간으로 공급되어 플라즈마로 표면처리되면서 상기 바이브레이터의 진동에 의해 상기 분말배출구 방향으로 이동하는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리장치
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제1항에 있어서,상기 분말이송모듈은,유전층;상기 유전층의 제1 면에 면접하여 일정 간격으로 배열되고, 서로 이격된 간격 내에 상기 플라즈마발생공간을 형성하며, 상기 분말투입구로부터 상기 분말배출구를 향해 연장되는 막대 형상의 복수의 제1 전극;상기 유전층의 제2 면에 면접하여 배치되는 제2 전극; 및상기 플라즈마발생공간에 플라즈마가 발생되도록 상기 복수의 제1 전극 및 상기 제2 전극에 전압을 인가하는 전원공급장치를 포함하는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리장치
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제2항에 있어서,상기 분말투입구는 분말의 저장 및 공급이 가능한 호퍼 구조로 이루어지는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리장치
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제3항에 있어서,상기 호퍼는 상기 제1 전극에 수직하도록 상기 본체케이스의 상단부에 배치되고,상기 분말이송모듈은 상기 복수의 제1 전극의 일단부가 상기 호퍼의 아래에서 상기 호퍼의 출구에 노출되며,상기 바이브레이터에 의해 상기 본체케이스가 진동하면 상기 호퍼 내에 저장된 분말은 유동하면서 점차 낙하되어 상기 복수의 제1 전극의 노출된 일단부에서 플라즈마발생공간으로 공급되는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리장치
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제2항에 있어서,상기 호퍼 내부로 기체를 주입하는 기체주입부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리장치
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제5항에 있어서,상기 기체주입부는 상기 호퍼의 측면부에 위치하여 상기 호퍼 내에 저장된 분말을 향해 기체가 주입되도록 구성되는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리장치
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제4항에 있어서,상기 분말이송모듈은 상기 복수의 제1 전극을 덮어서 상기 플라즈마발생공간의 상부를 밀폐하는 제1 절연체를 더 포함하고,상기 제1 절연체는 상기 복수의 제1 전극의 일단부가 상기 호퍼의 아래에서 상기 호퍼의 출구에 노출되도록 상기 복수의 제1 전극의 일부를 덮는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리장치
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제7항에 있어서,상기 분말이송모듈은 상기 제2 전극의 위치에 구비되는 제2 절연체를 더 포함하고,상기 제2 절연체는 상기 제2 전극을 수용하고 냉각유체가 공급 또는 순환하는 냉각유체통로를 포함하는 것을 특징으로 하는, 분말 플라즈마 처리장치
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제1항에 있어서,상기 분말이송모듈은,제1 유전층;상기 제1 유전층의 상면에 면접하여 일정 간격으로 배열되고, 서로 이격된 간격 내에 상기 플라즈마발생공간을 형성하고, 상기 분말투입구로부터 상기 분말배출구를 향해 연장되는 막대 형상의 복수의 제1 전극;상기 복수의 제1 전극을 기준으로 상기 제1 유전층의 반대측에 배치되어 상기 제1 유전층과 함께 상기 복수의 제1 전극 및 상기 복수의 플라즈마발생공간을 샌드위치 형태로 덮는 제2 유전층;상기 제1 유전층을 덮는 제2 전극; 상기 제2 유전층을 덮는 제3 전극; 및상기 플라즈마발생공간에 플라즈마가 발생되도록 상기 복수의 제1 전극과 상기 제2 전극 또는 제3 전극에 전압을 인가하는 전원공급장치를 포함하는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리장치
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제9항에 있어서,상기 분말투입구는 분말의 저장 및 공급이 가능한 호퍼 구조로 이루어지는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리장치
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제10항에 있어서,상기 호퍼는 상기 제1 전극에 수직하도록 상기 본체케이스의 상단부에 배치되고,상기 복수의 제1 전극의 일단부는 상기 호퍼의 아래에 위치하도록 배치되며,상기 제2 유전층 및 상기 제3 전극은 상기 제1 전극의 길이방향에 평행한 일측 길이방향이 상기 제1 전극의 길이보다 짧게 형성되어 상기 제1 전극이 일단부가 상기 호퍼의 출구에 노출되도록 하고,상기 바이브레이터에 의해 상기 본체케이스가 진동하면 상기 호퍼 내에 저장된 분말은 유동하면서 점차 낙하되어 상기 복수의 제1 전극의 노출된 일단부에서 플라즈마발생공간으로 공급되는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리장치
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제10항에 있어서,상기 호퍼 내부로 기체를 주입하는 기체주입부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리장치
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제12항에 있어서,상기 기체주입부는 상기 호퍼의 측면부에 위치하여 상기 호퍼 내에 저장된 분말을 향해 기체가 주입되도록 구성되는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리장치
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제9항에 있어서,상기 분말이송모듈은 상기 제2 전극 및 제3 전극의 위치에 구비되는 제1 절연체 및 제2 절연체를 더 포함하고,상기 제1 절연체는 상기 제2 전극을 수용하고 냉각유체가 공급 또는 순환하는 제1 냉각유체통로를 포함하고,상기 제2 절연체는 상기 제3 전극을 수용하고 냉각유체가 공급 또는 순환하는 제2 냉각유체통로를 포함하고,상기 제2 절연체는 상기 제1 전극의 일단부가 상기 호퍼의 출구에 노출되도록 상기 제1 전극의 길이방향에 평행한 일측 길이방향이 상기 제1 전극의 길이보다 짧게 형성되는 것을 특징으로 하는,분말 플라즈마 처리장치
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