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유해가스경로에 구비되어 플라즈마 반응으로 발생되는 플라즈마 오존과 유해가스에 포함된 암모니아를 1차 반응시켜 제1 암모니아 제거물질을 생성함으로써 유해가스에 포함된 암모니아를 1차적으로 제거하는 제1 반응부, 그리고상기 제1 반응부에서 생성된 제1 암모니아 제거물질과 상기 제1 반응부에서 미반응된 암모니아를 2차 반응시켜 제2 암모니아 제거물질을 생성함으로써 2차적으로 암모니아를 제거하는 제2 반응부를 포함하는 플라즈마를 이용한 유해가스 처리장치
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제1항에서,상기 제1 반응부는 상기 유해가스경로에서 유해가스의 입구와 출구를 갖고 구비되며, 내부에서 유해가스와 플라즈마 반응기체의 반응공간을 갖는 반응챔버,상기 반응챔버 내부에 구비되어 방전공간을 갖고 플라즈마 방전을 발생하는 플라즈마 전극, 그리고상기 플라즈마 전극 주변에 대응하여 상기 반응챔버의 내부와 상기 플라즈마 반응기체의 공급경로를 연결하는 위치에 구비되며, 상기 반응챔버 내부로 플라즈마 반응기체의 공급을 안내하는 주입부를 포함하는 플라즈마를 이용한 유해가스 처리장치
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제1항에서,상기 제1 암모니아 제거물질은 이산화질소(NO2) 또는 이산화황(SO2) 중 1종 이상을 포함하는 플라즈마를 이용한 유해가스 처리장치
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제1항에서,상기 제2 암모니아 제거물질은 질산암모늄(NH4NO3) 또는 황산암모늄((NH4)2SO4) 중 1종 이상을 포함하는 플라즈마를 이용한 유해가스 처리장치
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제4항에서,상기 제2 암모니아 제거물질을 물로 용해하고, 용해된 상기 제2 암모니아 제거물질을 공급받아 처리하는 비료 정제장치를 더 포함하는 플라즈마를 이용한 유해가스 처리장치
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유해가스경로에 구비되는 제1 반응부에서 플라즈마 반응으로 발생되는 플라즈마 오존과 유해가스에 포함된 암모니아를 1차 반응시켜 제1 암모니아 제거물질을 생성함으로써 유해가스에 포함된 암모니아를 1차적으로 제거하는 제1 암모니아 제거단계, 그리고상기 제1 암모니아 제거단계에서 생성된 제1 암모니아 제거물질과 상기 제1 반응부에서 미반응된 암모니아를 제2 반응부에서 2차 반응시켜 제2 암모니아 제거물질을 생성함으로써 2차적으로 암모니아를 제거하는 제2 암모니아 제거단계를 포함하는 플라즈마를 이용한 유해가스 처리방법
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제6항에서,상기 제1 암모니아 제거물질은 이산화질소(NO2) 또는 이산화황(SO2) 중 1종 이상을 포함하는 플라즈마를 이용한 유해가스 처리방법
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제6항에서,상기 제2 암모니아 제거물질은 질산암모늄(NH4NO3) 또는 황산암모늄((NH4)2SO4) 중 1종 이상을 포함하는 플라즈마를 이용한 유해가스 처리방법
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제8항에서,상기 제2 암모니아 제거단계에서 생성된 상기 제2 암모니아 제거물질을 물로 용해하여 외부로 배출하는 용해단계를 더 포함하는 플라즈마를 이용한 유해가스 처리방법
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제9항에서,상기 용해단계에서 용해된 상기 제2 암모니아 제거물질을 비료 정제장치로 공급하는 비료 처리단계를 더 포함하는 플라즈마를 이용한 유해가스 처리방법
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