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수차(aberration)에 의한 형태를 구현하여, 입사되는 빛을 반사시키는 적응소자(adaptive element);상기 적응소자에 의해 반사된 빛을 취득하는 카메라 장치(camera); 및상기 적응소자를 제어하여 각기 상이한 수차에 의한 형태를 구현하되, 상기 카메라 장치를 통해 획득되는 연속된 이미지를 메트릭(image quality metric)값으로 계산하고 이를 이용하여 왜곡된 파면(wave-front)을 추정하여 보정값을 연산하여 상기 적응소자로 전송하는 제어수단;을 포함하며,상기 제어수단은하기의 수식을 이용하여 각기 상이한 수차에 의한 형태를 구현하기 위한 이미지를 생성하고,최초 발생한 수차(initial aberration) 및 최초 발생한 수차 이후에 발생한 수차들의 각기의 크기와 종류에 따른 엔트로피(entropy), 세컨드 모멘트(second moment), 광강도 편차(intensity variance) 및 선명도(sharpness)의 메트릭값을 계산하고, 이를 정규화(normalization)하고 가우시안 피팅(gaussian fitting)을 수행하여 최대값을 산출하며,계산한 상기 메트릭값의 반치전폭(FWHM, Full Width at Half Maximum)과 최초 발생한 수차와의 오차를 계산하여 반치전폭의 최소값과 최소오차를 산출하여 해당하는 상기 메트릭값을 상기 적응소자의 보정값으로 선정하는 것을 특징으로 하는 센서리스 적응광학 시스템
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제 1항에 있어서,상기 제어수단은최초 발생한 수차(initial aberration)의 크기와 종류에 따라, 제르니케 다항식(Zernike polynomial), 루코츠 다항식(Lukosz polynomial)을 이용하여, 수차의 형태를 발생시켜 이를 상기 적응소자에 구현시키는 것을 특징으로 하는 센서리스 적응광학 시스템
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제 3항에 있어서,상기 제어수단은최초 발생한 수차 이후에 발생한 수차들의 각각의 크기와 종류에 따라, 제르니케 다항식, 루코츠 다항식을 이용하여, 수차의 형태를 발생시켜 이를 상기 적응소자에 구현시키는 것을 특징으로 하는 센서리스 적응광학 시스템
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레이저 빔을 조사하는 레이저 광원; 및제 1항, 제 3항 및 제 6항 중 선택되는 한 항에 의한 센서리스 적응광학 시스템을 적용하여, 상기 레이저 광원에서 조사되는 상기 레이저 빔의 형태 및 사이즈를 가변시키는 제어수단;을 포함하여 구성되는 이미지 장치
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제 8항에 있어서,상기 이미지 장치는레이저 광학 모듈, 천체 망원경 모듈, 시과학(vision science) 모듈, 광학 현미경 모듈 및 반도체 공정 모듈 중 선택되는 하나인 것을 특징으로 하는 이미지 장치
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광 수신부;광 송신부; 및제 1항, 제 3항 및 제 6항 중 선택되는 한 항에 의한 센서리스 적응광학 시스템을 적용하여, 상기 광 수신부에서 수신된 광을 분석하여 상기 광 송신부에서 송신되는 광을 제어하는 제어수단;을 포함하여 구성되는 통신 장치
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제 10항에 있어서,상기 통신 장치는자유공간 광학 통신(Free space optical communications) 모듈인 것을 특징으로 하는 통신 장치
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