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금속 입자가 담지된 무기실리카 입자의 표면에 다공성 유기실리카 층을 코팅하는 단계; 및상기 무기실리카를 선택적 에칭하는 단계를 포함하고, 상기 금속 입자가 담지된 무기실리카 입자는,무기실리카 입자의 표면이 금속친화성 작용기로 개질된 무기실리카 입자를 준비하는 단계;상기 금속친화성 작용기에 금속 입자를 부착시켜 금속 입자가 부착된 무기실리카 입자를 형성하는 단계; 및상기 금속 입자가 부착된 무기실리카 입자 위에 무기실리카 층을 코팅하는 단계를 포함하는 방법에 의해 제조됨을 특징으로 하는,금속 입자가 담지된 메조다공성 중공형 유기실리카 나노입자 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 무기실리카 입자 내에 자성 나노입자를 포함하는,금속 입자가 담지된 메조다공성 중공형 유기실리카 나노입자 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금속친화성 작용기는 아민기 및 티올기(thiol)기 중 어느 하나임을 특징으로 하는,금속 입자가 담지된 메조다공성 중공형 유기실리카 나노입자 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 무기실리카는 TEOS(Tetraethyl orthosilicate)로부터 합성됨을 특징으로 하는,금속 입자가 담지된 메조다공성 중공형 유기실리카 나노입자 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금속친화성 작용기는 APTMS((3-Aminopropyl)trimethoxysilane), APTES((3-Aminoprophyl)triethoxysilane), MPTMS((3-Mercaptopropyl)trimethoxysilane) 및 MPTES((3-Mercaptopropyl)trimethoxysilane) 중 선택된 어느 하나로부터 도입됨을 특징으로 하는,금속 입자가 담지된 메조다공성 중공형 유기실리카 나노입자 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금속 입자가 부착된 무기실리카 입자 위에 무기실리카 층을 코팅하는 단계는,상기 금속 입자를 전부 덮도록 코팅함을 포함하는,금속 입자가 담지된 메조다공성 중공형 유기실리카 나노입자 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 다공성 유기실리카 층은 열린 기공(open pore)을 갖는 것을 특징으로 하는,금속 입자가 담지된 메조다공성 중공형 유기실리카 나노입자 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 다공성 유기실리카 층의 코팅은 유기실리카전구체와 계면활성제의 혼합 용액으로부터 합성됨을 특징으로 하는,금속 입자가 담지된 메조다공성 중공형 유기실리카 나노입자 제조 방법
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제9항에 있어서,상기 유기실리카전구체는 BTSE(bis(triethoxysilyl)ethane), BTSEY(bis(triethoxysilyl)ethylene), BTES(Bis-[3-(triethoxysilyl)tetrasulfide]), BTEB(Bis(triethoxysilyl)phenylene) 및 BTEBP(Bis(triethoxysilyl)-biphenyl) 중 어느 하나 이상임을 특징으로 하는,금속 입자가 담지된 메조다공성 중공형 유기실리카 나노입자 제조 방법
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제9항에 있어서,상기 계면활성제는 CTAB(hexadecyltrimethylammonium bromide) 및 CTAC(Cetyltrimethylammonium chloride) 중 어느 하나임을 특징으로 하는,금속 입자가 담지된 메조다공성 중공형 유기실리카 나노입자 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 선택적 에칭은 수용액 내에서 가열함을 포함하는,금속 입자가 담지된 메조다공성 중공형 유기실리카 나노입자 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 선택적 에칭은 염기성 수용액 내에서 가열함을 포함하는,금속 입자가 담지된 메조다공성 중공형 유기실리카 나노입자 제조 방법
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제13항에 있어서,상기 염기성 수용액에서 염기성 성분은 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화테트라메틸암모늄, 암모니아, 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 탄산칼륨 및 탄산수소칼륨으로부터 선택된 것을 특징으로 하는, 금속 입자가 담지된 메조다공성 중공형 유기실리카 나노입자 제조 방법
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제1항에 따른 방법으로 제조되고,상기 금속 입자가 부착된 무기실리카 입자를 형성하는 단계에서 2종 이상이거나 큐브(cube), 로드(rod) 또는 케이지(cage)형태의 금속 입자를 부착하는 단계를 포함하여 제조된,금속 입자가 담지된 메조다공성 중공형 유기실리카 나노입자
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