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내부에 샘플이 수용되며, 제1영역과 제2영역으로 구분되는 샘플용기;상기 샘플용기 주변에 설치되어 상기 샘플용기를 가열하며, 상기 샘플용기의 제1영역과 제2영역의 온도를 각각 조절하는 제1히터부 및 제2히터부로 이루어진 히터수단;상기 샘플용기 주변에 설치되어 상기 샘플용기를 냉각하며, 상기 샘플용기의 제1영역과 제2영역의 온도를 각각 조절하는 제1냉각부 및 제2냉각부로 이루어지는 냉각수단;상기 샘플용기의 양단부와 제1밸브 및 제2밸브로 각각 연결된 펌핑라인이 형성되어 상기 샘플용기 내부를 진공상태로 유지시키고, 상기 샘플용기 내부의 배기 방향을 변경하는 펌핑수단;을 포함하고,상기 제2냉각부가 작동될 때에는 상기 제2밸브가 열리고, 상기 제1히터부가 작동되어 진공 배기 방향을 따라 상기 샘플용기의 제1영역에서 제2영역으로 증발된 샘플이 이동하여 증착되고,상기 제1냉각부가 작동될 때에는 상기 제1밸브가 열리면서 상기 진공 배기 방향이 변경되고, 상기 제2히터부가 작동되어 상기 샘플용기의 제2영역에서 제1영역으로 증발된 샘플이 이동하여 증착되는 과정이 교대로 이루어지는 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 장시간 열안정성 평가를 위한 열처리 장치
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제 1항에 있어서, 상기 샘플용기의 내부에는,상기 제1영역과 제2영역의 경계에 오리피스(orifice) 플레이트가 형성되어 증발된 샘플의 분출(effusion)을 통해 상기 제1영역 또는 제2영역에 증발된 샘플이 증착되는 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 장시간 열안정성 평가를 위한 열처리 장치
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제 2항에 있어서, 상기 오리피스 플레이트는,상기 샘플용기와 연결된 보관부에 배치되어 상기 샘플용기 내부로 이송되도록 형성된 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 장시간 열안정성 평가를 위한 열처리 장치
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제 1항에 있어서, 상기 샘플용기는,원통형 구조로 형성되며, 쿼츠(quartz) 튜브 또는 서스(SUS) 튜브로 형성된 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 장시간 열안정성 평가를 위한 열처리 장치
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제 1항에 있어서, 상기 히터수단은,상기 제1영역의 온도를 조절하는 제1히터부와, 상기 제2영역의 온도를 조절하는 제2히터부로 구현되며,상기 제1히터부는 상기 제1영역의 중심부보다 경계부의 위치에서 보다 더 조밀한 히팅요소가 구현되고,상기 제2히터부는 상기 제2영역의 중심부보다 경계부의 위치에서 보다 더 조밀한 히팅요소가 구현된 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 장시간 열안정성 평가를 위한 열처리 장치
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제 5항에 있어서, 상기 히터수단은,상기 제1히터부 및 제2히터부 사이에 형성되며, 상기 샘플용기의 제1영역과 제2영역 경계부의 온도를 조절하기 위한 제3히터부가 더 구현되는 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 장시간 열안정성 평가를 위한 열처리 장치
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제 6항에 있어서, 상기 제3히터부의 히팅요소는,상기 제1히터부 및 제2히터부의 히팅요소보다 상대적으로 더 조밀한 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 장시간 열안정성 평가를 위한 열처리 장치
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제 6항에 있어서, 상기 제3히터부는 열안정성 평가를 위한 열처리동안 항상 작동되는 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 장시간 열안정성 평가를 위한 열처리 장치
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제 1항에 있어서, 상기 냉각수단은,상기 제1영역의 온도를 조절하고 상기 제1히터부에 대응되는 제1냉각부와, 상기 제2영역의 온도를 조절하고, 상기 제2히터부에 대응되는 제2냉각부로 형성되는 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 장시간 열안정성 평가를 위한 열처리 장치
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제 9항에 있어서, 상기 제1히터부 및 제1냉각부 또는 상기 제2히터부 및 제2냉각부는 더블 쟈켓(double jacket) 구조로 일체로 형성되거나, 열전소자(thermoelectric device)로 형성되어 히팅 및 쿨링을 반복수행할 수 있는 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 장시간 열안정성 평가를 위한 열처리 장치
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제 1항에 있어서, 상기 펌핑수단의 펌핑라인은,상기 샘플용기의 양단부와 상기 제1밸브 및 제2밸브로 각각 연결되고 하나의 진공펌프와 연결되는 3way 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 장시간 열안정성 평가를 위한 열처리 장치
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제 1항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 히터수단에 의해 가열되는 샘플용기 내부의 온도는,재료의 증착 온도 또는 분해 온도보다 높은 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 장시간 열안정성 평가를 위한 열처리 장치
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13
내부에 샘플이 수용되며, 제1영역과 제2영역으로 구분되는 샘플용기;상기 샘플용기 주변에 설치되어 상기 샘플용기를 가열하며, 상기 샘플용기의 제1영역과 제2영역의 온도를 각각 조절하는 제1히터부 및 제2히터부로 이루어진 히터수단;상기 샘플용기 주변에 설치되어 상기 샘플용기를 냉각하며, 상기 샘플용기의 제1영역과 제2영역의 온도를 각각 조절하는 제1냉각부 및 제2냉각부로 이루어지는 냉각수단;상기 샘플용기의 양단부와 제1밸브 및 제2밸브로 각각 연결된 펌핑라인이 형성되어 상기 샘플용기 내부를 진공상태로 유지시키고, 상기 샘플용기 내부의 진공 배기 방향을 변경하는 펌핑수단;을 포함하고,상기 제2냉각부가 작동될 때에는 상기 제2밸브가 열리고, 상기 제1히터부가 작동되어 진공 배기 방향을 따라 상기 샘플용기의 제1영역에서 상기 샘플용기의 제2영역으로 증발된 샘플이 이동하여 증착되고,상기 제1냉각부가 작동될 때에는 상기 제1밸브가 열리면서 상기 진공 배기 방향이 변경되고, 상기 제2히터부가 작동되어 상기 샘플용기의 제2영역에서 상기 샘플용기의 제1영역으로 증발된 샘플이 이동하여 증착되는 과정을 반복수행할 수 있는 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 정제 장치
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제 13항에 있어서, 상기 샘플용기는,원통형 구조로 형성되며, 쿼츠(quartz) 튜브 또는 서스(SUS) 튜브로 형성된 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 정제 장치
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제 13항에 있어서, 상기 히터수단은,상기 제1영역의 온도를 조절하는 제1히터부와, 상기 제2영역의 온도를 조절하는 제2히터부로 구현되며,상기 제1히터부는 상기 제1영역의 중심부보다 경계부의 위치에서 보다 더 조밀한 히팅요소가 구현되고,상기 제2히터부는 상기 제2영역의 중심부보다 경계부의 위치에서 보다 더 조밀한 히팅요소가 구현된 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 정제 장치
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제 13항에 있어서, 상기 냉각수단은,상기 제1영역의 온도를 조절하고 상기 제1히터부에 대응되는 제1냉각부와, 상기 제2영역의 온도를 조절하고, 상기 제2히터부에 대응되는 제2냉각부로 형성되는 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 정제 장치
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제 16항에 있어서, 상기 제1히터부 및 제1냉각부 또는 제2히터부 및 제2냉각부는 더블 쟈켓(double jacket) 구조로 일체로 형성되거나, 열전소자(thermoelectric device)로 형성되어 히팅 및 쿨링을 반복수행할 수 있는 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 정제 장치
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제 13항에 있어서, 상기 펌핑수단의 펌핑라인은,상기 샘플용기의 양단부와 상기 제1밸브 및 제2밸브로 각각 연결되고 하나의 진공펌프와 연결되는 3way 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 정제 장치
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제 13항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 히터수단에 의해 가열되는 샘플용기 내부의 온도는,상기 재료의 증착 온도 또는 분해 온도보다 낮은 것을 특징으로 하는 OLED용 재료의 정제 장치
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